第三章 實驗儀器設備與原理
本實驗利用 Bruker IFS 66v/S 及 Perkin Elmer Lambda 900 光譜 儀來擷取實驗樣品的反射光譜,其量測光譜範圍可分為遠紅外光 區、中紅外光區、近紅外光區、可見光區、紫外光區,共五個部分,
頻率從 40 至 52000 cm-1,所對應的光子能量為5 meV 至 6.5 eV。其 光譜區域所對應的波長,如圖 3.1 所示。在可見光及紫外光區可量 測到電子於不同能階的吸收,在中紅外光區域分析聲子-電子交互作 用所產生的光譜響應,而在遠紅外光部分可量測到原子分子的振動 吸收。
3-1 傅立葉轉換紅外線光譜儀
本實驗使用傅立葉轉換紅外線光譜儀(Fourier transform infrared spectrometer,簡稱 FTIR)進行紅外光光譜的量測 ,其可量測光譜範 圍由遠紅外光區(far infrared)至中紅外光區(middle infrared),頻率從 30 至 5000 cm-1,對應光子的能量約為 3.7 meV 至 620 meV。裝置如 圖3.1.1 所示,儀器裝置簡單描述如下。
1.光源[9][10]:傅立葉轉換紅外線光譜儀使用熾棒光源(globar source)
及汞弧燈(mercury arc)兩種。熾棒光源為量測中紅外光區域所使用之 光源,為一碳化矽棒,直徑約5 mm,長度約 50 mm,通以電流可以
加熱至1300~1700 K;其中提供加熱之電源通常使用 40~60 V 交流 電源,並以變電壓器控制。因內部為正電阻係數的關係,當量測時間 增長而導致內部電阻增加,因此須用水冷卻接觸點以避免弧光放電。
汞弧燈為量測遠紅外光區光譜之光源,是由含有汞蒸氣(其壓力大於 1 atm)的一石英夾套試管組成。當電經過汞蒸氣時,會形成一內電 漿源,提供遠紅外光區所需的連續輻射。
2.偵測器:分為矽熱輻射偵測器(Si bolometer)及氘化三甘胺酸硫酸 鹽(deuterated triglycine sulfate, DTGS)焦熱電偵測器兩種。中紅 外光區光譜所使用的的偵測器是DTGS焦熱電偵測器,可在室溫下使 用,可偵測的頻率範圍大約在400~6000 cm-1,其原理是利用氘化三 甘胺酸硫酸鹽晶體夾在兩電極之間,藉由紅外線照射改變其溫度,同 時也改變晶體截面的電荷分佈,藉此可得知晶體於中紅外光區域之輻 射功率。遠紅外光區光譜光譜所使用的偵測器為矽熱輻射偵測器,裝 置如圖3.1.2所示。使用時需以液態氦降溫,當遠紅外光照射Si偵測器 時,其電阻值會變化,因此可藉此偵測輻射出之能量,可偵測範圍大 約在30~650 cm-1。
3.工作原理[11]:傅立葉轉換紅外線光譜儀的主要工作原理為邁克森干 涉現象,如圖 3.1.3 所示。當光源 S 發出一束非單色光後,在分光鏡 M 處分為兩部份的光,此時一部份的光穿透分光鏡 M 到達鏡子 M1
再反射至 M 處;另一部份光則被分光鏡 M 反射到鏡子 M2,再反射 到 M 處,其中 M1是可移動,M2是固定的。最後這兩束行經不同光 程的兩束光同時射入偵測器 D 中。如果我們量得 D 處光強度隨兩束 光之光程差變化的情形,再經由傅立葉轉換,即能獲得入射光之能譜。
假設入射光的電場函數形式為 i(kj r t j)
j
j E e
EK = K K ⋅K−ω+φ
0 ,其中EKj0
、 kKj
、ω、φj分別代表入射光之電場、波向量、角頻率及相位角,則兩 束光干涉後的強度為
( + ) (⋅ + )∗
= E1 E2 E1 E2
I K K K K
I1 I2 2EK1 EK2cosθ
⋅ + +
= , (3.1.1) 其中 I1 EK1 2
= ,I2 EK2 2
= , (3.1.2) 且 θ =kK1 ⋅rK−kK2 ⋅rK+(φ1 −φ2)
, (3.1.3) 若兩束光之振幅相同;(E1=E2,則I1=I2)且並假設其互相同調,
其相位差為零(ψ1-ψ2=0),則此時(3.1.1)式可簡化為
I =2I1(1+coskx) 。 (3.1.4)
若入射光為單色光,則在干涉儀上會顯示餘弦函數的干涉圖形。
但若入射光為非單射光,其功率頻譜為G(k =ω/c),因此干涉條紋強 度為
