第一章 緒論
1.2 非線性晶體的比較與選擇
Tantalate, CLT)做為非線性頻率轉換之晶體。近年來,等化學計量比鉭 酸鋰(Stoichiometric Lithium Tantalate, SLT)以及摻氧化鎂等化學計量比
表1.2-1 三種常用非線性晶體之特性比較
鉭酸鋰(MgO Doped Stoichiometric Lithium Tantalate, MgO:SLT),已被成 功地生長出來,兩者皆具有較好的抗光折變效應(Anti-Photorefractive Effect)及較高的抗損害閥值(Anti-Damage Threshold),但其價格較為昂 貴,所以實驗中仍以共融組成鉭酸鋰為主。
1.3
ric Phase),鋰離子 1.3-ctric Phas 離子與鋰離
所需外加的最小電場稱為矯頑電場(Coercive Field),鉭酸鋰的矯頑電場 約為21 kV/mm。超過居里溫度時,穩定態之間的位能障壁會消失,故 鉭酸鋰的極性亦完全消失。
圖1.3-2 鐵電相時,鋰離子在氧平面附近的位能圖
在圖1.3-2 中顯示,兩個穩態所處的能量並不相同,故要將鋰離子 由第一個穩定態激發到第二個穩定態,和從第二個穩態激發到第一個 穩態,所需的能量並不相同,這是由於內建電場(Internal field) 造成的 結果。要注意的是,內建電場的形成原因不同於內建電偶極。內建電 場的來源,是因在鉭酸鋰晶體長晶的過程中,Li2O : Ta2O5的比例並非 50 % : 50 % 而是 48.6 % : 51.4 %所造成,而這個特殊的比例,便是共 融組成鉭酸鋰的長晶調製比例。
Li+
(
1.4 週期性區域反轉之製作方式
常見的鉭酸鋰製作週期性極化反轉的方式有質子交換法、鎳內擴 散法、層狀結構長晶控制法8,及電子束掃描法9等。這些方法雖可導致 鉭酸鋰的區域反轉,但是只能製作小面積且較淺的區域性極化反轉結 構,且速度慢,不適合大量生產。高電壓致區域反轉法可快速製作大 面積、均勻度高之塊狀晶片,為現今區域反轉是最為廣泛使用的方法
10,11。
由實驗室自行研發的鎳金屬內擴散混和高電壓致區域反轉法製程 技術,已趨成熟,本篇論文所用之鉭酸鋰晶體,均使用此製程方法製 作。製程大致流程如下:
以制式清洗程序潔淨鉭酸鋰晶體表面,並利用黃光製程,於晶體的 +Z 面製作一維或二維週期性塊狀結構,再以濺鍍機制成長一適當厚度 的鎳金屬層,經由掀離法(Lift Off)完成二維週期性孔洞結構。此週期性 結構目的為規範高溫燒烤機製的有效擴散區域,以強化區域反轉機制 的作用,擴散完畢後,以王水移去晶體表面殘存鎳氧化物,再鍍上金 屬電極並進行高電壓極化反轉,製作出週期性極化反轉鉭酸鋰晶體。
1.5 光參振盪器簡介
波長可調式的雷射光源可應用在許多領域,諸如分子光譜檢測、
牙科手術、遙感技術以及光通訊等等領域。傳統雷射的最大缺點是其 無法涵蓋所有波段,即使波長可調,往往範圍也不夠大。利用非線性 光學原理的光参振盪器(Optical Parametric Oscillator, OPO)為此提供一 解決的方法,其具有波長可調範圍大,架構簡單等等的優點,因而被 廣泛的研究與應用。
光參振盪(Optical Parametric Oscillation, OPO)的基本現象來自於光 參產生(Optical Parametric Generation, OPG)。光參產生的過程中,一較 高能量的泵浦光(Pump)光子(
ω
p)經過一塊非線性晶體,分裂為兩個較低 光進行高反射鍍膜,稱之為Singly Resonant Oscillator(SRO),具有波長 輸出穩定之特性。圖1.5-1 為一光参振盪器之示意圖。將泵浦光打入一個光參振盪器
中,泵浦光即被轉換成信號光和閒置光,又因加入了共振腔之故,光 參振盪較光參產生具有較低的泵浦閥值 (Pump Threshold)。共振腔鏡的 反射率愈高,閥值愈低。此外,光參振盪也較光參產生具有較窄的頻 寬。
圖1.5-1 光參振盪器架構示意圖
理論上來說,如果泵浦光屬於紫外光波段,則藍光信號光與紅光 閒置光極有可能同時產生,此點為雷射顯示或雷射電視的應用提供一 個發展的方向12。
