第三章 結果與討論
3.5 電子給體材料聚乙烯 咔唑(PVK)之特性分析
3.5.8 聚乙烯咔唑之 DSC 分析
3.5.8 聚乙烯咔唑之 DSC 分析
圖3.42 為 PVK 於氮氣環境下,以 10 ℃/min 的升溫速度所得到第二 次 DSC 升溫曲線。在 DSC 升溫曲線中可看到 PVK 的玻璃轉移溫度為 124.6℃,較傳統 PVK 之 Tg (200℃)要低的許多,其為在本研究中所合成 PVK 之分子量較低的緣故。
圖 3.42 PVK 之 DSC 升溫曲線
135
3.6 電子受體材料 CdSe-PVK 之特性分析 3.6.1 CdSe-PVK 之 GPC 分析
以 ATRP 聚合 CdSe-PVK,當單體:起始劑為 100:1 時,其數目平均 分子量(M
n
)為 1172,重量平均分子量(Mw
)為 1275,其分子量分佈值(PDI) 為 1.09;當單體:起始劑為 50:1 時,其數目平均分子量(Mn
)為 1063,重 量平均分子量(Mw
)為 1167,其分子量分佈值(PDI)為 1.10;當單體:起始 劑為 30:1 時,其數目平均分子量(Mn
)為 911,重量平均分子量(Mw
)為 975,其分子量分佈值(PDI)為 1.07。由 GPC 測量結果得到,可以藉由控 制單體與起始劑比例去控制分子量,並得到狹窄分佈的分子量。本研究 中所進行材料特性分析皆使用數目平均分子量為 1172,重量平均分子量 為1275, PDI 為 1.09 之 CdSe-PVK。136
3.6.2 CdSe-OH、CdSe-BrIB、PVK 及 CdSe-PVK 之 FT-IR 光 譜
圖3.43 為 CdSe-OH、CdSe-BrIB、PVK 及 CdSe-PVK 之 FT-IR 光譜。
CdSe-OH 的部分,於波數 3445 cm-1有明顯的-OH 官能基特徵峰,波數為 1120 及 1040 cm-1之C-O 伸縮振動與 1630 cm-1之CO-H 彎曲振動特徵峰,
代表CdSe 粒子表面帶有大量氫氧基團。波數 1328-1415 及 2900-3000cm-1 具有 CH2彎曲振動及 C-H 伸縮振動,皆為 methylene group 官能基特徵 峰。在圖中沒有出現mercapto group 的特徵峰(2570 cm-1為mercaptoethanol 的S-H 官能基特徵峰位置),表示沒有 mercaptoethanol (ME)殘留,依此判 斷Cd2+與ME 之間為有機鍵結。而 CdSe-BrIB 除了上述官能基特徵峰外,
於波數1735 及 1040cm-1的位置有C=O 及 C-O-C 之官能基特徵峰出現。
PVK 及 CdSe-PVK 的部分,波數 1594、1484 及 1453cm-1為 carbazyl ring 上之C=C 伸縮振動,波數 1371 及 1327 cm-1為 C-N 震動特徵峰。此外,
在波數為 3048 cm-1的位置有 carbazyl ring 上之 C-H 官能基伸縮振動出 現。由 FT-IR 光譜 CdSe-OH、CdSe-BrIB、PVK 及 CdSe-PVK 之特有官 能基特徵峰,可判斷出 CdSe-OH、CdSe-BrIB、PVK 及 CdSe-PVK 合成 成功。
137
圖3.43 CdSe-OH、CdSe-BrIB、PVK 及 CdSe-PVK 之 FT-IR 光譜
4000 3000 2000 1000
PVK
CdSe-PVK CdSe-BrIB CdSe-OH
Trans m is sion (%)
Wavenumber (cm-1)
138
3.6.3 CdSe-BrIB 及 CdSe-PVK 之
1H NMR 圖譜
圖3.44 為 CdSe-PVK 以 CDCl3為溶劑之 1H NMR 之分析結果,其化 學 位 移 對 應 化 合 物 氫 原 子 的 位 置 如 圖 中(a)~(f)所示。圖中化學位 移 7.2~8.0 ppm 為 carbazyl ring 上的氫,化學位移 1.2 及 0.8 ppm 左右分別代 表碳鏈上的氫。由1H NMR 圖譜判斷得到 CdSe-PVK 合成成功。
圖3.44 CdSe-PVK 之1H NMR 圖譜
139
3.6.4 CdSe-OH、CdSe-PVK 及 PVK 之 UV-Vis 吸收光譜