I( )x =∫0∞(1+coskx) ( )G k dk
=∫0∞ ( ) +∫0∞ ( )e +2e− dk k
G dk
k G
ikx ikx
= I( )+ ∫−∞∞G( )k eikxdk 2
0 1 2
1 , (3.1.5)
令 W( )x = ∫−∞∞G( )k eikxdk 2
1 , (3.1.6)
則 W( )x =2I( ) ( )x −I 0 。 (3.1.7)
( )0
I 為兩束光沒有光程差時的光譜強度,而W( )x 及G( )k 則形成一對 傅立葉轉換偶,所以
( ) ∫−∞∞ ( )
= W x e− dx
k
G ikx
π 2
1 。 (3.1.8)
( )x
W 是可從偵測器上量測到的光強度函數,則藉由傅立葉轉換可得 入射光的功率能譜。
3-2 光柵式分光光譜儀
本實驗使用光柵式分光光譜儀來量測近紅外光區(near infrared)、 可見光區(visible)至紫外光區(ultraviolet),頻率從3900 至52000 cm-1, 對應光子能量約為0.48 eV 至6.5 eV。光譜儀主要部份分為光源、偵 測器及光路,裝置如圖3.2.1所示,其介紹如下。
1.光源[9]:分為鎢絲燈及氘燈兩種。鎢絲燈是可見光和近紅外光輻射 最常見的光源,其波長範圍在350 ~ 2600 nm。此光源的能量分佈近 似於黑體輻射,故與溫度有關,實驗進行時,鎢絲燈的溫度約為2870 K,包覆鎢絲的玻璃封蓋限制其短波長輻射的範圍。氘燈為量測紫外 光區光譜實驗之光源,氘燈是紫外光區光譜實驗使用的光源,在低電
壓下以電激發氘分子的方式產生紫外光區的產生連續光譜。
2.偵測器:分為光電倍增管(photomultiplier tube,簡稱PMT)及光導電
度偵測器(photoconducting detector)兩種。可見光與近紅外光區光譜所
使用的偵測器是光導電度偵測器,其優點是可在室溫下使用,由於近 紅外波長範圍約為750~3000 nm,而硫化鉛是在此波長範圍內是最靈 敏的偵測器材料;主架構是將一層薄的硫化鉛化合物沈積在玻璃上構 成電池,再把整個組件密封在真空容器內避免與大器接觸。利用硫化 鉛會吸收此範圍的輻射而激發價帶價電子到較高能階的導態,因而降 低半導體的電阻,並且藉由產生的電位變化來偵測輻射光束的能量,
而得信號的強弱。紫外光區光譜的偵測器是光電倍增管。暴露在輻射 下,電子即會釋出,並會向代納(dynode)電極加速,當撞擊代納電極 後,每個光電子會引起更多電子的發射;電子再撞擊下一個電極而釋 出更多的電子,此過程重複九次後,每個光子約可產生106 ~ 107個電 子,而被收集在陽極上,藉此產生之電流而得到訊號。
3.光路:光源發生的光先經由兩單色儀(monochromator)分光,以增大角 色散提高系統的解析度,接著通過分光鏡分成兩束光,其中一束光不 經過樣品,作為校正之用;另一束光則經過樣品進行反射或穿透的光 譜實驗,最後的兩束光再經由凹面鏡和平面鏡導入偵測器中。做反射 光譜實驗時,光束是以與樣品法線方向夾 6°角入射至樣品,並且利用
鋁鏡(紅外光光譜則用金鏡),作為背景校正標準(Rbackground),再量測樣 品反射光的強度(Rsample),並以標準鋁鏡的反射率為校正值而求得正確 的反射光譜。
Alreference
background sample
out R
R
R = R × 。 (3.2.1)
3-3 光譜理論分析
3-3-1 電磁波在介質中的傳遞
當電磁波在介質中傳遞時,遵守馬克斯威爾方程式(Maxwell’s
equations)
4 1
1 4
0
free
f
D E B
c t
H D J B
c t c πρ
π
⎧∇ ⋅ = ∇ × = − ∂
⎪⎪ ∂
⎨ ∂
⎪∇× = + ∇ ⋅ =
⎪ ∂
⎩
K K K K K
K K K K K K , (3.3.1)
若考慮電磁波為平面單色波,則電場及磁場可以表示為
( ) ( )
{EK =E eKD i k rK⋅ −K ωt BK =B eKD i k rK⋅ −K ωt , (3.3.2) 並且電場滿足波動方程式
4 0
2 2 2 2
2 =
∂
− ∂