本篇論文提供另外兩種以光參振盪器為基礎的方式實現藍光的產 生,名為級聯倍頻光參振盪器(Cascading Optical Parametric Oscillator Second Harmonic Generation) 及 自 倍 頻 光 參 振 盪 器 (Self-Doubling Optical Parametric Oscillator)。兩者皆為光參振盪器共振的同時,產生 由信號光倍頻之藍光,故又稱做光參振盪藍光產生器。
ωi
(Idler)
ωp=ω
s+ω
iχ(2)
(Pump)
ωs
(Signal)
1.6 論文內容概述
本篇論文做為光參振盪器及倍頻之用的週期性極化反轉鉭酸鋰 (Periodical Poled Lithium Tantalite, PPLT)非線性晶體,除一片 MgO:SLT 晶體由中央研究院原子與分子科學研究所的孔慶昌老師提供外,其餘 由本實驗室成員製作。
論文之大綱如下。第二章將介紹到非線性頻率轉換、雙折射相位 匹配、一維/二維準相位匹配以及光參振盪器相關理論;第三章對晶體 週期設計及光參振盪藍光產生器之數值模擬有詳細討論;第四章光學 測量的部分,二維藍光倍頻實驗、光參振盪器的轉換效率及波長特性 以及光參振盪藍光產生器均有定性及定量的測量結果與分析。最後第 五章為結論與未來之展望。
第二章 頻率轉換與光參振盪器相關理論
2.1 非線性頻率轉換與相位匹配
非線性介質中的光場傳播可用下列波動方程式表示:
(2.1-1)
(2.1-2)
及ε 為 空 氣 中 的 導 磁 係 數 (Permeability) 與 介 電 常 數 (Dielectric Constant), 為介質的折射率, 為磁化率(Susceptibility),為一張量,
可展開為光場的函數:
(2.1-3)
屬於線性光學的範疇,一般所見的反射、折射、繞射等皆由此 項所造成,而 是造成柯爾效應(Kerr Effect)、光折變(Photorefractive Effect) 等 效 應 的 主 要 因 素 。 僅 存 在 非 中 心 對 稱 (Non-Centro-Symmetric)的晶體中,是造成非線性頻率轉換如倍頻、和 頻及差頻等現象最重要的參數。
以和頻為例,考慮三種不同頻率的單頻光在非線性晶體中傳播,
、 為入射光頻率, 則是輸出光頻率。輸入與輸出波之間為能量 守恆關係 。假設光在晶體中沿著 x 方向傳播,其光場可 表示為:
, 1
以二倍頻(Second Harmonic Generation, SHG)為例, , 2 2 ,在 及 強光場的作用下,假設基頻光強度遠大於 二倍頻光強度,利用平面波近似,經過晶體作用長度 L 後,可推得二 倍頻的轉換功率:
(2.1-7)
由式(2.1-7)可以看出,倍頻轉換效率主要決定於最後一項 sinc 函 數。當 0時,就是所謂的相位匹配(Phase Matching),二倍頻的輸 出功率會隨著在晶體中作用長度的平方關係快速地增加。而 0要 成立,由式(2.1-6)可知,需滿足 。
然而,實際上用來當作光源的雷射為高斯光束(Gaussian Beam),
而式(2.1-7)為假設入射光是平面波推導所得。電場形式須把高斯光束發
散的情況考慮進去, / 。其中, 為基頻光之最小
光束半徑(Beam Waist)。高斯波假設的情況下,所用到的截面積可以最 小 光 腰 處 之 截 面 積 置 換 。 而 利 用 雷 射 光 束 在 瑞 利 長 度 (Rayleigh Length;2z0)內光束發散並不會很大,我們設計晶體長度使符 合 2 ,並使最小光束半徑位於作用晶體長度 L 中間,
此為所謂共聚焦條件(Condition of Confocal Focusing)。把共聚焦條件代 入式(2.1-7)中,最佳二倍頻轉換效率可簡化為:
∆
∆ (2.1-8)
由上式可知,在滿足共聚焦條件下,轉換效率與晶體長度和基頻 光功率成正比關係,而不是前述之與晶體長度平方成正比13。
2.2 雙折射相位匹配
