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粉末X-光繞射儀(X-ray diffraction; XRD)

第二章   樣品合成與儀器分析

2.3 樣品鑑定

2.3.1 粉末X-光繞射儀(X-ray diffraction; XRD)

(1) 特性輻射(characteristic radiation):高速電子於撞到原子時,

易將能量傳遞給原子中之電子,而使原子離子化。當原子內層軌域之

如圖2.3所示。此段波長之X-光定義為Kα,波長為1.5418 Å。同理3p→1s 則定義為Kβ,波長為1.3922 Å。一般Kα比Kβ之強度較強,而Kβ較Kα

之能量為高。但於2p→1s之轉移中,因2p軌域存在二種不同型式之自

旋態(spin state),故產生Kα1與Kα2,一般Kα1與Kα2難以分辦,但易與Kβ 分辦,如圖2.3所示,一般常使用鎳單色光濾片(nickel filter)將Kβ濾出 (cut off)。

 

圖2. 3 原子間電子傳遞,箭號為放光之過程75

(2)連續輻射( continuous radiation):經高壓加速之電子撞擊陽極 靶標,高速電子受到靶標原子之阻擋,急遽停止下來,其部分動能即 以X-光之形式釋出。以急遽停止電子所產生之 X-光與原子特性無 關,而是以連續性不同波長同時出現,其中最短波長取決於撞擊電子 之最高能量。如此產生之光譜,亦稱為白光光譜,如圖2.4 所示。

  圖2. 4 X-光光譜,包含連續輻射與特徵輻射75 

2.3.1.2 晶體結構分析

X-光晶體結構分析,亦稱 X-光晶體學。這有賴於倫琴與勞厄之 貢獻。但這門學科直接開創者卻是W. H.布拉格和 W. L.布拉格(Bragg) 父子。因勞厄發現 X-光晶體繞射現象,其興趣主要集中於這一現象 證實 X-光波動本質這一問題,並未意識到可藉此分析晶體結構。首 先意識到此為 W.L.布拉格。其認為可將繞射現象視為入射光被晶面 反射。此種反射如同鏡面反射,入射角等於反射角,且僅特定角度下,

才會發生繞射。於某些散射角下,從相鄰晶面散射之波彼此相位相 同,光程差為波長之整數倍,因而產生建設性干涉。滿足此條件便可 產生繞射,稱為布拉格定律(Bragg’s law) ,如式 2.1 所示。

Nλ = 2dsinθ (2.1)

由布拉格定律,亦可明瞭為何 X-光之波長適合用於繞射分析,

因從布拉格公式可發現,若波長太長或太短,皆不易符合繞射之條 件。父子倆時而合作,時而獨立進行一系列成功晶體結構分析,從而 開創了此深富成果X-光晶體結構分析之科學領域。

2.3.1.3 結構精算

近 年 來 因 高 解 析 度 粉 末X- 光 繞 射 儀 與 波 形 分 析 方 法 (profile fitting method)技術之發展,XRD數據不僅可用以進行結構精算(least squares structure refinement),更可進一步以求得未知晶體結構。以單 晶四環繞射儀做結構解析,可取得許多有用之結構數據。但於實際科 學研究與生產過程中,時常無法獲得足夠大(約725 mm)之無缺陷單 晶,此時粉末X-光繞射結構解析即成為一重要之方法。74

GSAS 程 式 採 用 Rietveld 全 光 譜 精 算 法 (Rietveld full pattern refinement method,簡稱Rietveld法)做結構精算。Rietveld法為1969 H.

M. Retiveld所提出,適合分析由X-光與中子粉末繞射所得之數據,利

“goodness of fit”用以表示分析之品質:

其中M為minimization function,NO為step scan所得之繞射圖點 數,NV為精算時所使用之變數個數。利用最小平方差擬合與傅立葉 optimization methods),或稱直接空間方法(direct space methods),利用 此方法可對於新合成或未有詳盡之原子座標資訊給予空間群與晶格 常數之資料。

2.3.1.4 XRD 實驗儀器

粉末樣品之X 光繞射分析係採用 PANalytical X’Pert PRO X-ray powder diffractometer(XRD)型繞射儀,其以銅靶(Cu)為光源,其功率 為3 kW,且放射光源 Kα1之波長為1.5406 Å。操作時使用之電壓與 電流分別為40 kV 與 40 mA 條件下進行粉末繞射分析實驗,其中 2θ 繞射角掃描範圍為20°~60°,每間隔 0.02°讀取一次數據,掃瞄模式為 2θ/θ,將分析樣品平鋪於樣品槽(sample holder),置於圖 2.5 之旋轉中 心,此時將繞射測角儀做旋轉,偵測器則與出射光之夾角 2θ,入射 光與槽座之夾角為θ,利用同步紀錄之系統而得各繞射峰之強度與角 度(2θ)之分布關係。

  圖2. 5 X-光粉末繞射儀(PANalytical X’Pert PRO XRD)

為進行結構精算之分析,上述儀器受限於能量強度,其數據仍有 雜訊之影響,故使用同步輻射(National Synchrotron Radiation Research Center)射之光源即可有效解決雜訊之問題,其儲存環能量為1.5GeV,

放射光源之波長為0.774909Å。

2.3.2 掃描式電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope, SEM)