∂
− ∂
∇ t
E t c
E E c
K K K
K πμσ με , (3.3.3)
其中kK:波向量(wave vector) ,μ:磁導率(magnetic permittivity),σ : 電導率(conductivity),ε :介電係數(dielectric constant),ω :角頻率 (angular frequency)。將(3.3.2)式代入(3.3.3)式,可得一色散關係式:
⎟
⎠
⎜ ⎞
⎝⎛ +
⎟⎠
⎜ ⎞
⎝
=⎛
ω πσ
ω 4
1
2
2 i
k c , (3.3.4)
所以 ( )
1 2
1 4
k i
c
N n i
c c
c i
ω πσ
ω
ω ω κ
ω ε ε ε
= +
= = +
= = +
。 (3.3.5)
其中n及κ 為折射率N的實、虛部,而ε1及ε2為介電函數ε 之實部、
虛部。若令電磁波前進的方向kK// x軸,則(3.3.2)式中可寫為
K K
K
D D
行進波形式 振幅衰減項
e c t
i nx c t x
c x i c
x i n
e E e
E
E ⎥⎦ − ⎜⎝⎛ − ⎟⎠⎞
⎢ ⎤
⎣
⎡ ⎟−
⎠
⎜ ⎞
⎝ +⎛
⎟⎠
⎜ ⎞
⎝
⎛
=
= ω ωκ ω ωκ ω ω , (3.3.6)
其中電磁波的能量密度可由坡印亭向量(Poynting vector)求得
⎟⎠
⎜ ⎞
⎝
⎛
×
= ×
×
= 面積 時間
能量 μ
B H E
E S
K K K
K K
c x
x
e I e
c E S
I α
ε − ωκ = −
=
= K D D2 2 D
2 , (3.3.7)
比較(3.3.6)與(3.3.7)式,我們可以得到
吸收係數
c
α = 2ωκ , (3.3.8)
穿透深度
ωκ δ α
2
1 = c
= , (3.3.9)
此外,由(3.3.5)式可得其它光學參數間的關係如下
( )
⎪⎪
⎪
⎩
⎪⎪
⎪
⎨
⎧
= −
=
=
−
=
π ε σ ω
π σ ωε
κ ε
κ ε
4 4 1 2
1 2
2 1
2
2 2 1
n n
。 (3.3.10)
3-3-2 光學理論關係式
利用 Fresnel 公式,可計算出反射光與入射光電場強度的比值(反
射係數)γ[12]
cos cos cos cos
r i i t t
i i i t t
E N N
E N N
θ θ
γ θ θ
≡ = −
+ , (3.3.11)
其中 Ei及 Er分別為入射波及反射波的電場值,Ni為入射波所在介質 的折射率,Nt為穿透波所在介質的折射率;θi及θt分別為入射角及折 射角,在垂直入射時,其值皆以 0 代入,如圖 3.3.1 所示。在一般的 情況,Ni為入射波所在介質的折射率以空氣的折射率 1 代入,Nt為穿 透波所在介質的折射率,以複數形式表示為n+iκ ,則即 Eq (3.3.11) 變成
( )
( κ)
γ κ
i n
i n
+ +
+
= − 1
1 , (3.3.12)
其中n 是折射率(refractive index)及κ是衰減係數(extinction coefficient) 此時,反射率R 為
( )
( )
2 2 2
2 2
1 1
1 1
1 1
n ik n
R n ik n
γγ κ
κ ε
ε
∗ − − − +
= = =
+ + + +
= − +
(3.3.13)
( ε ε1 iε2 ε i4πσ N2
ω μ
= + ≡ + =
), (3.3.14)
2 2
1 2
=2
n k nk
ε ε
μ μ
= − , (3.3.15)
3-3-3 克拉馬-克羅尼關係式
若一線性被動系統響應的實部已知,利用克拉馬-克羅尼關係式 可 以 求 得 此 系 統 響 應 的 虛 部 , 反 之 亦 然 。 設 系 統 響 應 函 數 為
( ) '( ) "( )
f ω = f ω +if ω ,則克拉馬-克羅尼轉換式為。
( ) ( )
( )
( ) ( )
( )
2 2
0
2 2
0
2 ' "
' '
'
2 ' '
" '
'
f f d
f f d
ω ω
ω ρ ω
π ω ω ω ω
ω ρ ω
π ω ω
∞
∞
⎧ =
