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第三章 結果與討論

3.3 非恆溫系統

0 1 2 3 4 5 6 7 8

Qi/Qii=1, Fslip=4.5x106

Degree of E n capsul a ti on (%)

Flow Distance (x/L)

ηIII= 6 生之黏滯熱(viscous heating)越來越大,且下層流體(Flow I)黏度比上 層流體(Flow II)黏度大,其所產生之黏滯熱(viscous heating)隨著流道 增加而明顯比上層流體(Flow II)大,導致下層流體(Flow I)黏度因溫度 上升而減少,相對於黏度較低之上層流體(Flow II),其所產生之黏滯

圖 3-18 非恆溫-不同黏度比流體界面包覆度比較圖

熱(viscous heating)比下層流體(Flow I)少,黏度因溫度上升而減少之 現象沒有下層流體(Flow I)明顯,因此黏度比(ηi/ηii)會隨著流道增加而 下降,界面包覆度亦隨著流道增加而減少。而溫度分佈隨著出口方向 變化如圖3-19 至 3-27 所示。

表3-5為不同黏度比在恆溫系統與非恆溫系統下之出口界面包覆 度比較,由表3-5可看出在非恆溫系統下之出口界面包覆度比在恆溫 下統下低,其原因為在恆溫系統下,忽略高分子塑料所產黏滯熱之影 響,由上述可知,黏滯熱的產生,會使得黏度比(ηi/ηii)下降,故在非 恆溫系統下,其界面包覆度會比在恆溫系統下低。此外,亦可觀察出 在非恆溫系統下,包覆度隨著黏度比(ηi/ηii)增加之變化量比在恆溫系 統下少,因在非恆溫系統下,下層流體(Flow I)黏滯熱(viscous heating) 隨黏度比(ηi/ηii)增加而變大,導致因黏滯熱(viscous heating)使得包覆 度減少之效應增加,故在非恆溫系統下,因黏度比(ηi/ηii)增加而影響 界面包覆度之現象較恆溫系統不明顯。圖3-28為不同黏度比之界面出 口位置,由圖可看出界面位置隨著包覆度之增加,而往上偏移。

圖3-19 黏度比(ηi/ηii)=2.6 之溫度分佈圖(X=1L) 黏度比 ηiii (下層/上層)

Q

i/Qii=1,

Fslip=4.5×106 2.6 4 6

恆溫系統 Outlet Encapsulation(%)

3.95 5.27 5.91

非恆溫系統Outlet Encapsulation(%)

3.31 4.21 4.47 表 3-5 恆溫與非恆溫系統不同黏度比之出口界面包覆度比較

圖3-20 黏度比(ηi/ηii)=2.6 之溫度分佈圖(X=5L)

圖3-22 黏度比(ηi/ηii)=4 之溫度分佈圖(X=1L)

圖3-23 黏度比(ηi/ηii)=4 之溫度分佈圖(X=5L)

圖3-24 黏度比(ηi/ηii)=4 之溫度分佈圖(X=7.9L)

圖3-25 黏度比(ηi/ηii)=6 之溫度分佈圖(X=1L)

圖3-26 黏度比(ηi/ηii)=6 之溫度分佈圖(X=5L)

圖3-27 黏度比(ηi/ηii)=6 之溫度分佈圖(X=7.9L)

-0.6 -0.5 -0.4 -0.3 -0.2 -0.1 0.0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.00

0.05 0.10 0.15

Qi/Qii=1, F

slip

=4.5x10

6

Y Coor di n a te ( y /L )

Z coordinate (z/L)

ηI

/

ηII

= 6

慮黏滯熱(viscous heating)之影響,其模擬結果如圖 3-29 所示。由圖 可以看出隨著流量比(Qi/Qii)增加,其界面包覆度減少,此結果與恆溫 系統下相同,但因恆溫系統忽略黏滯熱(viscous heating)之影響,所以 在恆溫系統界面包覆度不會隨著流道增加而改變,但在非恆溫系統,

