第二章 文獻回顧
2.2 氧化鋅文獻回顧
2.2 氧化鋅文獻回顧 2.2.1 氧化鋅基本物理性質
氧化鋅是一種在大自然界中含量相當豐富且容易取得的材料,屬於 II-VI 族之 n-type 半導體材料,具有寬能帶間隙(bandgap)~3.2-3.4eV,以及約 60 meV 的激子束縛能 (binding energy),結構為六方晶系(HCP)中之纖鋅礦結構(Wurtzite structure),晶格常數為 c=5.205 Å ,a=3.249Å [52]
。
在晶體結構中,鋅離子與氧離子主要是以離子鍵作為鍵結,鋅原子位在六角柱形結構的節點上,而氧原子則是位在四個鋅原子所組成的四面體的中 心位置,每一四面體的方向皆沿著六角柱中心軸方向,因此使得氧化鋅結構具有相當優 良的對稱性與結晶性。其結構圖與基本物理性質分別如圖 2.8 及表 2.1 所示。因氧化鋅 同時具備了光和電的特性,是一種較為特殊的材料。純氧化鋅薄膜的導電性是受到化學 計量比所影響,由本質缺陷(native defect)之氧空缺(oxygen vacancies)及間隙型鋅原子 (interstitial zinc)之淺層受體能階(shallowdonor levels)提供,其電阻值為 10-4-1012 Ω-㎝
[53],且因其結構具有六方對稱,沒有對稱中心,所以具有高的壓電特性。高電阻率和 高優選取向(highly crystal orientation)的 ZnO 薄膜具有高壓電性質,可以應用於表面聲波 元件(surface acoustic wave device, SAW)。具有中等大小電阻率的 ZnO 薄膜可應用於太陽 能電池(solarcell)[54]、氣體感測器(gas sensor)[55]。低電阻率的 ZnO 薄膜在可見光波段 具有高穿透性,可將其應用在平面顯示器中的透明導電薄膜。
在奈米尺度的應用上,一維(one dimension)氧化鋅奈米結構最值得關注,因其具有 卓越的物理特性、化學特性及高深寬比,且比表面積遠大於薄膜晶粒,不但增加氣體感 測的反應表面積,更提高感測材料對感測之穩定性、反應時間及靈敏度,相較於薄膜形 式更適合用於氣體感測器[55]
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圖 2.8 氧化鋅結構圖[56]
表 2. 1 氧化鋅的基本物理特性[57-58]
Property
Mineral name
zinciteBand Gap Eg(eV)
0 K:3.436 300 k:3.2Melting point(
℃)
1975Heatof formation(eV) 3.6
Density(g/cm
3) 5.67
Relative permittivity 8.1
Effective electron mass(m
*/m
e) 0.28
Dopants B, Al, In, Ga, Si, Sn, F
Crystal structure hexagonal, wurtzite
Space group P6
3/mc
Lattice parameters(nm)
a:0.325 c:0.5207Thermal expansion α(300k)(x10
-6K
-1)
//c:2.92 ⊥c:4.75Melting point of Zn metal (
℃) 420
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2.2.2 氧化鋅與氧化鋅摻雜金屬之電性
未摻雜的純氧化鋅,其電阻率是由載子濃度(Carrier Concentration, n)及載子遷移率 (Mobility, μ)共同主導,其電阻約為10-4-1012Ω-cm,且具壓電效應,傳統上多應用於壓 電材料方面。基於維持電中性的考量,摻雜之陽離子與原化合物兩者的離子半徑必須相 近,以避免嚴重的晶格扭曲,且必須比原化合物中的陽離子多帶價電子。若符合此上述 規則,則具有較佳的導電性,反之則因電子太多而使電子散射,促使電阻提高。
故近年來有許多相關研究指出,摻雜鋁、鎵、銦等III族元素之氧化鋅薄膜在適當的 鍍膜條件下其導電性質會大為提高[59-63],雜鋁之氧化鋅-鋁薄膜的自由電子濃度提高 乃由於Al+3取代Zn+2而放出一自由電子,可解釋為以Al+3當為施體(donor),並固溶於ZnO 晶體中。氧化鋅-鋁和純氧化鋅在電性方面相比,由於Al+3佔據氧化鋅晶格中的間隙位置 或是取代Zn+2的晶格位置,提高了載子濃度與提供傳導電子,降低電阻率。但Al原子在 氧化鋅晶格中亦為離子化雜質散射中心(ionized impurity scattering centers) ,亦有可能佔 據晶格結構中之間隙位置而使結晶變形,導致電子移動率下降,因此鋁摻雜有一適當含 量。
氧化鋅化合物薄膜最吸引人之處,是由於當氧化鋅被使用在透明導電薄膜時,該透 明導電薄膜容易摻雜,而且價位低廉,最重要的是氧化鋅薄膜不具有毒性,因此在元件 製程與元件應用上可以安心使用。未被摻雜的氧化鋅薄膜,在使用上化學與物理性質並 不穩定,主要原因是氧化鋅化合物中氧原子對於化學吸附及去吸附能力有關,而且與氧 化鋅薄膜的導電性質與製造方法有相關。被摻雜後的氧化鋅薄膜的導電性及光特性較具 有穩定性[64],因此,氧化鋅薄膜常常被應用於發光二極體(light emitting diode, LED)、
雷 射 二 極 體 ( light amplifier stimulating emission diode, LASER )、 壓 電 元 件
(pizo-electronics devices)、感測元件(sensor devices)、半導體材料(semiconductor rmaterial)等[65-72]
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