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第二章 文獻回顧

第一節 台灣上市櫃電子業租稅規劃策略運用情形

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第二章 文獻回顧

本研究著重於探討租稅規劃策略如何影響公司營運績效,藉此瞭解何種租稅 規劃最能極大化股東利益及租稅規劃策略是否有助於提升企業價值。本章彙整台 灣上市櫃電子業常用的租稅規劃策略與相關文獻,並進一步分析與探討。

由於其他業別的資料不齊全或樣本數目太少,台灣電子業家數相對較多,因 此,本研究以台灣上市櫃電子業為研究對象,第一節探討台灣上市櫃電子業如何 運用租稅規劃與其目的;第二節探討影響營運績效的衡量方式與決定因素。

第一節 台灣上市櫃電子業租稅規劃策略運用情形

本研究主要探討台灣上市櫃電子業公司運用國際間常用的租稅規劃策略、安 排與營運績效之關聯,並分析各種租稅規劃策略的運用形態之利弊。企業各式牽 涉到所得稅計算時的費用扣抵,皆可以達成某部分的節稅效果,本研究僅著重於 於三大租稅規劃策略,其因為此三項租稅規劃策略乃電子業近幾年極力佈局的方 向,再加上研究發展支出不僅有費用稅盾,還有政府獎勵投資抵減的誘因,國際 租稅規劃方面,租稅天堂、偏離常規移轉訂價議題成為近幾年來國際反避稅的趨 勢,因此本研究僅針對此三項租稅規劃策略進行深入分析探討。

一、租稅規劃方式與目的

租稅規劃涉及合法的節稅與避稅方式降低企業租稅負擔,節稅是指企業依據 稅法的本質與形式之規範,意圖降低租稅負擔,而避稅則是利用稅法形式符合課 稅要件,但背於稅法本質,兩種行為皆屬合法行為,但是若經濟行為被認定為避 稅行為時,可能發生補稅處分。若交易行為被認定為逃稅時,即指企業以不正當 手段隱瞞課稅事實,屬於違法行為,其風險將擴及罰款與刑事罰,將嚴重損及企 業。

因此租稅規劃之目標應該在節稅的範圍內,並應將其稅務風險限制於原先所 欲規避之稅負。若企業之租稅規劃行為被認定為不合營業常規或其他違反實質經 濟歸屬的情形,而構成脫法避稅之範圍時,主關機關將依其實質加以調整並懲罰。

因此,在租稅規劃時必須十分謹慎。

(一)、 運用研究發展支出作為稅盾

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以台灣上市櫃電子業公司常見的投入研究發展節稅為例,依照一般公認會計 原則,企業投入研究發展可於當期費用化,達到稅盾的效果。此外,投入研究發 展活動支出亦可適用國內投資抵減等相關租稅獎勵優惠。台灣自從民國四十九年 以來為了加速經濟發展、改善投資環境,制定獎勵投資條例,於民國七十九年由 促進產業升級條例取代,民國九十八年落日並由產業創新條例取代,透過政府提 供投資抵減降低企業投資的租稅成本以增加企業投資誘因,配合政府推動產業升 級,現行電子業公司可運用之研究發展支出投資抵減金額與方式規定如下:

1. 根據民國104 年 12 月 30 日修正後之產業創新條例第 10 條規定,為促進產 業創新,最近三年內無違反環境保護、勞工或食品安全衛生相關法律且情節重大 情事之公司投資於研究發展之支出,公司得選擇在同一課稅年度內得在投資於研 究發展支出金額15%限度內,抵減當年度應納營利事業所得稅額,並以不超過該 公司當年度應納營利事業所得稅額30%為限。

2. 根據民國103 年 09 月 30 日修正後之營利事業所得稅查核準則第 86 條的研 究發展費包括營利事業為研究新產品或新技術、改進生產技術、改進提供勞務 技術及改善製程所支出之下列費用:

(1)、 研究發展單位專門從事研究發展工作之全職人員之薪資。

(2)、 生產單位為改進下列生產技術或提供勞務技術之費用:

I. 提高原有機器設備效能。

II. 製造或自行設計生產機器設備。

III. 改善儀器之性能。

IV. 改善現有產品之生產程序或系統。

V. 設計新產品之生產程序或系統。

VI. 發展新原料或組件。

VII. 提高能源使用效率或廢熱之再利用。

VIII. 公害防治或處理技術之設計。

(3)、 具 有 完 整 進 、 領 料 紀 錄 , 並 能 與 研 究 計 畫 及 紀 錄 或 報 告 相 互 勾 稽 專供研究發展單位研究用消耗性器材、原材料及樣品之費用。

(4)、 專供研究發展單位研究用全新儀器設備之當年度折舊費用。

(5)、 專供研究發展單位用建築物之折舊費用或租金。

(6)、 專為研究發展購買或使用之專利權、專用技術及著作權之當年度攤折或支 付之費用。

(7)、 委託國內大專校院或研究機構研究或聘請國內大專校院專任教師或研究 機構研究人員之費用。所稱研究機構,包括政府之研究機構、準醫學中心以上 之教學醫院、經政府核准登記有案以研究為主要目的之財團法人、社團法人及 其所屬研究機構。

