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第一章 緒論

1.1 研究背景

近幾年來,隨著半導體產業技術不斷的進步,必須興建新廠房以應付市場與技術 的需求。投資興建新工廠時會面臨一個重要的決策,就是機台的購買數量,因為在半 導體晶圓廠中,大約有 80%的投資金額都投入在機台的購買上,故必須要讓機台發揮 最大的績效(也就是最大的產出),才可以減少購置多餘的機台。然而在生產現場中,

瓶頸機台才是決定產出的關鍵,所以要充分利用瓶頸機台的產能,才能真正增進工廠 的產量。在機台投資中,單價最高的機台為傳輸整合步進機(In-line Stepper),故在機 台的購買與生產策略的配置上,會將瓶頸機台設定為傳輸整合步進機,所以只要能夠 充分利用傳輸整合步進機,就可以減少機台的閒置,增加工廠的產能,減少不必要的 投資。

圖 1.1 為傳輸整合步進機的組態,該機台是由在製品暫存區(Buffer)、埠區(Port)

和反應室(Chamber) 所組成的流程式生產(Flow Shop),其內部大約有 20 多個反 應室所構成,生產方式會依照製程順序一個步驟緊接著下一個步驟,所以可視為流程 式生產的一種。機台設計最多會有 4 個埠區,每一個埠區一次是放置一個晶圓批

(Lot),故在埠區內的單位為晶圓批。而因為反應室一次只能加工一片晶圓(Wafer),

故在反應室內的單位為晶圓。

傳輸整合步進機的設置時間發生在曝光製程的反應室中,由於晶圓需要在該機台 加工不同的電路佈局,故晶圓會不斷反覆的進入傳輸整合步進機中加工,當加工不同 加工層時(亦即不同的電路),則需要更換光罩,大約是在 1.5 至 6 分鐘。

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圖 1.1 傳輸整合步進機的組態

傳輸整合步進機的傳輸單位有兩種:Lot 或 Wafer,如圖 1.1 所示,從在製品暫存 區到埠區的傳輸單位為 Lot;埠區到反應室為 Wafer;反應室到埠區為 Wafer;埠區到 在製品暫存區為 Lot,形成傳輸單位不一致的問題。正因為機台具有傳輸單位不一致

Lot-based Wafer-based

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圖 1.2 傳輸整合步進機 Full-lot 無產能損失範例

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過去 Wu & Chiou(2009)曾經針對小批量的情境作傳輸整合步進機的排程,以增 加工廠的產能,但並無考慮到有些晶圓批會有使用相同光罩的情形,所以將情境假設 為每一個晶圓批都不同,加工每一個晶圓批都需要更換光罩,即每一個晶圓批都需要 設置時間。然而在現實情況中,半導體工廠是一座具有迴流製程特性的工廠,故工件 會重複進入傳輸整合步進機中加工,然而每次皆為加工不同的電路佈局,在加工不同 電路佈局時才需要更換光罩;換句話說,相同的產品在同一加工層時(加工相同的電 路佈局),會使用相同光罩,故本研究將其條件考慮在內,使其更符合真實情形。

過去 Chern & Liu(2003)為研究在 DRAM 的生產情境及換光罩需要設置時間(6 分鐘)的情境下,使用 Family-based SDA 的派工法則使產出最大化。其文中提及在換 光罩需要設置時間時,使用家族式派工法則(Family-based)比使用單獨派工法則

(Individual-based)的績效更好,使產出與機台利用率更大。

家族式派工的方法為將使用相同光罩之晶圓批排序一起,如用此排序方法,可以 減少在加工時重覆更換光罩所產生多餘的設置時間,使其總完工時間越小,產出與機 台利用率越大。由於本論文也有光罩設置問題,故在研究方法中亦會納入家族式派工 的觀念,減少更換光罩的次數,其演算方法將會在第三章中詳細說明。

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