圖3.45 為 CdSe-OH 於 THF 中、CdSe-PVK 薄膜及 PVK 薄膜之紫外 光-可見光吸收光譜,CdSe-OH 於 THF 中之吸收波峰位置在 394 nm 的位 置。PVK 薄膜之吸收波峰在 331 及 344nm 的位置與 CdSe-PVK 薄膜之吸 收波峰位置331 及 345nm 相似,為 carbazole ring 的 π-π* transition 吸收 波長位置。將紫外光-可見光吸收光譜經過 Tauc relation 轉換後以(αhν)2 對 hν 作圖得到圖 3.46,由其切線與 x 軸相切即可求得 CdSe-OH 於 THF 中所測得能隙約為2.86 eV,CdSe-PVK 薄膜測得能隙值為 3.46 eV。
300 400 500 600 700 800
CdSe-OH CdSe-PVK PVK
Absorbance
Wavelength (nm)
圖3.45 CdSe-OH 於 THF 中與 PVK 及 CdSe-PVK 薄膜之紫外光-可見 光吸收光譜
140
CdSe-PVK
80PVK
CdSe-OH: 2.86 eV
CdSe-PVK: 3.46 eV
PVK: 3.50 eV
141
3.6.5 CdSe-OH、PVK 及 CdSe-PVK 之 PL 光譜
圖3.47 為以 300 nm 激發波長下,CdSe-OH、PVK 及 CdSe-PVK 之螢 光放射光譜。CdSe-OH 於 THF 中其螢光放射光譜波峰位置為 535 nm,
由於受到 CdSe 的影響,使得 CdSe-PVK 溶於 THF 中之螢光放射光譜波 峰位置為399 nm。CdSe-PVK 固態薄膜所測得發光位置為 414 nm,與 PVK 吸收光譜比較,不論是固態薄膜或是溶於THF 中的 CdSe-PVK,由於 CdSe 的影響,皆出現紅移現象,與UV-Vis 觀察到的結果相符。此外,CdSe-PVK 的PL 強度較 PVK 低的許多,原因為 CdSe-PVK 材料電子給體及電子受 體間電子轉移的影響,造成PL quench 效應。
圖3.47 CdSe-OH、PVK 及 CdSe-PVK 之螢光放射光譜
350 400 450 500 550
CdSe-PVK film CdSe-PVK in THF CdSe-OH in THF PVK film
PVK in THF
Inte nsity
Wavelength (nm)
142
3.6.6 CdSe-PVK 之循環伏安圖
將CdSe-PVK 利用 spin coating 的方式於 ITO 玻璃上成膜當作工作電 極 、Ag/AgCl 當 作 參 考 電 極 及 白 金 線 當 作 相 對 電 極 於 0.1 M tetrabutylammonium perchlorate 之 acetonitrie/ AcOH (V/V=7/1)溶液中隨時 間進行線性掃描(50mV/s),得到 CdSe-PVK 之循環伏安圖譜(圖 3.48),由 圖中可標出 CdSe-PVK 之氧化電位 Eonset為 0.614 V。以二茂鐵之氧化還
-600 -400 -200 0 200 400 600 800 1000 1200 1400 -4.0x10-2
-600-400-200 0 200 400 600 800 100012001400 -0.02
-0.01 0.00 0.01
0.02 Fc/Fc+
Current Density (mA/cm2 )
E/mV vs. Ag/Ag+
143
3.6.7 CdSe-OH、PVK 及 CdSe-PVK 之 XRD 分析
圖3.49 為 CdSe-OH、PVK 及 CdSe-PVK 之 XRD 繞射光譜在 CdSe-OH 的部分,圖中2θ=25.4°, 42.6°及 49.8°分別代表 CdSe-OH 的晶體結構中 (111), (220)及(311)平面(JCPDS NO. 19-191),表示以濕式合成法製備 CdSe 奈米粒子會得到傳統的 Zinc Blend cubic 結構的 CdSe 奈米粒子,而 其他文獻使用熱 TOPO 或是微波的方式製備所得的 CdSe 奈米粒子為 hexagonal 結構。[105-106]由於以濕式合成法製備CdSe 奈米粒子時反應溫度 為35℃,故推測反應溫度為影響 CdSe 奈米粒子結構的重要因素。由 XRD 繞射光譜藉由Scherrer formula 估算得到 CdSe-OH 奈米粒子之平均粒徑約 3.3 nm。CdSe-PVK 的部分,除了與 PVK 相同的繞射峰外,也可看到其 (111), (220)及(311)平面的出現,由此可知 CdSe-PVK 合成成功。