⎪ −
⎪⎨
⎪ = −
⎪ −
⎩
∫
∫
, (3.3.16)
其中ρ 表為柯西積分的主值。
因為反射係數為下式,
1 [ ( ) ( )] ( )
( ) '( ) "( ) ( )
1 [ ( ) ( )]
ln ( ) ln ( ) ( )
n ik i
i e
n ik
i ω ω ωφ ω
γ ω γ ω γ ω γ ω
ω ω
γ ω γ ω φ ω
− +
= ≡ + =
+ +
⇒ = +
, (3.3.17)
由(3.3.13)得
ln ( ) lnγ ω = R( )ω , (3.3.18)
由(3.3.17)和(3.3.18)
( ) ( ( )) ( ( ))
2 2
0
ln ' ln
2 '
'
R R
d
ω ω
φ ω ω ω
π ω ω
∞ −
= ∫ − , (3.3.19)
此項積分式由零積分至無窮大,但實際量測實驗無法涵蓋所有的頻率
範圍,因此,為了使積分範圍能包含紅外光頻率與紫外光頻率,在低 頻時,我們考慮絕緣體的樣品以常數做類似直流電性的外插;高頻為
~ s( 1 2)
R ω− S= − 指數函數遞減的外插。從(3.319)式裡的相位角φ ω( ),
代入(3.1.16)公式後,可得到
( ) ( )
( ) ( ) ( )
( ) ( ) ( )
( ) ( ) ( )
1
1 2 cos
2 sin
1 2 cos
n R
R R
R
R R
ω ω
ω ω φ ω
ω φ ω
κ ω ω ω φ ω
⎧ −
⎪ =
+ −
⎪⎨
⎪ =
⎪ + −
⎩
。 (3.3.20)
且再經由(3.3.10)式,求出樣品的其它光學參數。
3-3-4 介電函數之模型
1.基本模型:
介電函數之模型可分為居德模型(Drude model)和羅倫茲模型 (Lorentzian model):(i)居德模型:1900 年,居德提出此模型來解釋簡 單金屬(如鋰、鈉、鉀等之金屬)之電導率及熱導率。主要是用來敘 述電子在金屬內部的行為;(ii)羅侖茲模型:固體物質是由原子排列 所組成,而原子包含原子核及被其庫倫力束縛的電子。當受熱或光照 時,原子核與電子之間會產生振盪,此振盪可用彈簧振盪來模擬,此 即為羅侖茲模型。如圖 3.3.2 所示,中央白球代表原子核,四周的小 黑點代表電子,不同粗細的彈簧代表物質的異向性。羅侖茲模型適合 用於原子排列規則的樣品,如陶瓷、半導體等;若樣品結構的原子排 列無序,如玻璃等,則適合用高斯模型來擬合光譜曲線。本論文研究
之樣品為陶瓷材料,故使用羅侖茲模型來進行擬合。
若考慮電子對光的響應為阻尼諧振子系統在入射光作用下的受 激振盪,而ω0為共振頻率,則運動方程式可寫成
eE dt x
mdx dt
x
md22 +γ ⋅ +ω02 =− , (3.3.21)
其中m 是電荷的有效質量、x 是電荷間的距離、γ = 1τ 為電子碰撞 頻率(scattering rate)或消散係數(damping coefficient)、ω0為共振角頻 率、e 是電荷的電量。
假設EK =E eK0 −i tω xK =x eK0 −i tω , (3.3.22)
代入計算可推得
( )
0 0 2 2
0
1 x eE
m ω ω iγω
= − +
K K , (3.3.23)
其中電偶極矩(dipole moment) PK0 = −nexK0 =χeEK0 , (3.3.24)
,χe為電感應率(electric susceptibility),對應可得
( )
2
2 2
0 e
ne
m i
χ ω ω γω
= −
− + , (3.3.25)
則利用 ( ) ( )
2
2 2
0
1 4 e 1 4 ne
m i
ε πχ ω π
ω ω γω
= + = −
− + , (3.3.26)
引入 m
ne
p 2 4π 2
ω = 電漿頻率(plasma frequency),比較介電係數ε =ε1 +iε2
( ) ( )
( )
( ) ( )
⎪⎪
⎩
⎪⎪
⎨
⎧
+
= −
+
− + −
=
2 2 2 2
2 2
2 2 2 2 0
2 2 0 2
1 1
ω γ ω ω
γω ω ω
ε
ω γ ω ω
ω ω ω ω
