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3-2-1 基質輔助雷射脫附游離質譜

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Academic year: 2021

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(1)

第三章第三章

第三章第三章 儀器儀器儀器儀器、、、藥、藥藥品與實驗方法藥品與實驗方法品與實驗方法 品與實驗方法

3-1 自組式

自組式自組式自組式基質輔助雷射脫附游離基質輔助雷射脫附游離基質輔助雷射脫附游離-基質輔助雷射脫附游離---飛行時間質譜儀飛行時間質譜儀飛行時間質譜儀 飛行時間質譜儀

圖 3-1 為本實驗室自組的基質輔助雷射脫附游離-飛行時間質譜 儀裝置圖。光源波長為 Nd:YAG laser 的第三倍頻波(third harmonic generation; THG)355 nm。取一小部分分光作為 trigger 的來源,剩餘 的光線藉由 pinhole 的調整,取直徑約 2~3 mm 的雷射光線經由稜鏡 與反射鏡的引導,最後再經由焦距 20 cm 的透鏡導入 MALDI-TOFMS 的離化區,直接聚焦在 MALDI sample plate 上的分析物與基質的結 晶,產生脫附與離化的效果。本實驗施加的電場為:加速電場 (acceleration voltage)14 kV 與聚焦電場(ion extraction grid voltage)6 kV。離化後的離子經加速電場與聚焦電場作用後,會飛行過 flight tube,並且撞擊在 MCP(microchannel plate)上產生訊號,訊號經由示 波器顯示後再經由電腦做紀錄。實驗進行時可藉由 CCD camera 觀測 入射雷射打在 plate 上的情況。

(2)

beam-splitter

Flight tube

lens CCD camera

pinhole 6” diffusion-pump

4” turbo-pump to computer

sample rod

mirror

Oscilloscope trigger

computer prism

P.D.

Nd:YAG laser THG: 355 nm

(200 mJ)

MCP

beam-splitter

Flight tube

lens CCD camera

pinhole 6” diffusion-pump

4” turbo-pump to computer

sample rod

mirror

Oscilloscope Oscilloscope trigger

computer computer prism

P.D.

P.D.

Nd:YAG laser THG: 355 nm

(200 mJ)

Nd:YAG laser THG: 355 nm

(200 mJ)

MCP

圖 3-1 基質輔助雷射脫附游離-飛行時間質譜儀裝置圖 (The experimental apparatus used for MALDI-TOF/MS)

(3)

3-2 資料處理

資料處理資料處理資料處理

3-2-1 基質輔助雷射脫附游離質譜

基質輔助雷射脫附游離質譜基質輔助雷射脫附游離質譜 基質輔助雷射脫附游離質譜

實驗所得到的資料,是由示波器擷取而來,為一文字文件,其 X 軸為飛行時間,Y 軸為訊號強度,故需將飛行時間轉換成質量後才會 得到質量與訊號強度的函數圖。由於質量與飛行時間的平方成正比,

所以可以將已知物(例如:CHCA 的主要斷裂譜峰)的質荷比與飛行時 間的平方作一校正曲線 y = ax2+b,y 為質荷比,x 為飛行時間,利用 此公式可將飛行時間轉換成質量,即可得到質量與訊號強度的關係 圖。下表即為常用基質 CHCA 的主要斷裂譜峰與各代表的 Ion form[54]。

表 3-1 CHCA 的主要斷裂譜峰 (Main fragments of CHCA)

9.395 9.957 10.197 10.718 13.327 14.216 15.117

(4)

下表為飛行時間轉換成質量的 Excel 表格,將從示波器所擷取的 資料匯入到 F 欄與 G 欄,分別代表飛行時間與訊號強度。E 欄為 m/z=at2+b 的公式,當資料匯入完成,即會得到相對應的質量。

b z at

m= 2+

m/z t

b z at

m=at2+b z

m= 2+

m/z t

表 3-2 飛行時間---荷質比單位換算表

(Sheet for flight times transform to m/z)

(5)

3-2-2 氣相層析質譜

氣相層析質譜氣相層析質譜 氣相層析質譜

由質譜儀所得到的資料統一由中央處理器判讀。氣相層析質譜儀 得到的資料包含層析圖以及質譜圖,因此中央處理器有兩大特色:1.