非等向性晶體(Anisotropic Crystals)中,相同傳播方向但不同極化 方向的光,有著不同的折射率,以單軸(Uniaxial)晶體為例存在普極 (Ordinary)折射係數 與非普極(Extraodinary)折射係數 ,其關係式 如下所示:
(2.2-1)
若 ,則稱為正單軸晶體(Positive Uniaxial Crystals);若
,則稱負單軸晶體(Negative Uniaxial Crystals)。因此我們可以 利用其存在雙折射係數(Birefringence)的特性,加以選擇適當入射晶體 的角度,便可使得基頻光在晶體中的折射係數恰等於倍頻光之折射係 數,則基頻光與倍頻光可以相同的相速度(Phase Velocity)行進,稱之 為雙折射相位匹配(Birefringence Phase Matching, BPM)。
利用雙折射性質形成相位匹配,依照相位匹配方式的不同,又可 分為臨界相位匹配(Critical Phase Matching, CPM)與非臨界相位匹配 (Non-Critical Phase Matching, NCPM)兩種。臨界相位匹配是單純的利 用晶體雙折射特性,選擇適當的極化方向與入射角度,補償正常的色
2. Type II Phase Matching :
o ray e ray o ray
其中第一型相位匹配(Type I Phase Matching) 表示由兩個處於普 極化頻率 ω 光子合成一個處於非普極化頻率 2ω 光子,或是由兩個處 於非普極化頻率 ω 光子合成一個處於普極化頻率 2ω 光子;第二型相 位匹配(Type II Phase Matching)則由不同極化態的光子合成。以第一型 相位匹配為例,在一負單軸晶體當中,其 ω 與 2ω 光的折射率與入射 Optical Axis
Nonlinear Crystal
SHG
Optical Axis
在負單軸晶體中,對於給定的基頻光,可以計算出產生二倍頻且 時,非線性頻率轉換可接受角(Acceptance Angle),由式(2.1-8)可知:
∆ (2.2-4)
率,但相對的將減小晶體的可接受角,進而又影響到倍頻轉換效率。 分離角(Walk-Off Angle)。
圖2.2-2 分離角示意圖
Optical Axis
Nonlinear Crystal
SHG Wave
Fundamental Wave Fundamental Wave
變化大,適當調變晶體溫度,使得倍頻光與基頻光之折射率相同。雖 然藉由調整晶體溫度可以改變倍頻光與基頻光在晶體中之折射率,然 而倍頻晶體本身的折射率也會因溫度改變而有所變化,使得倍頻的轉 換效率受限於倍頻晶體的溫度頻寬。當倍頻晶體因溫度變化而導致折 射率改變時,易使相位匹配的程度變差。如式(2.2-9)所示,晶體長度越 長,倍頻的溫度頻寬將越小,當溫度頻寬過小時,就必須對倍頻晶體 做溫度控制,以維持最佳的倍頻轉換效率。
∆ 0.443 (2.2-9)
ΔT:溫度頻寬
Tm:達相位匹配時的臨界溫度
綜合上述各點,利用雙折射相位匹配法可達到完美的相位匹配,
但對鉭酸鋰晶體來說,其無法使用到最大的二階非線性係數d33。再者,
一般利用雷射當基頻光光源時,還會遇到如空間離散和可接受角的限 制,空間離散使得倍頻光隨著晶體長度增加而與基頻光漸行漸遠,且 產生之倍頻光能量不集中;而可接受角則限制了轉換的效率,超過可 接受角之外的基頻雷射光無法轉換為二倍頻,形同浪費。而非臨界相 位匹配則礙於可調的溫度範圍,可倍頻的基頻光範圍也隨之受限。故 在使用雙折射相位匹配法時須注意以上諸多條件而極受限制。
2.3 一維空間的準相位匹配
哈佛大學的 Bloembergen 教授於 1962 年首次提出準相位匹配
(Quasi Phase Matching, QPM)的概念5。其基本構想是透過週期性結 構調變晶體的非線性係數,提供入射光進行非線性頻率轉換所需之特 定大小光柵動量,避免因相位不匹配引起破壞性干涉,造成頻率轉換 的能量無法持續累積。圖2.3-1 為準相位匹配結構示意圖:
由傅立葉分析得知,這樣的結構將提供某些特定的光柵動量,此
由傅立葉分析得知,這樣的結構將提供某些特定的光柵動量,此