ε
p p
, (3.3.27)
利用(3.3.22)、(3.3.23)、(3.3.24)得到
0
0 2 0 2
0 2
2 2
0
( )
( )
( )
i t
i t i t
P nex ne x e
P eE e
J ine x e ine
t m i
ne i
E E
m i
ω ω ω
ω ω
ω ω γω
ω σ
ω ω γω
−
− −
⎧⎪ = − = −
⎪⎪ ∂
⎪ = = =
⎨ ∂ − +
⎪⎪
= =
⎪ − +
⎪⎩
K K K
K K
K K
K K
, (3.3.28)
因為σ σ= 1+iσ2,所以
( ) ( )
( ) ( )
( )
2 2
1 2 2 2 2
0
2 2
2 0
2 2 2 2 2 2
0
4
4
p
p
ω γω
σ ω π ω ω γ ω ω ω ω σ ω ω
π ω ω γ ω
⎧ =
⎪ − +
⎪⎪⎨ −
⎪ =
⎪ − +
⎪⎩
, (3.3.29)
在羅倫茲模型中,我們由複數介電方程式得知
( ) ( )
( )
( ) ( )
⎪⎪
⎪
⎩
⎪⎪
⎪
⎨
⎧
+
= −
=
+
− + −
=
−
=
2 2 2 2 02
2 2
2 2 2 2 02
2 02 2 2
1 2
2
1
ω γ ω ω
γω ω ω
ε
ω γ ω ω
ω ω ω ω
ε
p p
nk k n
, (3.3.30)
其中γ 為電子碰撞頻率,ω0為原子與電子間共振頻率,ωp為電漿頻 率。利用(3.3.30)式計算求得 n 及 k
( )
( )
⎪⎪
⎪
⎩
⎪⎪
⎪
⎨
⎧
⎭⎬
⎫
⎩⎨
⎧ ⎥⎦⎤
⎢⎣⎡ + −
=
⎭⎬
⎫
⎩⎨
⎧ ⎥⎦⎤
⎢⎣⎡ + +
=
12 2 1
2 1 2 2 1
12 2 1
2 1 2 2 1
2 1 2 1
ε ε ε
ε ε
ε k
n
, (3.3.31)
再利用n、k 及(3.3.31)式求得 R。
我們探討介電函數的羅侖茲圖形,如圖3.3.3 所示。(i)當頻率趨 近於無窮大時,介電函數的實部ε1趨近於1。(ii)介電函數的虛部ε2是
一個吸收峰的形狀。中心位置是共振頻率ω0;吸收峰的高度正比於
2
ωp;吸收峰一半高度的寬度是消散係數γ [13]。
並使用羅侖茲模型去探討理論的反射和折射係數,如圖 3.3.4 所 示。模型以下四個頻率特性,如圖3.3.4 所示,
區域I:當ω<<ω0,則可得
⎪⎩
⎪⎨
⎧
=
=
>
−
=
0 2
1
2
2 1 2
nk k n ε
ε ,可得知在區域I 範圍內沒有
吸收的產生,在此區域有微弱的反射,以及強烈的穿透情形發生。
區域II:當ω ω≈ 0時,由圖3.3.4 得知 n 及 k 值皆很大,因此便可得知 有強烈吸收的情形,並且反射逐漸增加,而穿透相對的減少。
區域III:當ω0 <ω <ωp時,k 值降低,相對地產生微弱的吸收情形,
此區域具有強烈反射,而無穿透之情形發生。
區域 IV:當ω >>ωp時,k 值幾乎為零,使得沒有吸收的產生,此區
域反射變小,而穿透相對的增強[14]。
圖3.1 紅外光光譜示意圖。
圖3.1.1 FTIR spectrometer 裝置圖。其中 S:光源,A:光圈,D1 及 D2:
光偵測器。
圖3.1.2 Si Bolometer 偵測器構造圖。
圖 3.1.3 Michelson interferometer 示意圖。取材於文獻[11]。
圖3.2.1 光柵式分光光譜儀裝置及光路圖。
圖3.3.1 電磁波進入不同介質而產生穿透及反射的示意圖,此電場方 向垂直於入射平面。取材於文獻[12]。
圖3.3.2 羅侖茲模型示意圖。取材於文獻[11]。
ω0ω
0+γ/2
ω0-γ/2
ε2=ω
p 2/2γω
0
ε2=ωp2/γω0
ε2
ε1=1 ε
1
圖3.3.3 介電函數的羅侖茲模型圖[13]。
0 10 20
0 20 40 60 80
0 400 800
n , k
ε1
ε2 R
ε 1 , ε 2
0.0 0.4 0.8
R
ω(ev)
ω0 ω
p
n k
圖3.3.4 羅侖茲模型中光學參數n( )ω 、k( )ω 、ε ω1( )、ε ω2( )及反射率隨 頻率變化示意圖[14]。