具處理同時多項工作的功能,可同時監控層析圖以及對質譜的分析。

2.具質譜資料庫查詢的功能,可以依照其質譜斷裂情形推測最有可能 分子及相對可信度。

另外質譜儀偵測離子的紀錄方式有兩種:1.全離子掃瞄法(Total Ion Current Monitoring, TIC),此種方式是將所有的離子訊號全部紀錄 下來所得到的層析圖。2.選擇性離子偵測法(Select Ion Monitoring, SIM),此種方式是利用四極柱特定電壓抓取特定荷質比的離子的偵測 方式,有利於純化層析圖以及增加靈敏度。

(6)

3-3

儀器與週邊設備列表儀器與週邊設備列表儀器與週邊設備列表儀器與週邊設備列表

名 稱 製造廠商 型 號 示意圖或規格

Nd:YAG laser Spectra-Physics Model: GCR-170

飛行管

(flight tube)

Modified Wilet-McLaren

design(R.M.

Jordan Co., Grass Valley, Ca)

--- Flight distance: 1.1 m Mass resolution: ~300

4-inch turbo pump VARIAN Turbo-V 300HT Series: 9699038

6-inch diffusion

pump VARIAN

VHS-6 diffusion pump P/N: L6193301

Turbo pump

controller VARIAN Model: 9699424

Gauge controller VARIAN Model: SENTORR S/N: LIM00604

(7)

Vaccum valve VARIAN P/N: VGA160IM S/N: LVA10506

Vaccum valve VARIAN P/N: L6280603 S/N: LVA90828

Rotary pump ALCATEL M0del: 2015 SD

Diffusion pump 冷卻水循環器

Thermo Neslab/USA

Type: Merlin Series Model: M-75 S/N: 102247014

Oscillator

示波器 Lecroy Model: 9350A

500MHz

High voltage power supply 高壓電源供應器

GAMMA High Voltage Research

Inc., USA

Model: RR30-2R

Centrifugal

evaporator EYELA Model: CVE-1000

2750 rpm

氣相層析儀

Hewlett-Packard Agilent Technologies

Avondale GC 6890

(8)

質譜儀

Hewlett-Packard Agilent Technologies

HP 5973

GC column

Hewlett-Packard Agilent Technologies

HP-5MS cross-linked 5% PH Me siloxane

UV/VIS Spectrometer

System y

Hewlett-Packard Agilent Technologies

HP 8453

pH meter RADIOMETER

COPENHAGEN PHM201 玻璃電極

Minishaker IKA Type: MS1 S1

電子天平 ELECTRONIC

BALANCE ER-120A 0.1 mg~120 g

微量吸量管 Eppendorf ---

100~1000 µL 10~100 µL

1~10 µL

加熱攪拌器 CIMARECTM SP46925 18×18 cm

超音波震盪器 BRANSONIC B2200R-4

110 V 50/60 Hz 1.8 AMPS 高速離心機 --- Serial no: 026702 Max: 6000 rpm

1.5 mL

過濾器 MILLIPORE CAT.NO.

SLHN025NK

0.45μm

(9)

3-4

藥品列表藥品列表藥品列表藥品列表

藥 名 化學式及來源化學式及來源化學式及來源化學式及來源 結構式結構式結構式結構式

Methylphosphonic acid (MPA)

CH5O3P Radian International

P O H3C OH

OH

Ethyl methylphosphonic acid (EMPA)

C3H9O3P Radian International

P OH H3C O

OCH2CH3

Isopropyl methylphosphonic acid

(IMPA)

C4H11O3P Radian International

P OH H3C O

O

CH CH3

CH3

Isobutyl methylphosphonic acid (i-BuMPA)

C5H13O3P ( 憲兵司令部刑事

鑑定中心 柳如宗中校提供)

P OH H3C O

O

H2 C CH

CH3

CH3

Cyclohexyl methylphosphonic acid

(CHMPA)

C7H15O3P Radian International

P OH H3C O

O

分 分 分 析 析 析 析 物 物 物

Pinacolyl methylphosphonic acid

(PMPA)

C7H17O3P Radian International

P O H3C O

OH

HC C(CH3)3

CH3

衍 衍 衍 衍 生 生 生 生 試 試 試 試 劑 劑 劑

N-(tert-butyldimethylsilyl)- 2,2,2-trifluoro-N-methylac

etamide (MTBSTFA)

