• 沒有找到結果。

第三章 探討 2-吡咯甲醛在不同溶液中的氫鍵自結合、異結合及構型轉換現象

3.4 討論

由我們實驗的 2-吡咯甲醛(2-pyrrolecarbaldehyde)溶於四組不同 的溶劑中分別為: 正辛烷、四氯化碳、四氯乙烯及三氯乙烯。由文獻 得知62,正辛烷之介電常數D為: 1.948 (20 ℃) 、四氯化碳之 D為: 2.238 (20 ℃)及2.228 (25 ℃)、四氯乙烯之D 為: 2.3 (25 ℃)、三氯乙

烯之D 為: 3.4 (16 ℃)。若在相同溫度時,其溶劑的介電常數由小至

大分別為: 正辛烷<四氯化碳<四氯乙烯<三氯乙烯。溶劑的介電常 數越大,則極性越大,所產生的溶劑效應66 (solvent effect)或介電常

數效應(dielectric effect)則越顯著。溶劑效應表現在影響分子間氫鍵的

自結合上,可由吸收位移的變化、單雙體自結合平衡常數、自結合標 準反應焓及自結合標準反應熵的不同看出。根據 KBM 的理論 60,67, 可知溶劑的介電常數越大,則溶質在IR 光譜中單體吸收位置(相較於 在真空中)的改變則越大。因溶劑的介電常數越大、其極性越大、越 易與單體的N-H 官能基互相吸引,使單體在溶劑中的吸收位置(相較 於在真空中)向較低頻率移動。若在相同的溶劑中,當溫度越低時,

單體之吸收位移向低頻率移動越明顯,因在較低溫度時,分子間的相 對運動變小,使得溶劑對分子吸引力之干擾變小,則溶劑之介電常數 隨溫度下降而變大。可由圖 3.69 看出同一溶劑的四組溫度中,符號

頻率,其介電常數由小到大。比較不同介電常數的溶劑,也可看出其 介電常數越大,順式單體吸收位置越往低頻率移動。

0.20 0.24 0.28 0.32

3440 3450 3460 3470 3480

VNH / cm-1

(D-1) / (2D-1)

n-octane CCl4 C2Cl4 C2HCl3

圖3.69 2-吡咯甲醛於不同溶劑中及四組不同溫度下的順式單體位

移υNH對(D-1)/(2D+1)作圖。其中D為介電常數。

由文獻得知68,吸收位移的變化可作為氫鍵強度的測量,因此單

雙吸收位移的變化越大,表示所形成的氫鍵越強。比較表3.1、3.3、 3.5 及3.7得知,2-吡咯甲醛於 45 ℃時,溶解在正辛烷、四氯化碳、

四氯乙烯及三氯乙烯系統中,順式單體位移到雙體位移的平均變化大 小為: 190.8、184.4、185.4 及180.2 cm-1。得出單雙體自結合在不同系 統中的氫鍵強度依序為: 正辛烷>四氯乙烯>四氯化碳>三氯乙烯。

由前面的實驗得知,2-吡咯甲醛溶解在正辛烷、四氯化碳、四氯 乙烯及三氯乙烯系統中,其自結合標準反應焓ΔHo 分別為: -34.94、 -19.18、-20.02 及-12.16 kJ mol-1;自結合標準反應熵ΔSo 分別為: -69.33、-25.71、-25.95及-9.14 J mol-1K-1。可得單雙體自結合的反應 為放熱反應,ΔHo 負值越多表示在形成雙體的過程中放出更多的能 量使雙體更穩定;而ΔSo 負值越多為形成雙體時,分子的自由度減 少越多,可看出越多比例的單體自結合成雙體。此放熱反應使系統在 較低溫時,平衡方向越易往右反應形成雙體。由此看出2-吡咯甲醛溶 解於此四種系統中形成雙體的氫鍵強度為: 正辛烷>四氯乙烯>四氯 化碳>三氯乙烯。此趨勢也與前述由位移變化判斷氫鍵強弱相同。另 外比較在相同溫度時,如45 ℃時,2-吡咯甲醛在正辛烷、四氯化碳、

