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以準分子雷射結晶與非晶矽間隙壁結構製作高遷移率複晶矽薄膜電晶體之研究

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Academic year: 2021

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(1)國立交通大學 電子工程學系 電子研究所 碩 士 論 文. 以準分子雷射結晶與非晶矽間隙壁結構製作 高遷移率複晶矽薄膜電晶體之研究 Study on High-Mobility Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors Fabricated by Excimer Laser Crystallization with Amorphous Silicon Spacer Structure. 研 究 生:呂健豪. Jian-Hao Lu. 指導教授:鄭晃忠 博士. Dr. Huang-Chung Cheng. 中 華 民 國 九 十 三 年 六 月.

(2) 以準分子雷射結晶與非晶矽間隙壁結構製作 高遷移率複晶矽薄膜電晶體之研究. Study on High-Mobility Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors Fabricated by Excimer Laser Crystallization with Amorphous Silicon Spacer Structure. 研 究 生:呂健豪. Student:Jian-Hao Lu. 指導教授:鄭晃忠 博士. Advisor:Dr. Huang-Chung Cheng. 國 立 交 通 大 學 電 子 工 程 學 系 電 子 研 究 所 碩 士 論 文. A Thesis Submitted to Department of Electronics Engineering & Institute of Electronics College of Electrical Engineering and Computer Science National Chiao Tung University in Partial Fulfillment of the Requirements for the Degree of Master in Electronics Engineering June 2004 Hsinchu, Taiwan, Republic of China. 中華民國九十三年六月.

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