國
立 政 治 大 學
‧
N a tio na
l C h engchi U ni ve rs it y
第五章 結論與討論
台灣的 IC 產業是過去三十年間發展最完整且最具全球競爭力的創新型產業，IC 產 業組織的專利代表了該產業的技術創新成果。許多大公司自身都投資並擁有相當優秀的 研發創新人才。台灣IC 產業技術創新和專利的研究也累積了一些成果，但較缺乏使用 研發創新行動者網絡所做的分析。本論文的貢獻在於使用 IC 產業專利發明人網絡資 料，以發明人為分析單位，從結構洞和地位訊號理論這兩個過去西方半導體和生物科技 等創新產業研究中，最能解釋創新行動者與網絡系統和創新表現理論機制的學術研究累 積成果出發，並反省台灣特有IC 產業分工技術利基位置、流動型勞力市場，發展出專 利發明人網絡對專利發明成果的影響機制之模型。
此外，本論文的研究時間涵蓋了台灣 IC 產業自有美國專利開始 1988-2006 年共 19 年的時間。IC 產業的上游 IC 設計公司在 2000 年以後才蓬勃發展，而過去的研究多在 2000 年以前，而無法關注到上游 IC 產業新進的發展，本研究研究時間迄 2006 年，可 以把握到新的發展趨勢，進行產業上、中、下游全面性的比較。
在組織層次的 IC 產業公司間的專利合作，研究顯示，專利因為具有公司內部無形 資產及技術機密的性質，較少公司間共有所有權的合作專利，相較而言，專利合作較常 發生在同一企業集團內部的公司。而公司間透過發明人專利的流動而產生的技術交流，
專利資料的分析顯示並未出現高科技公司工程師的高流動率現象，由於大多的發明人只 在一家公司擁有專利，可看出專利發明人的跨公司流動並不那麼頻繁，專利發明還是有 很強的公司在地累積性。研究也顯示在IC 產業場域，發明人專利知識跨公司流動是以 中游為核心，除了因為中游晶圓製造公司有最多的專利與發明人之外，技術層次也較 高，因此中游公司容易吸納上游、下游的人才來培訓、發明專利，而中游與上游的關係 又比中游與下游的關係更形緊密。
‧ 國
立 政 治 大 學
‧
N a tio na
l C h engchi U ni ve rs it y
以發明人為分析單位去分析影響專利發明人研發創新成果的四個迴歸模型，分析結 果驗證了發明人地位訊號、結構洞網絡理論機制有助於專利創新發明的假設。並未如 Xiao and Tsui(2007)的研究，華人組織典型的集體文化會抑制結構洞的效益—組織若越 具有類似宗族、高承諾的文化，則結構洞越不利於員工的職業成就。可見台灣IC 公司 在面對國際半導體大廠相當激烈的競爭，以及全球客戶的要求，發明人的技術創新策略 惟有佈局在地位訊號、結構洞等網絡合作機制中，才能產生較好的專利發明，因此這些 西方發展出的網絡理論，在解釋台灣的IC 產業專利發明的機制也可以適用。另外，比 較中心性(地位訊號)和結構洞理論在迴歸模型的解釋力(R2)，在預測專利被引用次數的 模型，結構洞的解釋力略多；而在預測發明專利數的模型，中心性的解釋力略多。可見 發明人若常和不重疊的發明團隊合作，有較多機會廣泛的和不同發明人互相學習、彼此 激發出好的創意，較易發明被引用數多、較有影響力的專利；而具明星地位很多人與他 合作的發明人，參與涉入了許多發明，因而產出較多的專利。
而發明人的專利發明無法脫離公司的產業環境，創新發明是鑲嵌在台灣特有半導體 的上中下游不同技術利基環境中，還必須考慮到公司所在不同產業位置的技術特性，與 技術發展所在的階段，才能解釋台灣IC 產業的創新發明機制。公司與網絡機制的交互 作用也發現，公司規模也是影響創新發明的要素，例如大公司的重要發明人群集，專利 創新相較於小公司比較沒那麼強的明星地位效果；而因為大公司員工眾多，發明人往往 有機會在不同的專利和不同的對象合作，產生較佳的專利成果，使得大公司較小公司有 著穩定的結構洞創新機制。
本研究進一步區分流動與未流動的發明人，分別就這兩個群體，依照網絡中心性與 結構洞的高低，分成四個類型，以清楚的釐清發明人公司流動經驗、發明網絡位置與研 發創新成果的關係。分析結果發現，一般來說，網絡機制對於專利研發創新成果的影響 完全符合理論假設，亦即發明人網絡中心性分數較高、結構洞位置越強都對於專利被引 用數、專利發明數有正面的影響。再次印證IC 產業面臨國際大廠技術創新的激烈競爭，
‧ 國
立 政 治 大 學
‧
N a tio na
l C h engchi U ni ve rs it y
因此需要中心性高、結構洞特性強的開放式網絡來合作發明，才能達成真正的技術創新 要求。