四氯乙烯及三氯乙烯四種系統中的單雙體自結合平衡常數 Kd大小依 序為111.56、65.33、88.82及 34.02 mol-1 L,發現形成雙體的氫鍵強 度趨勢也為: 正辛烷>四氯乙烯>四氯化碳>三氯乙烯。由圖3.69可看 出正辛烷的介電常數最低,此種低介電常數的溶劑使該分子不易溶解 於此系統中,需加熱水於樣品瓶外圍並用力搖晃使其溶解,而其他溶 劑則與該分子易溶。由於正辛烷與其他溶劑溶解度的差異,也可看出 正辛烷溶劑不易與分子互相吸引,而使此分子產生自結合時不易受溶 劑干擾,因此此系統的自結合平衡常數 Kd遠大於其他系統,造成適

解(fitting)此系統時,因極易形成雙體,造成單體的總吸收度太小而有

適解(fitting)上的困難,因此提高此系統的溫度使其較不易形成雙體。

因自結合為放熱反應,升高溫度可使平衡往單體方向移動,即高溫有 利於單體的生成,而低溫利於雙體的生成。

文獻中12,69曾研究過介電常數與自結合平衡常數的關係,認為介

電常數與自結合平衡常數的自然對數值呈反比的關係,且介電常數與 自結合氫鍵的能量(即自結合標準反應焓ΔHo 的絕對值)也呈反比的 關係。但由實驗之結果得知,除了四氯化碳系統有較大的偏差外,其 他系統皆呈現此種關係。一般而言,溶劑的介電常數越大之系統,溶 劑與該單體分子間的吸引力越強,而使雙體較不易形成,因此自結合 平衡常數應越小。但由前述得知,藉著單雙體位移的變化、自結合標 準反應焓及自結合平衡常數的大小三種方式皆可得到相同趨勢,即氫 鍵強度依序為: 正辛烷>四氯乙烯>四氯化碳>三氯乙烯。文獻中 67提 及溶質由氣態到溶液中吸收的改變至少與兩項因素有關: 介電常數 效應及特定分子間的效應。雖然四氯乙烯的介電常數稍微略大於四氯 化碳但其實非常接近。若介電常數差異較明顯時,則介電常數效應較 顯著;反之若非常接近時則需考慮分子間的效應。因此判斷四氯化碳 與溶質分子間的作用相較於四氯乙烯與溶質分子間的作用更明顯。

另外,隨著溶劑介電常數的增大,溶劑的極性增強,愈能穩定較

具極性的反式單體(因其N-H 與C=O的 dipole moment為相同方向), 而使反式單體的比例變大,因此該分子由順式單體到反式單體的構型 轉換平衡常數也變大。由實驗得知,2-吡咯甲醛溶解在正辛烷、四氯 化碳、四氯乙烯及三氯乙烯系統中,其構型轉換標準反應焓ΔHo 分 別為: 32.11、20.26、18.28 及14.75 kJ mol-1;構型轉換標準反應熵Δ So分別為: 84.33、53.82、49.16及 43.46 J mol-1K-1。可得構型轉換的 反應為吸熱反應,ΔHo 值越大表示由順式單體到反式單體的過程中 需吸收更多的能量才能使反應往右進行。此吸熱反應使系統在較高溫 時,平衡方向越利於反式單體的生成。由此看出2-吡咯甲醛溶解於此 四種系統中形成反式單體的趨勢為: 正辛烷<四氯化碳<四氯乙烯

<三氯乙烯。此趨勢也與溶劑介電常數的趨勢相符,即介電常數愈 大,由順式單體到反式單體的構型轉換平衡常數也變大。另外文獻中

8提及此分子經由 C=O與 pyrrole ring 間 C-C旋轉所形成的位能變化 (torsional potential) 如圖3.70所示,是由 MP2理論計算結果,得到順 式單體到反式單體的位能變化為16.6 kJ mol-1。若與此實驗的四組溶 劑系統比較時,可判斷在三氯乙烯系統中,因該溶劑的極性較強,愈 能穩定反式單體,因而降低反式單體的位能遠較其他三組溶劑系統 (正辛烷、四氯化碳及四氯乙烯)多;而該分子在其他三組溶劑系統(正 辛烷、四氯化碳及四氯乙烯)中時,因溶劑的極性較弱,特別是在鈍

性溶劑正辛烷時,愈能穩定較不具極性的順式單體,因而降低順式單 體的位能較其他組系統多。

圖3.70 2-吡咯甲醛分子經由C=O與pyrrole ring間C-C旋轉所形成 的位能變化(torsional potential)。

在異結合系統中,我們在原先的四氯乙烯系統中加入苯(benzene)

