而初鍍之氧化鎳薄膜穿透率會隨著 製程中所通入的氧氣增加而下降

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第五章 結論

(1) 以不同氧氣流量所製備之氧化鎳薄膜，其表面粗糙度將趨於一致。以 4-1、4-3 節實驗的製程參數所製備出之電致色變氧化鎳薄膜均是成非 結晶狀。

(2) 以反應式磁控濺鍍法所製備之氧化鎳薄膜，在製程中通入過多或過少 的氧氣流量，都會對其電致色變性能造成負面的影響，因此反應性氣 體氧氣的流量乃需要一個適當值。而在本實驗中，當氧氣流量為 20 sccm 時，有最大的ΔT=27.88 %。而初鍍之氧化鎳薄膜穿透率會隨著 製程中所通入的氧氣增加而下降。

(3) 鍍膜時間超過 135 min 時，即開始出現(200)的從優取向。在電化學檢 測方面，鍍膜時間越長的薄膜在循環伏安法裡擁有越大的封閉面積，

表示薄膜具有較大的電荷容量(charge capacity)。而在階梯電位法上鍍 膜時間越長的薄膜需要越久的電致色變響應時間。鍍膜時間越長的試 片在ΔT 上有越佳的表現，在實驗中當鍍膜時間為 180 min 時，有最 大的ΔT=43.44 %。

(4) 由 XRD、循環伏安法、階梯電位法來檢測製程中摻雜氮氣的氧化鎳薄 膜，可以發現有摻雜氮氣的氧化鎳薄膜與單純的氧化鎳薄膜在晶體結 構、電化學性質上的表現是類似的。在光學性質方面，摻雜氮氣量越 多的氧化鎳薄膜擁有越高的初鍍穿透率，而對所有的試片而言去色穿 透率的表現是一致的。氧化鎳薄膜的△T 會隨著摻雜氮氣的流量增加 而減少，當氮氣流量大於 5 sccm 時，薄膜幾乎失去其電致色變的能力。