圖3.49 CdSe-OH、PVK 及 CdSe-PVK 之 X 光繞射光譜
10 20 30 40 50 60
CdSe-PVK PVK
CdSe-OH
Re la tive In te nsity
Degree (2
)
144
3.6.8
CdSe-OH、CdSe-BrIB、PVK 及 CdSe-PVK 之 TGA
圖 3.50 為氮氣環境下以 10 ℃/min 的升溫速度由 40 ℃至 800 ℃所 得到的TGA 熱重分析圖。圖中 CdSe-OH 的起始裂解溫度遠高於乙硫醇 之沸點(157℃),表示 CdSe 與硫醇間鍵結十分穩定。CdSe-BrIB 之起始裂 解溫度較 CdSe-OH 低且有多階段的裂解,可能為 BrIB 鏈段與硫醇分子 有分段裂解所導致。PVK 在 700℃以上幾乎沒有殘渣剩餘,為有機高分 子共同之特徵。與PVK 比較,CdSe-PVK 的耐熱性透過與無機化合物結 合而被提高,剩餘19.7%的殘渣為 CdSe 奈米粒子。
100 200 300 400 500 600 700 800
0
Temperature (oC)
圖3.50 CdSe-OH、CdSe-BrIB、PVK 及 CdSe-PVK 之熱重分析圖
145
3.6.9 PVK 及 CdSe-PVK 之 DSC 分析
圖3.51 為 PVK 及 CdSe-PVK 於氮氣環境下,以 10 ℃/min 的升溫速 度所得到第二次 DSC 升溫曲線。在 DSC 升溫曲線中可看到 PVK 及 CdSe-PVK 的玻璃轉移溫度(Tg)分別為 124.6 及 107.8℃,兩者皆較傳統 PVK 低(約 200℃),此乃因本實驗所製備之 PVK 及 CdSe-PVK 上所接枝 的PVK 段分子量較低所導致。此外,比較 CdSe-PVK 與 PVK 之 Tg,發 現CdSe-PVK 之 Tg 較低,推測原因為 CdSe-PVK 為具有許多分枝之星狀 聚合體,使得分子鏈段有空間可以伸展。
圖 3.51 PVK 及 CdSe-PVK 之 DSC 升溫曲線
146
3.6.10
CdSe-PVK 之 SEM 分析
圖 3.52 (a)為 CdSe-PVK 以 SEM 觀察其表面形態的影像,呈現一顆 顆圓球串珠狀包覆在CdSe 奈米粒子外的為有機高分子 PVK。圖 3.52 (b) 及圖3.52 (c)為分別以 Cd 及 Se 元素 mapping 的結果,証實 CdSe 均勻地 分佈於PVK 基相中。
圖3.52 (a) CdSe-PVK 於 SEM 中之表面形態; (b)CdSe-PVK 之 Cd mapping 圖; (c)CdSe-PVK 之 Se mapping 圖
(a)
(c) Se mapping
(b) Cd mapping
147
3.6.11 CdSe-OH、CdSe-BrIB 及 CdSe-PVK 之 EDS 分析
圖3.53 至圖 3.55 分別為 CdSe-OH、CdSe-BrIB 及 CdSe-PVK 之 EDS 圖譜,並將其結果整理於表 3.1。EDS 分析結果得到在 CdSe-OH、
CdSe-BrIB 及 CdSe-PVK 中 Cd 與 Se 之比例皆接近 1:1 ,代表 CdSe-PVK 是被成功合成的。另外,也發現了其他相關元素的存在以及 C 之比例明 顯比具羥基之硒化鎘粒粒子來的高,間接證明了 CdSe-PVK 合成成功。
表3.1 CdSe-OH、CdSe-BrIB 及 CdSe-PVK 之 EDS 結果
Element CdSe-OH CdSe-BrIB CdSe-PVK wt% At% wt% At% wt% At%
Cd 47.75 19.45 14.83 3.85 18.12 4.02 Se 31.95 18.53 10.48 3.87 20.69 4.90 C 10.85 41.37 30.62 74.35 52.93 81.43 S 4.45 6.35 0.78 0.71 - -
Br - - 30.42 11.10 - -
O 5.00 14.30 2.52 4.59 8.25 9.65
圖3.53 CdSe-OH 之 EDS 圖譜