或甲苯(toluene)作為π -質子接受者(π -acceptor)。在單雙體的吸收位 置中間可看出形成錯體的吸收,且因為π -質子接受者(π -acceptor) 度增加而使單雙體的總吸收度變小,可看出形成自異結合共存且競爭 的系統,此為三種平衡同時存在的狀態。透過第二章的推導,並經由 前面實驗求出的順式及反式單體的吸收係數作為已知代入公式,可求 得錯體的吸收係數及異結合平衡常數。而甲苯(toluene)較苯(benzene) 具更強的芳香性,因甲苯(toluene)上的-CH 為推電子基,使苯環上的

π 電子更易提供電子給質子提供者(donor),形成較強的異結合。比較 此兩種系統在相同溫度下求出的異結合平衡常數也可看出此趨勢;另 外比較錯體的吸收位置,該分子與甲苯(toluene)形成的錯體吸收位置

約在 3406-3409 cm-1,而與苯(benzene)形成的錯體吸收位置約在

3412-3415 cm-1,發現該分子與甲苯(toluene)形成的錯體相對於單體吸 收位置有較大的位移變化,因此為較強氫鍵的異結合。而隨著溫度提 高,其異結合平衡常數也隨之下降,可看出此種利用不同分子間的氫 鍵而形成的異結合也為放熱反應。

由Fermi’s Golden Rule70得知: Wkl =(2 / )[ (π = ρ Ek)Vkl 2],其中Wkl 為系統由初始狀態(initial state)到最終狀態(final state)的躍遷速率 (transition rate) ,ρ(Ek)為最終狀態(final state)的密度,Vkl為初始狀 態(initial state)到最終狀態(final state)的偶合項(coupling term) ,是此 躍遷的matrix element。而光的吸收速率是由Fermi’s Golden Rule導証 得來並考慮Boltzmann distribution 的理論時,經過轉換可得吸收係數

α ω 與溫度( ) (T)及偶極距(u)的關係71為:

α ω( ) (2πω/ 3 )[1 exp(c β ω)] dtexp( i tω ) u(0) ( )u t

−∞

= = − − =

其中c 為光速,==h/ 2π,h為普朗克常數,ω 為輻射吸收的角速度,

1/ kT

β = ,k為波茲曼常數,T 為溫度, u(0) ( )u t 為偶極距的傅立

上升,且吸收係數與偶極距的變化有關。由實驗中得知,雙體與反式 單體的吸收係數隨溫度下降而上升,但順式單體的吸收係數則無此關 係。另外由文獻得知 72,羧酸類分子藉由氫鍵形成雙體且 O-H 鍵在 平衡位置時,其O-H 鍵的偶極距為 u(OH),會使另一被高度極化的孤 對電子產生誘導偶極 ui,當 O-H 鍵伸縮振動時,此誘導偶極將會增 加整體偶極距的變化,因吸收強度與整體偶極距變化的平方成正比,

而使雙體的吸收係數變大,稱為pulsed charge cloud model。由此可解 釋前面實驗的結果中,雙體的吸收係數遠大於順式單體或反式單體的 吸收係數。

第四章 結論

本論文的主旨在於利用FTIR研究相同分子間經由氫鍵而形成雙體 之自結合系統、順反式單體間的構型轉換與不同分子間經由氫鍵而形成 錯體的異結合系統。

利用電腦軟體的高斯—勞倫茲(Gauss-Lorentz)混合適解分佈曲線公 式,可將總吸收度重疊的部份分離出來,分別求出光譜中的順式單體、

反式單體與雙體的總吸收度,帶入我們新推導的公式,可求出順式單體 吸收係數εc、反式單體吸收係數 εt、雙體吸收係數單εd、單雙體自結合 平衡常數 Kd 及構型轉換平衡常數 Ki。並利用不同溫度下的平衡常數 值,作van’t Hoff plot 求出標準反應焓Δ Ho與反應熵Δ So。最後再對溫 度及溶劑效應對自結合的氫鍵及構型轉換平衡的影響作討論。為了符合

反式單體與雙體的總吸收度,帶入我們新推導的公式,可求出順式單體 吸收係數εc、反式單體吸收係數 εt、雙體吸收係數單εd、單雙體自結合 平衡常數 Kd 及構型轉換平衡常數 Ki。並利用不同溫度下的平衡常數 值,作van’t Hoff plot 求出標準反應焓Δ Ho與反應熵Δ So。最後再對溫 度及溶劑效應對自結合的氫鍵及構型轉換平衡的影響作討論。為了符合

相關文件