• 沒有找到結果。

新程式對於成本影響之概估

第五章 研究結果之探討

6.2 新程式對於成本影響之概估

6.2 新程式對於成本影響之概估

C3F8 氣體每公斤價格為 3,180 元台幣比 SF6氣體每公斤價格為 1,072 元台幣貴了 2,108 元台幣,但是在製成的用量上每片經推算 C3F8

為 200sccm 而 SF6卻高達 630sccm,經換算成重量單位則 C3F8為 1.68 × 10-3 Kg/wafer;SF6為 4.11 × 10-3 Kg/wafer,因此新舊程式的生產成本 如下表所示:

$Price (kg) kg/wafer $/ wafer

C3F8 3180 1.68x10E-3 5.3

SF6 1072 4.11x10E-3 4.4

表 22. 新舊程式每片生產成本比較

整體來說使用 C3F8之製程的成本比使用 SF6之製程的成本每片 wafer 高出約 0.9 元台幣,若以每月生產五萬片次來估,則每個月生產 成本高出約 4,5000 ~ 50,000 元台幣,對一個六吋晶圓廠的變動成本花 費來說應該是不算高。

雖然,PFC 破壞技術是環保問題轉價的技術,但以技術成熟度和 操作維修成本而言,目前是最可被半導體工廠使用的技術;PFC 燃燒 處理設備已有市售產品,唯其在燃燒過程中所產生之酸氣和微粒,需 以大量之洗滌水加以濾除,因此局部處理設備如何省水、減少設備體 積及降低操作維護成本仍有待努力。電漿技術可有效節省能源及處理 PFC,似乎也是一個很好的機會。但整體而言,這些都是後處理技術 只能應急 5-7 年。

因此,從另外一個角度來看,若因為這樣的成本考量而捨棄替代 製程氣體這類的方案來進行 PFC 減量計畫,則通常會以採用設置製程

尾氣處理設備的方式來進行,對於設置這類設備的資產投資花費通常 會在四到五百萬元不等,長期來說成本可被折舊攤提,但是這些設備 的運轉費用(水、電、氣..等)、維護的人力費用與維護的成本花費隨著 生產的持續也將一直伴隨且其每個月的花費應該不比 4,5000 ~ 50,000 元台幣低;而對於能源的耗用對環保的立場來說等於造成另外一個負 面的議題。

透過這個研究的成功經驗,期許能啟發業界除了在科技精進為人 類帶來更好更便利的物質生活的同時,也能為我們唯一賴以生存的地 球的環境保護問題傷害降到最低,藉著製程替代物質領域的研究與實 務應用,以治本的方法達到這樣的目的才是最好的選擇。

參考文獻

1. 何舜琴, 京都議定書生效後整體策略方向, 2005 全國能源會議, 2005 年 6 月 2. 呂慶慧, 產業首次與政府單位簽定溫室氣體排放減量合作備忘錄, 聯合國氣候變

化綱要公約資訊報導, 第四十一期, 第 10~14 頁

3. 黃正忠, 莫冬立譯(2005), 溫室氣體盤查議訂書-企業會計與報告標準(The Greenhouse Gas Protocal), 94 年第二版

4. 紀國鐘, 鄭晃忠, 液晶顯示器技術手冊, 經濟部技術處發行, 台灣電子材料與元 件協會出版, 民國 92 年

5. 經濟部工業局, 溫室效應氣體盤查減量宣導手冊, 2004 年

6. 財團法人中華民國永續發展協會, 溫室氣體減量投資基礎分析, 2002

7. 莫冬立, 劉國棟, 溫室氣體盤查議定書(GHG Protocal)的發展與應用, 工意污染防 治, 第八十八期, 2003 年 10 月

8. 李堅明, 京都議定書生效後台灣二氧化碳減量整體因應策略, 2005 全國能源會議, 2005 年 6 月

9. 顧洋, 溫室氣體查核機制與 ISO 標準規範介紹, 工安環保報導, 第二十六期, 2005 年 9 月

10. John H.S., Spyros N. P., Atmospheric Chemistry and Physics, Air Pollution to Climate Change, a Wiley-interscience publication 1997

11. Marinelli L., Worth W., A white paper on Science, Policies and Control Technologies that Impact the U. S. Semiconductor Industry, Technology Transfer #93112074A-TR SEMATECH, 1994

12. Brown R. S., Joseph A. Rossin, Kenneth A., PFC Emission Control, Solid State Technology, 2001

13. 周崇光, 積體電路製程尾氣控制技術之應用與發展, 環安中心論文集, 工業技術 研究院, 2004

14. 劉有台, 鄭淑惠, 噴射式電漿(Plasma Jet)處理含氟有害廢氣技術應用, 台灣半導 體產業協會簡訊專文, 2001

15. 鄭瑞祥, 游生任, 李壽南, 王光聖, TFT-LCD 產業 PFCs 排放減量現況評估, 中文 半導體技術雜誌, 2002 年

16. Ching-Huei Leu, Horng-Guang Leu, Yi-Lin Wu, Harry-Liao, Shou-Nan Li, PFCs Emissions Abatement for TFT-LCD Industry in Taiwan, Earth Technologies Forum Conference Washington, D. C. , April 2002

17. 行政院環境保護署, 全氟化物 PFCs 排放減量防制技術手冊, 2004 年

18. Shou-Nan Li, Jung-Nan Hsu, Hue-Ya Shih, Shu-Jen Lin, Jeng-Liang Hong, FTIR spectrometers measure scrubber abatement efficiencies, Solid State Technology July, 2002

19. 光電及半導體溫室氣體排放減量技術研習會, 2004 年 8 月

20. 李曼君, 以電漿結合觸媒破壞去除 NF3 之初步研究, 國立中央大學環境工程研究 所, 2004 年 1 月

21. 呂榮峰, 吳關佑, 張木彬, 半導體製程之全氟化物控制技術, 國立中央大學環境 工程學刊, 第八期, 91 年

22. 葉安晉, 白曛綾, 以氨水洗滌去除二氧化碳溫室氣體之可行性研究, 國立交通大 學環境工程研究所博士論文, 2000 年 7 月

23. 林俊成, 森林碳交易市場的潛在賣方, 聯合國氣候變化綱要公約資訊報導, 第四 十三期

24. 李堅明, 高全球暖化潛勢溫室氣體之減量潛力分析, 臭氧層資訊保護站, 2004 25. 余榮彬, 全球半導體工業全氟化物排放減量蒙特利會議報告, 1998

26. 呂鴻光, 溫室氣體增加之影響及對策探討, 企業永續發展協會, 民國 93 年 3 月 31 日

27. 呂慶慧, 全球半導體產業 PFCs 排放減量現況技術報導, 簡訊專文 10 月號, 台灣 半導體產業協會, 2006

28. 行政院主計處, 溫室氣體減量概況, 行政院主計處, 民國 95 年 6 月

29. 許志義, 論全球溫室效應議題與因應對策 , 經濟情勢暨評論季刊第二卷第四期, 經濟部, 民國八十六年二月

30. Gerhard Spitzlsperger, Andreas Rupp, Heike Lorenz, Recharacterization of a Tungsten etch back process with special emphasis on PFC emission reduction and throughput, Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Jenaer Strasse 1, 84034 Landshut,

31. Joe Van Gompel, “PFCs in the Semiconductor Industry: A Primer", Semiconductor International