C9H18F3NOSi Acros

CH3 Si C

CH3 N CH3

CH3

H3C C

CH3 O

C F

F F

(10)

α-Cyano-4- hydroxycinnamic acid

(CHCA)

C10H7NO3

Sigma-Aldrich

O HO

OH N

2,6-Dihydroxy acetophenone (2,6-DHAP)

C8H8O3 Fluka

HO

OH O

基基 基基 質質 質

2,4,6-Trihydroxy acetophenone (2,4,6-THAP)

C8H8O4 Fluka

HO OH

OH O

Acetonitrile (ACN) CH3CN Acros

Methanol CH3OH

Acros Ethanol (99.8%) C2H5OH Acros Ethyl acetate CH3COOC2H5

(Acros)

Tetrahydrofuran (THF) CH3NO Acros

Hexane C6H14

Acros 溶

溶 溶 劑 劑 劑劑

Methylene chloride CH2Cl2

Acros 試試

試試 藥藥

Trifluoroacetic acid C2HF3O2

Sigma-Aldrich

(11)

3-5

神經戰劑神經戰劑神經戰劑神經戰劑降解產物降解產物降解產物衍生物製備降解產物衍生物製備衍生物製備衍生物製備[14,55]

衍生流程:先用 Acetonitrile 清洗試管,待試管乾燥後,加入 25µL 的神經戰劑降解產物,利用氮氣吹乾後,再加入 25µL 的衍生試劑 MTBSTFA,將試管加蓋旋緊後,置於加熱板上加熱,在維持約 80 ℃ 的溫度下,持續加熱 20 分鐘,所得之衍生物(如圖 3-3 所示)即可供 GC/MS 分析。

加入ACN

乾燥 樣品25µL N2吹乾

衍生試劑25µL 加蓋旋緊

加熱至約80℃

20分鐘 加入ACN

乾燥 樣品25µL N2吹乾

衍生試劑25µL 加蓋旋緊

加熱至約80℃

20分鐘

圖 3-2 衍生流程示意圖

(Derivative flow schematic drawing)

(12)

P O

H2n+1 Cn OH OH

CH3 Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

CH3 Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

P O H2n+1Cn O

O

Si CH3 H3C

C CH3 H3C

CH3

Si CH3

CH3 C CH3

CH3 CH3

P OH H3C

O

OCnH2n+1

CH3

Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

CH3

Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

a.

b.

P O H3C

O O

Si CH3 H3C

C CH3 H3C

CH3

CnH2n+1

P O

H2n+1 Cn OH OH P O

H2n+1 Cn OH OH

CH3 Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

CH3 Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

P O H2n+1Cn O

O

Si CH3 H3C

C CH3 H3C

CH3

Si CH3

CH3 C CH3

CH3 CH3 P

O H2n+1Cn O

O

Si CH3 H3C

C CH3 H3C

CH3

Si CH3

CH3 C CH3

CH3 CH3

P OH H3C

O

OCnH2n+1

P OH H3C

O

OCnH2n+1

CH3

Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

CH3

Si C

CH3

CH3

CH3

H3C

a.

b.

P O H3C

O O

Si CH3 H3C

C CH3 H3C

CH3

CnH2n+1

P O H3C

O O

Si CH3 H3C

C CH3 H3C

CH3

CnH2n+1

圖 3-3 圖 a 為烷膦酸類的二矽烷衍生物結構

(TBDMS derivative structure of alkyl phosphonic acids) 圖 b 為烷磷酸烷酯類衍生物結構

(TBDMS derivative structure of alkyl methylphosphonic acids)

數據

圖 3-1 為本實驗室自組的基質輔助雷射脫附游離-飛行時間質譜 儀裝置圖。光源波長為 Nd:YAG laser  的第三倍頻波(third harmonic  generation; THG)355 nm。取一小部分分光作為 trigger 的來源,剩餘 的光線藉由 pinhole 的調整,取直徑約 2~3 mm 的雷射光線經由稜鏡 與反射鏡的引導,最後再經由焦距 20 cm 的透鏡導入 MALDI-TOFMS 的離化區,直接聚焦在 MALDI sample plate 上的分析物與基質的結 晶,產生脫附與

參考文獻

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