色彩系統最重要的功能,就是利用各種鍍膜技巧,將照明系統產 生的複合色光分開處理,並與成像系統相搭配,產生彩色的影像,如 圖2-1所示:
圖 2-1 投影機色彩系統 2.3 光閥系統
從照明系統投射至DMD的照明面積大小除了需完整的覆蓋DMD,還 是須要針對光溢量是否符合預期的設計來探討,光溢量的存在是為了 方便面板組裝與定位,若光溢量比我們預期的多,反而因為大多數的 光都損失,而影響到整個面板的光利用效率,相反的光溢量太少,會 影響畫面的均勻度。
11
DMD是整個成像系統中非常重要的一環,在設計成像系統時,DMD 也一定要置入光學系統中一起優化,DMD規格的改變,通常會大大影 響整體投影系統之性能表現。一般來說,投影系統最重要的就是亮度 及對比,若以元件的角度來說,通常亮度取決於燈源及積分器,而對 比度則取決於光閥特性及與投影鏡頭的搭配設計,對光閥面板來說,
對比度就決定於在各個像素在亮與暗之間,光閥可以調變的多,也就 是亮狀態要盡量亮,而暗狀態要盡量暗。
DMD的切換速度則是另一項重要影響光閥系統的因素,因為需要 用到色輪的分光技術,光閥速度需搭配紅色、綠色及藍色光場之切換 速度。在設計成像系統時,對於DMD的規格,通常我們最在意的,不 外乎DMD的尺寸、DMD的解析度及DMD的性能(對比、入光角度、顏色特 性等),一般來說,投影系統所使用的DMD,尺寸越小越便宜,小尺寸 的DMD不但降低成本,更可以讓投影系統變個更小。
2.4 成像系統
成像系統的功能就是要將光閥面板的影像投影至投影螢幕上,而 通常投影系統主要就是一個投影鏡頭,當影像的大小改變後,使用者 就需要利用對焦的功能,手動調整焦距,讓影像清楚成像在螢幕上,
多了變焦及對焦的功能,使用者將可以自由選擇投影機放置的位置,
及投影尺寸大小,更方便使用。
12
2.5 燈源(LAMP)
燈源在投影系統中提供一個穩定的光通量,在光路設計時為了讓 光通量能達到最佳效率,故需對燈源要求以下幾項重點:1.高流明效 率。2.良好的光頻及色溫。3.壽命長。4.高安全性。5.光通量輸出穩 定。6.快速暖燈。7.價格便宜。符合以上要求並運用於本實驗所使用 的為超高壓水銀燈。超高壓水銀燈(Ultra High Pressure Lamp,
UHP)屬於高亮度氣體放電燈(High Intensity Discharge Lamp,
HID)的一種,由於有高發光效率(60~70Lm/W)及高亮度
(7000~15000Lms)、於可見光區有連續頻譜及近似點光源( 1~ 3mm Arc Gap)等優點。因此應用於投影機的燈源大多採用超高壓水銀燈,
理論上充填水銀氣體壓力愈大,發光功率密度愈大且發光頻譜愈均 勻;現行超高壓水銀投射燈穩態點燈氣壓約100~200大氣壓。隨著電 弧放電功率密度增加,燈泡的熱量耗散也愈大; 因此燈反射罩通常 成型成橢球狀以加大與電弧距離[2]。一般而言光收集效率決定於電 弧(Arc)間距及相對反射罩的設計,燈弧之長短及位置是決定收斂效 率最關鍵的因素。通常燈弧的間距愈短,則愈接近於一個理想之點光 源,收集效率會愈好;當電弧有一個長度,則會產生非理想之雜散光,
並降低對比。現今使用之UHP燈之電弧間距,約介於1mm 至1.5mm 之間,這已經達到現今科技量產之極限,不太容易再縮得更短了,因
13
為通常燈弧間距愈短,其壽命也會縮短,如圖2-2所示:
圖 2-2 UHP 燈之電弧(Arc)間距
若單獨只有一個燈源,光將會向四面八方發散,造成光通量的損 失,所以通常我們都會在燈源外加上一個反射罩,一方面避免光發 散,增加光效率,一方面將光通量以各種光錐角度導向所希望的方 向,以進入所設計的光路。現今所使用的高亮度放電燈的反射罩大致 分為兩種,即拋物面形反射罩與橢球面形反射罩,本論文所使用的為 橢球面形反射罩,當我們將燈源置於橢球面反射罩時,光線經燈罩反 射後,將會產生聚焦光,如圖2-3所示:
圖 2-3 橢球面形反射罩
14
要讓投影出來的亮度更高,增加燈的亮度是最直接的方法,但通 常也必須和其他因素妥協。舉例來說,增加水銀鍍蒸氣壓力就會增加 亮度,但同時也會產生一些安全上的顧慮,為了更亮,就會將電壓增 加,但同時溫度也會跟著增加,也就必須要更大也更吵的散熱系統,
而且若溫度更高,壽命也會跟著縮短。
2.6 紫外光/紅外光的濾光片(UV-IR)
由於任何一種燈都不是只發射出於可見光頻段完美的光頻譜,其 發射光頻譜或多或少都包含紫外線(ultraviolet, UV)及紅光(infrared, IR)部分;這些可見光頻譜外的光,不但沒有用,還會對系統造成傷 害。紫外光通常會對部分的鍍膜面造成傷害,而紅外光則會產生多餘 的熱,讓系統需要多餘的散熱系統。要去除這兩種光,通常會在照明 系統中加入一片去紫外光/紅外光的濾光片(UV/IR filter),利用這一片 的鍍膜鏡片,吸收掉紫外光及紅外光的部分,只讓可見光頻譜通過,
如圖2-4所示:
15
圖 2-4 光線穿透 UV-IR 示意圖 2.7 色輪(Color Wheel)