黏滯熱(viscous heating)隨著流道增加而變大,因此溫度隨著流道增加 圖 3-28 非恆溫-不同黏度比之界面出口位置

而上升,界面包覆度隨之減少。表 3-6 為恆溫與非恆溫系統不同流量 比之出口界面包覆度比較,由表可知在恆溫系統下之包覆度比在非恆 溫系統下大,因黏滯熱(viscous heating)的產生使得流體溫度上升,黏 度下降,而下層流體(Flow I)因黏度較大,此效應之影響比上層流體 (Flow II)大,因此導致黏度比(ηi/ηii)變小,界面包覆度減少。圖 3-30 至 3-38 為不同流量比(Qi/Qii)之溫度分佈圖。由圖可以看出當流量比 (Qi/Qii)較大時(上層流體(Flow II)流量變小),由於上層流體(Flow II) 流量變小,因此因摩擦而產生之黏滯熱(viscous heating)變小,相對於 流量比(Qi/Qii)較低時(上層流體(Flow II)流量變大),溫度上升較不明 顯,導致下層流體(Flow I)受到上層流體(Flow II)之影響,溫度上升也 較不明顯,固因溫度上升導致黏度比(ηi/ηii)減少之效應相對變小,所 以在(Qi/Qii)較大時(上層流體(Flow II)流量變小),隨著流道增加包覆 度變化量相對變小。圖3-39 為不同流量比(Qi/Qii)之界面出口位置圖。

0 2 4 6 8

Deg ree o f En cap su la ti o n (%)

Flow Distance (x/L)

η I/ηII= 4

圖 3-30 流量比(Qi/Qii)=1 之溫度分佈圖(X=1L)

圖 3-31 流量比(Qi/Qii)=1 之溫度分佈圖(X=5L)

圖 3-32 流量比(Qi/Qii)=1 之溫度分佈圖(X=7.9L)

圖 3-34 流量比(Qi/Qii)=3 之溫度分佈圖(X=5L)

圖 3-35 流量比(Qi/Qii)=3 之溫度分佈圖(X=7.9L)

圖 3-36 流量比(Qi/Qii)=7 之溫度分佈圖(X=1L)

圖 3-38 流量比(Qi/Qii)=7 之溫度分佈圖(X=7.9L)

Y Co ordi n a te (y /L)

Z coordinate (z/L)

η I/ η II= 4

3.3.3 改變上層流體(Flow II)入口溫度與上層壁面溫度對界 面包覆度之影響

經由上述模擬結果可知溫度對界面包覆度有很大的影響,此節將 再進一步探討當流體入口溫度及模壁溫度改變時,對界面包覆度有何 影響。將上層流體(Flow II)入口溫度及上層模壁溫度均改為 235℃,

而下層流體(Flow I)入口溫度及下層模壁溫度設定為 220℃進行模 擬,再將上層流體(Flow II)入口溫度及上層模壁溫度均改為 250℃,

而下層流體(Flow I)入口溫度及下層模壁溫度與先前一樣設定為 220℃進行模擬,其模擬結果如圖 3-40 所示。經由先前之模擬結果可 知因黏滯熱(viscous heating)之產生,造成流體溫度升高,而黏度較大 者因產生之黏滯熱(viscous heating)較大,所以溫度升高比黏度較低之 流體多,因此造成黏度比減少,進而影響界面之包覆度。當上層流體 (Flow II)入口溫度及上層模壁溫度升高時,由於下層流體(Flow I)與下 層模壁溫度保持與之前設定一樣為220℃,因此上層流體(Flow II)因 溫度升高而黏度下降之變化量比先前溫度為220℃時來的多,導致上 下層流體黏度(ηi/ηii)比增加,而上層流體(Flow II)入口溫度及模壁溫 度越高,此效應更為明顯。因此由圖 3-40 模擬結果所示,上層流體 (Flow II)入口溫度及模壁溫度越高時,其界面包覆度亦越大。表 3-7 為不同上層流體入口溫度與模壁溫度對出口界面包覆度之比較。

