國 立 交 通 大 學
電子物理學系 電子物理研究所
碩士論文
不同高介電常數與傳統低溫介電層應用於低溫複晶
矽薄膜電晶體之比較
Comparison of Low Temperature Thin Film Transistors with Different High-k Dielectric Layers and Conventional TEOS
Silicon Dioxide Layer
研 究 生：呂宜憲
指導教授：趙天生 博士
簡昭欣 博士
國 立 交 通 大 學
電子物理學系 電子物理研究所
碩士論文
不同高介電常數與傳統低溫介電層應用於低溫複晶
矽薄膜電晶體之比較
Comparison of Low Temperature Thin Film Transistors with Different High-k Dielectric Layers and Conventional TEOS
Silicon Dioxide Layer
研 究 生：呂宜憲
指導教授：趙天生 博士
簡昭欣 博士
不同高介電常數與傳統低溫介電層應用於低溫複晶
矽薄膜電晶體之比較
Comparison of Low Temperature Thin Film Transistors with Different High-k Dielectric Layers and Conventional TEOS
Silicon Dioxide Layer
研 究 生：呂宜憲 Student：Yi-Hsien Lu 指導教授：趙天生 博士 Advisor：Tien-Sheng Chao 簡昭欣 博士 國 立 交 通 大 學 電子物理學系 電子物理研究所 碩士論文 A Thesis
Submitted to Department of Electrophysics National Chiao Tung University
In partial Fulfillment of the Requirements For the Degree of Master of Science
In
Electrophysics June 2007
Hsinchu, Taiwan, Republic of China