148
圖3.55 CdSe-PVK 之 EDS 圖譜 圖3.54 CdSe-BrIB 之 EDS 圖譜
149
3.6.12 CdSe-OH 及 CdSe-PVK 之 TEM
圖 3.56 (a)為 CdSe-OH 奈米粒子之 TEM 影像,由圖中可觀察到 CdSe-OH 的粒徑約 6-12 nm 左右,在 TEM 下看到的 CdSe-OH 奈米粒子 較XRD 及 UV-Vis 估算的粒徑大的多,是因為由 XRD 或 UV-Vis 估算到 的是單一顆CdSe-OH 奈米晶體的粒徑,而 TEM 中觀察到的是 CdSe-OH 奈 米 晶 體 為 了 降 低 其 高 表 面 能 而 團 聚 的 影 像 。 圖 3.56 (b) 及 (c) 為 CdSe-PVK 之 TEM 影像,圖中可觀察到 CdSe-PVK 粒徑約 400 nm 左右,
由於 CdSe 奈米粒子之比重較 PVK 大,故在電子束照射下可看見 CdSe 奈米粒子在中心呈現較深的顏色,而週圍 PVK 則顏色較淡,表示 PVK 均勻地包覆在CdSe 奈米粒子的表面。
圖3.56 (a)CdSe-OH 之 TEM 影像, (b)及(c)為不同倍率下 CdSe-PVK 之 TEM 影像
(a) (c) (b)
150
3.6.13 CdSe-OH 及 CdSe-BrIB 之元素分析(EA)
表3.2 為 CdSe-OH、CdSe-BrIB 及 CdSe-PVK 之元素分析結果,我們 可以由此去估算 CdSe-OH 中羥基佔 1.22×10-5 mol/g,CdSe-BrIB 中順利 接上 BrIB 官能基的佔 6.4×10-6 mol/g,即可得到 CdSe-OH 反應至 CdSe-BrIB 之轉化率為 52.46%。
Weight (mg) C (wt%) H (wt%) C:H (real At%)
C:H (ideal At%) CdSe-OH 4.89 6.01 1.29 1:2.58 1:2.50 CdSe-BrIB 2.66 28.42 6.64 1:2.80 1:1.67
表3.2 CdSe-OH 及 CdSe-BrIB 之元素分析結果
151
圖3.57 TiOX及TiO2之紫外光-可見光吸收光譜
300 400 500 600 700 800
TiO2 TiOx
A b sorbance
Wavelength (nm)
3.7 光學阻隔層(Optical spacer layer)材料之特性分析 3.7.1 光學阻隔層材料之 UV-Vis 吸收光譜
圖3.57 為薄膜態 TiOX及TiO2之紫外光-可見光吸收光譜,經過 Tauc relation 轉換後以(αhν)2對hν 作圖得到圖 3.58,由其切線與 x 軸相切即可 求得TiO2及TiOx之能隙分別為3.50 及 3.81 eV。由紫外光-可見光吸收光 譜可證明TiO2及TiOx的吸收波長落於太陽光譜內。
152
153
3.7.2 TiO
x之循環伏安圖
將 TiOx利用 spin coating 的方式於 ITO 玻璃上成膜當作工作電極、
Ag/AgCl 當 作 參 考 電 極 及 白 金 線 當 作 相 對 電 極 於 0.1 M tetrabutylammonium perchlorate 之 acetonitrie/AcOH (V/V=7/1)溶液中隨時 間進行線性掃描,得到TiOx之循環伏安圖譜(圖 3.59),由圖中可標出 TiOx
-500 0 500 1000 1500 2000
0.0
-600 -400 -200 0 200 400 600 800 100012001400 -0.02
-0.01 0.00 0.01
0.02 Fc/Fc+
Current density (mA/cm2 )
E/mV vs. Ag/Ag+
154
3.7.3 TiO
x之 XRD 分析
圖3.60 為 TiOx在室溫下成膜並經過150℃退火後之 X 光繞射圖譜,
可得其為amorphous 結構。
10 20 30 40 50 60
Int ens it y
Degree (2)
圖3.60 TiOx之X 光繞射光譜
155
3.7.4 TiO
x之 SEM 及能量散射光譜(EDS)
圖3.61 為在銅膠帶上 TiOx於SEM 下之表面形態及其能量散射光 譜。由TiOx之EDS 分析結果得到,Ti:O 之原子比例為 37.93 : 51.65 (%) 左右,代表所製備的TiOx中的x 約在 1~2 之間,表示 TiOx被成功合成。
