【19】中華民國 【12】專利公報 （B）
【11】證書號數：I341795
【45】公告日： 中華民國 100 (2011) 年 05 月 11 日
【51】Int. Cl.： B41M3/00 (2006.01) B41M5/26 (2006.01)
發明 全 3 頁
【54】名 稱：微奈米壓印機台
MICRO/NANO IMPRINTING APPARATUS
【21】申請案號：097100215 【22】申請日： 中華民國 97 (2008) 年 01 月 03 日
【11】公開編號：200930579 【43】公開日期： 中華民國 98 (2009) 年 07 月 16 日
【72】發 明 人： 李永春 (TW) LEE, YUNG CHUN；蕭飛賓 (TW) HSIAO, FEI BIN；邱正宇 (TW) CHIU, CHENG YU
【71】申 請 人： 國立成功大學 NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
臺南市東區大學路 1 號
【74】代 理 人： 蔡坤財；李世章
【56】參考文獻：
TW 200406808A JP 2007-50663A US 5947027
US 2007/0262049A1
TW 200520934A JP 2007-81048A US 2005/0046058A1
[57]申請專利範圍
1. 一種微奈米壓印機台，至少包括：一基座；一承載座，設置在該基座之一表面上；一升 降螺桿，架設在該承載座之上，且可相對於該承載座升降；以及一氣囊，設置在該升降 螺桿之下端，且與該承載座相對。
2. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，其中該升降螺桿係一二段式升降螺桿。
3. 如申請專利範圍第 2 項所述之微奈米壓印機台，其中該升降螺桿包括一粗調節元件以及 一細調節元件。
4. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，更至少包括一氣囊下墊塊固設在該氣囊 之下側，且與該承載座相面對。
5. 如申請專利範圍第 4 項所述之微奈米壓印機台，其中該承載座內設有至少一加熱元件，
以加熱設置在該承載座上之一壓印基板。
6. 如申請專利範圍第 5 項所述之微奈米壓印機台，其中該加熱元件包括一加熱電阻。
7. 如申請專利範圍第 5 項所述之微奈米壓印機台，更至少包括一隔熱片，設置在該氣囊與 該氣囊下墊塊之間。
8. 如申請專利範圍第 7 項所述之微奈米壓印機台，其中該隔熱片係一石棉墊片。
9. 如申請專利範圍第 4 項所述之微奈米壓印機台，其中該氣囊下墊塊係一金屬塊。
10. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，更至少包括一荷重元設於該承載座與該 基座之間，以監測一壓印壓力。
11. 如申請專利範圍第 10 項所述之微奈米壓印機台，更至少包括一隔熱片，設置在該荷重元 與該承載座之間。
12. 如申請專利範圍第 11 項所述之微奈米壓印機台，其中該隔熱片係一石棉墊片。
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13. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，其中該承載座包括複數個真空孔，以固 定設置在該承載座上之一壓印基板。
14. 如申請專利範圍第 13 項所述之微奈米壓印機台，其中該承載座更包括至少一抽氣孔。
15. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，其中該承載座包括複數個冷卻管道，可 供冷卻流體流通。
16. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，其中該升降螺桿係透過一支撐架而設置 在該承載座之上。
17. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，其中該氣囊至少包括：一第一平板部，
接合在該升降螺桿之下端；一第二平板部；以及一氣囊部，夾設在該第一平板部與該第 二平板部之間。
18. 如申請專利範圍第 1 項所述之微奈米壓印機台，其中該氣囊至少包括：一平板部，接合 在該升降螺桿之下端；以及一氣囊部，附設在該平板部之底面。
19. 一種微奈米壓印機台，至少包括：一基座；一承載座，設置在該基座之一表面上，其中 該承載座內設有至少一加熱元件；一二段式升降螺桿，架設在該承載座之上，且可相對 於該承載座升降；一氣囊，設置在該升降螺桿之下端；以及一氣囊下墊塊，固設在該氣 囊之下側，且與該承載座相面對。
20. 如申請專利範圍第 19 項所述之微奈米壓印機台，其中該二段式升降螺桿包括一粗調節元 件以及一細調節元件。
21. 如申請專利範圍第 19 項所述之微奈米壓印機台，其中該加熱元件包括一加熱電阻。
22. 如申請專利範圍第 21 項所述之微奈米壓印機台，更至少包括一隔熱片，設置在該氣囊與 該氣囊下墊塊之間
23. 如申請專利範圍第 22 項所述之微奈米壓印機台，其中該隔熱片係一石棉墊片。
24. 如申請專利範圍第 19 項所述之微奈米壓印機台，更至少包括一荷重元設於該承載座與該 基座之間，以監測一壓印壓力。
25. 如申請專利範圍第 24 項所述之微奈米壓印機台，更至少包括一隔熱片，設置在該荷重元 與該承載座之間。
26. 如申請專利範圍第 25 項所述之微奈米壓印機台，其中該隔熱片係一石棉墊片。
27. 如申請專利範圍第 19 項所述之微奈米壓印機台，其中該承載座包括複數個真空孔，以固 定設置在該承載座上之一壓印基板。
28. 如申請專利範圍第 27 項所述之微奈米壓印機台，其中該承載座更包括至少一抽氣孔。
29. 如申請專利範圍第 19 項所述之微奈米壓印機台，其中該承載座包括複數個冷卻管道，可 供冷卻流體流通。
30. 如申請專利範圍第 19 項所述之微奈米壓印機台，其中該氣囊下墊塊係一金屬塊。
31. 如申請專利範圍第 19 項所述之微奈米壓印機台，其中該升降螺桿係透過一支撐架而設置 在該承載座之上。
圖式簡單說明
第 1 圖係繪示依照本發明一較佳實施例的一種微奈米壓印機台的立體示意圖。
第 2 圖係繪示依照本發明一較佳實施例的一種微奈米壓印機台的側視圖。
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