0 1 2 3 4 5 6 7 8

Degree of Encapsul a ti on (%)

Flow Distance (x/L)

下層流體(Flow I)入口溫度與壁面溫度(220℃)

Encapsulation(%) 3.31 3.53 3.84 表 3-7 不同上層流體入口溫度與模壁溫度對出口界面包覆度之比較

圖 3-40 不同上層流體入口溫度與模壁溫度對界面包覆度之比較圖

圖 3-41 為不同上層流體入口溫度與模壁溫度之界面出口位置圖,由

Y C oo rdinat e (y /L)

Flow Distance (x/L)

T=220

o

C

先設定相同,因此會造成黏度比(ηi/ηii)下降,界面包覆度則會減少。

上下層溫度設定為下層流體(Flow I)入口溫度及下層模壁溫度均改為 235℃,而上層流體(Flow II)入口溫度及上層模壁溫度設定為 220℃進 行模擬,再將下層流體(Flow I)入口溫度及下層模壁溫度均改為

Degree of E n capsu lati on (%)

Flow Distance (x/L)

Q

I

/Q

圖 3-43 為不同下層流體入口溫度與模壁溫度之界面出口位置圖,由

Y C oor dina te (y /L)

Flow Distance (x/L)

上層流體(FlowII)入口溫度與壁面溫度(220℃)

Encapsulation(%) 3.31 2.6 2.08 表 3-8 不同下層流體入口溫度與模壁溫度對出口界面包覆度之比較

圖3-43 不同下層流體入口溫度與模壁溫度之界面出口位比較置圖

3.3.5 與黏彈模型比較

由過去之文獻可之影響界面包覆度之因素只要有兩種原因,一為 雙層高分子塑料其本身因黏度的不同所造成之包覆現象,另一為二次 流動的產生(secondary flow)所造成之包覆現象。本論文所採用之模型 為 Bird-Carreau model,因此模型非黏彈型模型,所以沒辦法描述高 分子二次流動(secondary flow)之行為,而相對於文獻中所使用之模型 為 Giesekus 黏 彈 模 型[55], 此 模 型 能 有 效 描 述 高 分 子 二 次 流 動 (secondary flow)之行為,因此與 Giesekus model 比較後可以了解二次 流 動(secondary flow) 對 界 面 包 覆 度 之 影 響 。 圖 3-44 為 恆 溫 下 Bird-Carreau model 與 Giesekus model 之包覆度比較圖。由圖可以看 出因二次流動(secondary flow)之產生,對界面包覆度之影響極為重

Bird-Carreau model Giesekus model

Outlet

Encapsulation(%) 2.96 51.5

表3-9 不同模型出口界面包覆度之比較

0 1 2 3 4 5 6 7 8 0

10 20 30 40 50

Q

I

/Q

II

=3 η I/ η II= 2.6 Fslip=4.5x10 6

D e gr ee of Enc a p s ula tion (%)

Flow Distance (x/L) Bird-Carreau model

Giesekus model

圖3-44 Bird-Carreau model 與 Giesekus model 之包覆度比較圖

四、結論

本論文探討雙層高分子塑料在進料區塊(feedblock)內流動之三維 有限元素模擬,相對於過去文獻在壁面邊界設定採用非滑動(No slip) 之設定,本論文則採用滑動邊界之設定,因壁面在非滑動(No slip)設 定下,壁面與流體界面之接觸線(contact line)無法移動,會忽略壁面 影響(wall effect),不符合實際上之流動行為,而在決定滑動邊界之設 定參數上,由於並無有關滑動係數之量測值,所以本論文採用過去楊 世豪學長對滑動邊界設定之研究結果,所使用之滑動模型為冪次式滑 動模型(power law slip model) [55],希望能藉此了解高分子流體在進料 區 塊 中 之 流 動 機 制 , 並 探 討 共 押 出 製 程 上 所 產 生 之 包 覆 現 象 (encapsulation phenomena)問題。