色輪由一高速馬達與三個(或以上)不同顏色區塊的鏡片,利用 黏合方式組成,每一區塊透過鍍膜讓特定顏色的光被吸收或被反射,
使其它顏色得以通過,利用馬達讓它旋轉就可循序產生紅、藍、綠快 速交替的三色色場。馬達的轉速所影響的是各色場交替的速度,若轉 速過慢或不穩定,人眼就會發現有各色分離或顏色怪異的現象,以人 眼來說,一秒中至少要接受60 個畫面才會覺得連續,因此色輪會控 制在每分鐘7200 轉的轉速下使每秒有120組色場。以每一區塊來,一 次只能通過一種顏色的光,光平均只有三分之ㄧ的使用效率,大大浪
16
費了三分之二的光通量;因此為了提高光通量,除了紅、藍、綠之外 再劃分一透明區塊讓全部光通過,如此光效率可提升至50%,但因畫 面亮度增加,也造成對比度下降。通常將此色輪置於燈源具焦處,當 光線通過時,會讓紅、綠、藍光依序通過,而產生快速交替且連續之 三色色場,如圖2-5所示:
圖 2-5 色輪 2.8 積分柱(ROD)
由於燈發射出來的光並不夠均勻,一般UHP的燈會有兩個最亮的 點,分別在兩個電極附近的位置,這樣不均勻的光,需再搭配積分柱,
將光均勻化後再照射至光閥系統,光在鍍有高反射介電質膜堆的基板 內來回反射,使得光束能夠均勻的分佈。積分柱的另一功能是要將光 源形狀改變,因為從燈源端出來的光源形狀成不規則柱狀,但影像系 統的DMD晶片形狀卻是方形,所以需要藉由積分柱來做形狀的轉換工 作。由於投影系統中的投影鏡頭及其他光學元件之光學特性,就算我
17
們能產生完全均勻之光來照射影像來源光閥面板,照射在螢幕上的亮 度仍然會由中心往邊緣衰減。積分柱會維持穿透系統光錐的形狀,而 在空間中將此光錐之能量均勻化,也就是將原本分佈在光錐中間能量 較強的光,分散至邊緣原本光較弱的地方,而不改變光錐的形狀。若 使用一良好設計之積分器,由於光錐及截面積均未改變,則光展量亦 未改變。由於積分柱會將中間的能量分散至邊緣的地方,使用積分柱 後,螢幕中央的亮度會稍微下降,而邊緣部份亮度會上升,使整體均 勻度增加。積分柱由於較接近光源,需要有很好的耐熱特性,因此產 品材質以玻璃為主,當使用積分柱時,相當於系統中多了一個光學元 件,加上形狀轉換的損失。會使得整體之光通量輸出降低[3]。積分 柱可以是空心的也可以是實心的,空心式的是靠內壁各面之高反射率 鍍膜,實心式的則是靠材質與空氣間的全內反射;當光進入積分柱 時,會經過多次反射後才會由積分柱內射出,產生均勻化的功能。由 燈源及反射罩模組所產生之光會被聚焦至積分柱之入射面;離軸的光 會打到積分柱的某一面再反彈進入積分柱中。由於各面均是平行的,
經過積分柱後光錐仍可維持原來的形狀,而經過此積分柱後光展量也 依然維持不變。若此積分柱長度夠長,則於出射面各光線之位置將完 全與入射面位置無關,也就是說出射面各處的光應都是均勻的。若希 望有高均勻度,則積分柱長度要長,入射光錐角度要大,且積分柱截
18
面積要小。當積分柱定型後,即限制了出入光錐的面積,但卻沒限制 出入光錐的角度,也就是說同一積分柱,只要長寬比與光閥面積相 同,且光錐入光角度不超過積分柱可接收範圍,則可以供一範圍內不 同光展量的照明系統使用,如圖2-6所示:
圖 2-6 積分柱 2.9 聚光鏡片組(CONDENSOR AND RELAY)
聚光鏡的作用在於,將通過光學積分器後的光束聚集成與DMD面 積相等的大小光束,所以聚光鏡的設計必須由DMD的光束面積大小來 決定其光學參數,如圖2-7所示:
圖 2-7 聚光鏡組
19
2.10 數位微形反射鏡元件(DMD)
數位微形反射鏡元件是一種微機電(micro-electrical mechanical systems, MEMS)式的空間光調變器(spatial light modulator, SLM),每 個像素都是一面微小的金屬面鏡,利用底部的互補金屬氧化半導體 (complementary metal-oxide-silicon, CMOS)驅動電路產生磁場來控制 面鏡翻轉的位置,而每個微面鏡有兩種位置,一個是將光線反射到投 影鏡頭的亮狀態(ON state),另一個則是將光線偏離投影鏡頭的暗狀 態(OFF state),也就是說它是個二元開關,並以控制訊號脈衝寬度調 整來達成每個顏色的8 位元灰階。要產生“全亮(full ON)"的像素,
數位微形反射鏡元件是一種微機電(micro-electrical mechanical systems, MEMS)式的空間光調變器(spatial light modulator, SLM),每 個像素都是一面微小的金屬面鏡,利用底部的互補金屬氧化半導體 (complementary metal-oxide-silicon, CMOS)驅動電路產生磁場來控制 面鏡翻轉的位置,而每個微面鏡有兩種位置,一個是將光線反射到投 影鏡頭的亮狀態(ON state),另一個則是將光線偏離投影鏡頭的暗狀 態(OFF state),也就是說它是個二元開關,並以控制訊號脈衝寬度調 整來達成每個顏色的8 位元灰階。要產生“全亮(full ON)"的像素,