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第二章 矽晶太陽能電池簡介

2.5 電致螢光法

太陽能電池製造過程中通常會產生一些缺陷,有些缺陷是經由人 為刻意造成的,例如摻雜產生的缺陷,所有的缺陷都會影響電池的光 電轉化效率及電池的壽命。缺陷影響電池的電性是可以被發展為有效 的檢測方法,例如:電致發光或光致發光方法就可以檢測太陽能電池 或其他半導體材料[12][15]。

半導體材料的能隙介於導體與絕緣體之間,本質半導體在穩定時 所有電子幾乎都是位在價電帶(valence band, VB)上,若給予穩定之半 導體一個順向偏壓,使產生高於能隙之能量,部分電子會被激發由價 電帶躍遷至導電帶,留下電洞在價電帶。被激發的電子在不穩定的情 形下,會與晶格碰撞,以熱或聲的形式釋出能量而掉至導電帶底部。

同樣的,高能量的電洞亦會掉至價電帶頂部,接著導電帶底部的電子 與價電帶的電洞會復合而發出光子,即電致螢光。半導體中的載子從 激發到復合的過程稱為生命週期,若應用在P-N二極體上,這些被激發 的電子與電洞各為p型及n型半導體中的少數載子,所以在P-N二極體中 又稱少數載子生命週期,所需的能量必須至少與材料之能隙相等,若 太小則無法有效激發電子或電洞至導電或價電帶。

半導體中的電子經由復合效應以輻射方式發光,不同材料會有不 同的激發能量與相對應的光譜圖,太陽能電池發出的光波長介於 950-1250 nm之間[78],以此區間波長較靈敏的CCD 相機才能拍下太陽 能電池的輻射復合分佈圖像。太陽能電池的電致發光亮度正比於少數 載子的擴散長度,所以太陽能電池電致發光影像展現出太陽能電池擴 散長度的分佈特徵,透過EL照片可以有效地分析太陽能電池產生的缺 陷,例如裂紋、晶界等。圖2.13顯示無破壞之單晶及多晶矽太陽能電 池的EL照片。多晶矽太陽能電池由於晶格排列無特定的方向,會產生 許多晶格缺陷,也容易產生摻雜缺陷,通電後電池無法發出螢光,或

是光強度太弱,故EL照片呈現較暗的灰階。

表2-1 單晶矽材料各方向破壞韌性

Testing method Crack orientation K1C (MPa m1/2) Double cantilever beam {111} 0.94±0.03 Controlled flaw {111} 0.82±0.07

{110} 0.9±0.11 Four-point bending

{100} 0.95±0.05 Microindentation {110}/{112} 1±0.08

表 2-2 單晶矽材料常數

彈性常數(GPa) 熱膨脹係數(ppm/K) 密度(g/m3) 泊松比 Ex = 169

Ey = 169 Ez = 130 Gyz = 79.6 Gzx = 79.6 Gxy = 50.9

3.6 2.33 υyz = 0.36 υzx = 0.28 υxy = 0.064

表 2-3 多晶矽材料常數

彈性常數(GPa) 熱膨脹係(ppm/K) 密度(g/m3) 泊松比

160 2.6 2.33 0.28

表2-4 氮化矽材料常數(PECVD)

彈性常數(GPa) 熱膨脹係數(ppm/K) 密度(g/m3) 泊松比 168 2.6 2.7 0.23

表2-5 金屬電極材料常數

彈性常數(GPa) 熱膨脹係數(ppm/K) 密度(g/m3) 泊松比

72 18.9 10.5 0.28

表2-6 鋁漿材料常數

彈性常數(GPa) 熱膨脹係數(ppm/K) 密度(g/m3) 泊松比

43

用於單晶 5.5 用於多晶 3.7

2.7 0.35

Cathode

Si

P 型半導體 N 型半導體

電洞漂移電流

1.融化多晶矽 和摻雜物

2.注入<100>

方向晶種

3.長晶 4.拉晶 5.形成晶體並

留下殘留物

圖2.5 單晶矽晶片製作流程:(a) CZ 拉晶流程示意圖、(b)切邊、(c) 線切割切片。

(a)

(b)

(c)

矽熔漿

方向性凝固的多晶矽 多晶矽原料

石英坩鍋 加熱器

矽熔漿

方向性凝固的多晶矽 多晶矽原料

石英坩鍋 加熱器

(a)

矽熔漿

矽熔漿 方向性凝固

的多晶矽 矽熔漿 矽熔漿

矽熔漿 方向性凝固

的多晶矽 矽熔漿

(b)

(c)

圖2.6 多晶矽長晶方法示意圖,(a)坩鍋下降法:將多晶矽原料置於 石英坩鍋,熔化後將石英坩鍋下降冷卻; (b)澆鑄法:當多晶 矽原料熔化後,將矽熔漿倒入另一方形石英坩鍋中。

P型半導體 N 型半導體

具氮化矽抗反射層之 金字塔型表面 金屬電極

背面接觸

圖2.7 太陽能電池之基本構造;P-N 型半導體、抗反射層、金屬電 極、背面接觸,(a)外觀圖、(b)及各結構剖面的 SEM 圖。

(a)

(b)

[111]

入射光

[100]

[111]

入射光

[100]

圖2.8 矽晶片表面粗化結構,(a)利用表面粗糙結構降低入射光反射,

用以增加入射光子的吸收率,(b)單晶矽晶片上規律的金字塔 粗糙結構[61],(c)多晶矽晶片上無規律的表面粗糙結構[60]。

(a)

(b) (c)

gridline busbar

圖2.9 太陽能電池上的電極,包括 busbar 與 gridline 兩種結構。

Si Al-Si BSF eutectic Porous Bulk Al

Si Al-Si BSF eutectic Porous Bulk Al

圖2.10 形成背面電場的鋁漿與太陽能電池固化後的結構示意圖,包 含共晶結構及多孔性鋁合金。

圖2.11 太陽能電池剖面圖,(a)單晶矽、(b)多晶矽裂縫從抗反層開始 延伸至矽-鋁共晶結構停止或轉彎。

(a)

(b)

圖2.12 太陽能電池串接示意圖: (a)單一太陽能電池、(b)太陽能電池之 串接,(c)太陽能電池模組示

強化玻璃

EVA 太陽能電池

EVA 強化玻璃 金屬銲線

(a)

(b)

(c)

(a)

(b)

圖2.13 矽晶太陽能電池 EL 照片:(a)單晶矽、(b)多晶矽