EDS Quantitative Results
Element Wt% At%
O K 20.10 51.65 Ti K 44.19 37.93 Cu K 6.76 4.38 Au L 28.95 6.04
圖 3.61 TiOx薄膜之 SEM 下之表面形態及其能量散射光譜
156
3.8 太陽能電池元件之 I-V 特性及效率探討
本節討論不同光電高分子應用於高分子型太陽能電池中,以不同條 件構裝成元件後之I-V 特性探討,表 3.3 為元件構裝總表。
Device HTL Active layer Optical Spacer
temp
(℃) time
(min) solvent p-type n-type
1 PDPA(I):DBSAa P3HT PCBM none 150 30 DCB 21 PEDOT:PSS P3HT CdSe-PVK none 150 30 DCB+OT 22 PEDOT:PSS P3HT PCBM TiOx 150 30 DCB 23 PEDOT:PSS P3HT PCBM TiO2 150 30 DCB
a:PDPA(I):DBSA:Mw=689, Mn=728, PDI=1.061; b: PDPA(II):DBSA: Mw=1732, Mn=1916, PDI=1.106; c: PTPA(I):DBSA:
Mw=843, Mn=859, PDI=1.019; d: PTPA(II):DBSA:Mw=2553, Mn=2834, PDI=1.11
表3.3 太陽能電池元件構裝總表
157
3.8.1 不同電洞傳輸層材料與其分子量對元件 I-V 特性之影響
3.8.1.1 使用不同分子量之聚二苯胺為電洞傳輸層材料
本 節 將 討 論 不 同 電 洞 傳 輸 層 材 料 分 別 應 用 於 ITO/HTL/P3HT:PCBM/Al 元件結構中對 I-V 特性及元件效率的影響。為 了討論不同分子量對其造成的影響,配置兩種不同分子量但濃度皆為 20 mg/ml 的 PDPA:DBSA(w/w=1:1)將其溶於 DCB 中,於 5000 rpm, 120 s 條 件下旋轉塗佈於已洗淨的 ITO 玻璃上,並固定活化層材料及其退火條件 為150℃下維持 30 min 與蒸鍍金屬鋁的厚度 100 nm。
圖3.62 為元件結構為 ITO/HTL/P3HT:PCBM/Al 時,使用不同分子量 之PDPA:DBSA 及 PEDOT:PSS 當作電洞傳輸層材料之 I-V 曲線,其 I-V 特性及其效率整理如表3.4。
根據上述圖表結果,PDPA:DBSA 確實可以取代 PEDOT:PSS 當作電 洞傳輸層,分子量方面的影響不大,可能是因為分子量低或是分子量差 距不夠大使其對元件影響沒有規則的變化。
158
PDPA(I):DBSA PDPA(II):DBSA PEDOT:PSS V
oc(V)
0.557 0.501 0.557J
sc(mA/cm
2)
11.20 9.49 10.90FF (%)
32.38 29.91 32.74η (%)
2.02 1.42 1.99表3.4 不同分子量 PDPA 與 PEDOT:PSS 於 ITO/HTL/P3HT:PCBM/Al 元件結構中之 I-V 特性及其效率比較
圖3.62 不同分子量 PDPA 與 PEDOT:PSS 於 ITO/HTL/P3HT:PCBM/Al 元 件結構中之I-V 曲線
159
3.8.1.2 使用不同分子量之聚三苯胺為電洞傳輸層材料
為了討論不同分子量聚三苯胺對其造成的影響,配置兩種不同分子 量但濃度皆為 20 mg/ml 的 PTPA:DBSA(w/w=1:1)將其溶於 DCB 中,於 5000 rpm, 120 s 條件下旋轉塗佈於已洗淨的 ITO 玻璃上,並固定活化層 材料及其退火條件與蒸鍍金屬鋁的厚度。
圖3.63 為固定元件結構為 ITO/HTL/P3HT:PCBM/Al 時,使用不同分 子量之PTPA:DBSA 及 PEDOT:PSS 當作電洞傳輸層材料之 I-V 曲線,其
圖3.63 為固定元件結構為 ITO/HTL/P3HT:PCBM/Al 時,使用不同分 子量之PTPA:DBSA 及 PEDOT:PSS 當作電洞傳輸層材料之 I-V 曲線,其