(8)、 經中央目的事業主管機關及財政部專案認定,委託國外大專校院或研究機

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構研究,或聘請國外大專校院專任教師或研究機構研究人員之費用。

(9)、 其他經中央目的事業主管機關及財政部專案認定屬研究與發展之支出。

(二)、 研究發展支出與研發投資抵減關聯性文獻

Mansfield and Switzer(1985)研究租稅獎勵對企業研發支出之影響,其針對 55 家加拿大研究發展支出占比超過30%之公司進行研究,投資抵減獎勵措施對研究 發展支出具正面影響,但是誘發幅度不顯著,且企業規模與誘發幅度成反比。且 政府因給予企業研究發展租稅優惠,損失之稅收遠超過企業所增加之研究發展支 出,每一元之稅收損失僅能激勵企業研究發展支出增加0.3 元至 0.4 元。

王健全、陳厚銘(2000)藉由問卷探討政府獎勵措施對研究發展、人力培訓與 建立國際品牌形象支出之影響,檢視其對企業研究績效及經濟效益之衝擊效果、

政府獎勵措施之成效,結果調查顯示政府獎勵措施對企業研發人力培訓與建立國 際品牌形象支出有顯著正向影響,有益於企業開發新產品及提高產品之附加價值,

達到促進產業升級之目標。

陳明進(2005)之實證研究顯示,單一租稅抵減措施無法有效促使企業提高研 究發展經費,但控制「租稅」及「非租稅」因素之後發現,高科技公司研究發展 投資抵減率增加與研究發展投資呈正向關係,而非高科技公司則無此現象。若企 業抵減金額採移動平均法,企業為極大化其抵減金額,可能對研發投資進行長期 佈局規劃,造成每年研究發展支出大幅度波動。

王謹韻(2008)探討政府提出租稅減免政策促使企業研發支出增加,是否意謂 企業創新成果隨之增加,並以1998 年至 2005 年之台灣上市半導體產業公司年度 財務報告為基礎,進行檢驗研發投資抵減可否增加各廠商研發效率。其發現在IC 製造及IC 設計兩類產業中,及考量全國各產業平均的研究發展投資抵減水準作 為環境變數之後,實證結果皆無法助於該產業產出之提升、增加其研發效率,且 其中 IC 設計產業研發效率發生下降之情況。另在整體半導體產業方面,結果顯 現研發投抵雖可微幅增加研發產出,但無法增加該產業研發效率,表示研發投抵 對於半導體產業研發效率提升無所助益。而考量了環境變數研發投資抵減後,確 實可使產業整體技術效率值提升,惟效率提升之幅度並不是很大,僅是微幅成 長。

張逢源(2011)探討產業創新條例施行對臺灣半導體產業研發投入的影響,乃 考量到半導體產業之研發支出為我國投入比重最重之產業,產業創新條例限縮促 進產業升級條例時期投資抵減相關優惠條件,對企業研發投入是否因而產生不利 之影響。並以成對樣本 T 檢定結果顯示,產業創新條例對台灣半導體產業的研發

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投入未產生顯著的影響,然在全部檢驗的24 個產業別中有 20 個產業別之變動方 向為減少,而且在20 個減少的業別之中,有 12 個產業減少達 10%以上之顯著水 準,顯著減少的比率占所有業別50%。獎勵優惠減少對多數其他產業而言,還是 會帶來決定性的影響並衝擊各業別的研發投入。該研究再將我國半導體產業 2003 年至 2010 年期間之追蹤資料以 GLS 模型輔以虛擬變數,實證結果顯示半 導體產業並沒有因為產業創新條例生效而減少研發投入,也表示對半導體產業而 言,租稅誘因並非企業研發投入之決定因素。該研究探究可能產生的原因為產業 創新條例實施生效期間過短,再加上半導體產業的研究發展多為長時間之投入,

因此短期間之內不會因產創條例實施與否而有所改變。因此,綜上列研究發展支 出與投資抵減關聯性之研究,可得知高科技企業的研究發展支出與投資抵減呈正 相關,但是半導體產業因投入研發時間較長的特性,因此其與投資抵減關聯性較 不顯著,且單一的投資抵減較無助於提升研究發展支出。

二、國際租稅規劃方式

隨著企業加速國際化,國際租稅規劃議題越受企業重視,跨國企業運用世界 各國稅制差異、資訊不對稱、交易安排及避稅技巧等方式降低租稅負擔。各國稅 法的不一致可能導致重複課稅、或因各國政府加強反避稅建制及加強查稅力 度……等因素,國際租稅環境的複雜使得跨國企業面臨國際租稅風險日益險峻。

(一)、 跨國企業形態

跨國企業指企業的營業活動跨越國境,依Bartlett and Ghoshal (2000)將跨國

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