比較特殊的例外情形是，上游的專利發明網絡，結構洞低的類型反而有比較好的專 利創新。這是由於上游的IC 設計產業技術特性，技術本身較專業化，現今 IC 多為功能 整合程度高的系統單晶片，當進行電路設計的研發時，需仰賴同一團隊的人重複合作方 能完成設計。所以大多與重疊的人合作，結構限制較高，因此呈現與結構洞理論不同的 情況。另一例外情形是，中游的未流動的樣本，專利平均被引用數最多的類型是中心性 高、結構洞低的類型，這表示這些被引用很多的核心技術發明，為確保技術知識不能外 洩，所以是由地位較高的發明人在重疊、封閉的團隊中進行合作發明。
另外，本研究的專利資料分析發現，流動並不一定帶來較佳的技術創新，在專利被 引用的表現上尤其明顯，沒有流動經歷的發明人發明的專利反而有較大的專利影響力，
產生較佳的技術創新。可能因為公司專利有技術保護與封閉的特性，核心專利技術人才 若流動，恐會引起技術機密外洩的疑慮，因此公司會以薪資、紅利等措施留住重要的技 術人才，以保護自己的優勢技術不流失。尤其是中游、下游公司有許多造價高昂的設備 與技術機密，因此更不希望員工頻繁流動。
本研究並沒有發現台灣半導體產業界明顯的頻繁的人才流動現象，及其技術創新影 響。可能原因是過去文獻研究的時間點，多在2000 年以前，當時台灣的半導體技術較 低階，因此公司人才外流，對企業的影響較輕微；而本研究涵蓋了1998-2005 年，台灣 半導體技術的發展是在2000 年以後，台積電才研發出 0.13 微米銅製程、浸潤式微影技 術等領先技術，關鍵技術人才若流失，對公司的影響極鉅，因此晚近時期，公司會注重 留才，降低離職率。除了研究時段的差異，不同於過去文獻的研究對象是廣泛的工程師 層級，本論文的研究對象是針對專利發明人，可以說是屬於技術性較強的工程師，而這 群有特定技術發明產出的工程師，理應較受公司器重，享有專利獎金等較佳待遇，流動
‧ 國
立 政 治 大 學
‧
N a tio na
l C h engchi U ni ve rs it y
率應會低於科學園區一般工作者，故在本研究沒有呈現高度流動的特性。
本研究進一步分別針對 IC 產業上中下游分析發現，與 IC 產業整體樣本的結果不 太一樣，上游IC 設計產業許多新創公司成立、起步較晚，吸引了許多有經驗的人才加 入，發明人有不同公司的專利發明流動經驗，較只在單一公司有專利者，在一些網絡類 型的專利發明成果佔有優勢。可見台灣IC 產業人才流動對於技術發展與創新的正面影 響，有較大的程度是在上游的IC 設計產業。
本研究證明了組織中產生的創新，不是天才型的點子，而是必須鑲嵌在組織內外異 質多元的網絡，互相影響刺激下才能產生較好的創新發明。而創新發明鑲嵌在台灣特有 半導體的不同技術利基環境中，還必須考慮到不同產業位置的技術特性，與產業技術發 展所在的階段，才能正確解釋台灣IC 產業的創新發明機制。
而檢討本研究的研究限制在於：
1.發明人英文譯音同名同姓的問題
本研究以專利的發明人姓名資料串連來作分析，而英文譯音有時會有同名同姓的問 題，因此會產生誤認。但因本研究樣本數量夠大，且研究目的在呈現IC 產業專利發明 人的合作網絡結構，縱然有同名同姓產生的誤差，應對研究結果不會有太大的影響。
2.專利僅是公司智財權的一部份
專利僅是公司智財權的一部份，公司的智慧財產權包含了營業秘密與專利，但是營 業秘密與專利的不同點在於，專利必須透過申請、公告、審查、登記等程序才能得到專 利權的保護，但營業秘密不需經過法律程序，只要具有秘密性、經濟價值、已採取合理 保密措施等要件即可得到保護。
台積電資深副總經理暨法務長杜東佑曾在 2013 年一個訪問中提及對於營業秘密的
‧ 國
立 政 治 大 學
‧
N a tio na
l C h engchi U ni ve rs it y
重視28，認為在策略性的考量下，有時候用營業秘密來保護技術創意會比用專利保護來 得恰當(李淑蓮 2013)。
本論文欲探討公司發明人的創新發明，雖然許多無法揭露的重要發明，公司會選擇 以營業秘密來作保護，因此只考慮專利，不可免的會低估發明人的創新發明成果，但由 於專利具有嚴謹審查、公開透明的特點，在資料的正確度以及可取得性有很大的優勢，
所以本論文使用專利來探討IC 產業的創新發明。
本研究架構出 IC 產業不同產業位置發明人的合作網絡策略，及其與專利創新的關 係。對公司而言，人才與專利技術都是公司珍貴的資產，本研究的網絡分析方法可以對
本研究架構出 IC 產業不同產業位置發明人的合作網絡策略，及其與專利創新的關 係。對公司而言，人才與專利技術都是公司珍貴的資產，本研究的網絡分析方法可以對