在過去之研究中,包覆現象的產生可有下列兩種原因:一為雙層高 分子塑料其本身因黏度的不同所造成之包覆現象,已被認為是影響包 覆現象之主要因素,黏度低之流體會包覆黏度高之流體,形成一彎曲 之流體界面,因此本論文亦將探討有關黏度對包覆現象之影響;另一 為二次流動的產生(secondary flow)所造成之包覆現象,二次流動現象 可解釋為雙層高分子熔膠在各自流道模壁面之剪切應力極大,造成流 體產生極大的拉伸,而後進入截面積較大之矩型流道,雙層高分子熔 膠因應力釋放會試圖產生膨脹(swell),而產生二次流動(secondary

flow),此時流體會呈逆時鐘旋轉將流體界面中央頂起而界面兩端凹 下,形成一流體包覆另一流體之包覆現象,且隨著流道長度增加,模 壁面剪切應力上升,流體拉伸程度增加,造成包覆程度也隨之增加。

由於本論文主要在探討在非恆溫下,經由改變上下層流體之黏度 比、流量比、上層流體入口溫度與上層模壁溫度及下流體層入口溫度 與下層模壁溫度等對界面包覆度之影響,並與黏彈模型模擬結果做比 較,探討二次流動(secondary flow)對界面包覆度之影響。故本論文所 採用之模型為 Bird-Carreau model,此模型無法描述高分子之黏彈行 為,因此無二次流動(secondary flow)之產生,但相對於牛頓型流體模 型,Bird-Carreau model 能有效描述高分子因剪切率不同所產生之剪 薄效應(Shear Thinning Effect),因此本論文選擇 Bird-Carreau model 進行模擬研究。

由模擬結果可知,界面包覆度隨著上下層流體之黏度比(ηi/ηii)變 大而增加,反之亦然。此結果不管在恆溫系統或非恆溫系統均相同,

但由於恆溫系統只考慮剪切率效應之影響,因此界面包覆度因黏度比 (ηi/ηii)變大而增加之結果比非恆溫系統更明顯,此結果乃因非恆溫系 統下,除了要考慮剪切率對黏度比之影響外,還要考慮由於黏滯熱的 產生造成高分子流體溫度上升,進而對黏度比產生影響。然而黏度較 大之流體所產生的黏滯熱相對較大,因此溫度上升較多,故黏度因溫

度升高而減少之影響較大,導致黏度比(ηi/ηii)變小,界面包覆度相對 於恆溫系統因黏度比變大而增加之結果較不顯著。

在改變流量比方面,由模擬結果可知,藉由流量比(Qi/Qii)之增加,

可以減少界面包覆之情況,此結果在恆溫系統與非恆溫系統均相同,

因此可以藉由改變流量比來降低界面之包覆度,但值得注意的是隨著 流量比增加,界面出口位置經由下層流體擠壓而往上偏移,此結果導 致流體界面靠近具有較高剪切應力之壁面,造成界面不穩定,此乃形 成界面之鋸齒形不穩定現象主因。

在改變上層流體與上層模壁溫度方面,當上層流體入口溫度及上 層模壁溫度升高時,由於下層流體與下層模壁溫度保持與之前設定一 樣,因此上層流體因溫度升高而黏度下降之變化量比先前溫度為 220℃時來的多,導致上下層流體黏度(ηi/ηii)比上升,界面包覆度增 加,而上層流體入口溫度及上層模壁溫度越高,此效應更為明顯。反 之,在改變下層流體與下層模壁溫度方面,其結果剛好相反。因此,

在改變上層流體與上層模壁溫度方面,當上層流體入口溫度及上 層模壁溫度升高時,由於下層流體與下層模壁溫度保持與之前設定一 樣,因此上層流體因溫度升高而黏度下降之變化量比先前溫度為 220℃時來的多,導致上下層流體黏度(ηi/ηii)比上升,界面包覆度增 加,而上層流體入口溫度及上層模壁溫度越高,此效應更為明顯。反 之,在改變下層流體與下層模壁溫度方面,其結果剛好相反。因此,

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