創新的腐蝕抑制劑於化學機械研磨之清洗對銅導線電性之研究
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(2) 創新的腐蝕抑制劑於化學機械研磨之清洗對銅導線電性之研究 Study on Electrical Properties of Cu Interconnect with Novel Corrosion Inhibitors after Post CMP Cleaning Process. 研究生：吳柏慶. Student: Po-Ching Wu. 指導教授：羅正忠教授. Advisor: Dr. Jen-Chung Lou. 蔡明蒔博士. Dr. Ming-Shih Tsai. 國立交通大學 電子工程學系 電子研究所碩士班 碩 士 論 文 A Thesis Submitted to Department of Electronics Engineering & Institute of Electronics Engineering and Computer Science National Chaio Tung University in Partial Fulfillment of the Requirements for the Degree of Master of Science in Electronics Engineering July 2005 Hsinchu, Taiwan, Republic of China. 中華民國 九十四 年 七 月.
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