台灣IC產業專利發明人的合作網絡機制 - 政大學術集成

全文

(1)國立政治大學社會學系博士論文. 台灣 IC 產業專利發明人的合作網絡機制政治大立. ‧. ‧ 國. 學 er. io. sit. y. Nat. n. al v i n Ch engchi U 指導教授：熊瑞梅博士. 研究生：官逸人. 中華民國一○四年一月.

(2) 誌謝. 本論文的完成，首先要感謝指導教授熊瑞梅老師的悉心指導。很幸運一入學就有機會修習熊老師許多課程，並跟著熊老師作研究，一窺社會網絡分析、產業組織研究的堂奧，令我這趟博士班旅程，載著滿滿的收穫。老師對於研究的熱忱與態度，也是學生的學習榜樣。在熊老師的研究團隊中，最要感謝林亦之學長的傾囊相授，是我在研究遇到疑難時重要的請教討論對象。. 政治大. 此外，承蒙幾位口試老師撥冗參加我的論文口試，給予我許多寶貴的建議，謹致以. 立. 最深的謝意。陳明祺老師、郭文般老師，從碩士班以來多年的指導和照顧，永遠銘記在. ‧ 國. 學. 心。以及吳齊殷老師、陳宗文老師、李宗榮老師都以自身的專長涵養，從許多視角思考，提供了許多寶貴意見，讓論文更臻理想。諸位老師的意見，也是我以後在處理相關研究. ‧. 議題時，很重要的參考。. sit. y. Nat. n. al. er. io. 還要感謝系辦公室鳳珠助教與筱玲助教在行政事務的幫忙與提醒。另外，本論文也. i n U. v. 要感謝科技部「獎勵人文與社會科學領域博士候選人撰寫博士論文」的獎助支持。. Ch. engchi. 最後我要感謝我的父母家人，一直作我的後盾，支撐著我走過這段學習歷程。. 回顧政大的博班生涯，許多人事物的交集，承載著大家許多幫忙與照顧，此處難以盡訴許多的感謝。這些回憶與關懷都是驅使我在下個階段更為努力的動力。. 官逸人謹誌于政治大學社會學系中華民國一○四年一月. 1.

(3) 台灣 IC 產業專利發明人的合作網絡機制摘要 IC(積體電路)產業是台灣過去三十多年來發展最完整、且在世界上最具有競爭力的創新型產業。研發與技術專利成長快速，也代表這個產業的技術創新成果。台灣 IC 產業技術創新和專利的研究累積了一些成果，但較缺乏使用研發創新發明人網絡所做的分析。本研究使用 IC 產業專利發明人網絡資料，從結構洞(structural holes)和地位訊號 (status signal)這兩個過去西方半導體和生物科技等創新產業研究中，最能解釋創新行動. 政治大分工技術利基位置、流動型勞力市場，發展出專利發明人網絡對專利發明成果影響機制立者與網絡系統和創新表現理論機制的學術研究累積成果出發，並反省台灣特有 IC 產業. ‧ 國. 學. 之模型。研究發現，分析結果支持發明人地位訊號、結構洞網絡理論機制有助於專利創新發明的假設。而比較特殊的例外是，上游的專利發明網絡，結構洞低的類型反而有比. ‧. 較好的專利創新。這是由於上游的 IC 設計產業技術特性，需仰賴同一團隊的人重複合. sit. y. Nat. 作方能完成設計，所以大多與重疊的人合作，結構限制較高，因此呈現與結構洞理論不. al. er. io. 同的情況。此外，研究發現，流動並不一定帶來較佳的技術創新，台灣 IC 產業專利人. v. n. 才流動對於技術發展與創新的正面影響，較多是在上游的 IC 設計產業。因此創新發明. Ch. engchi. i n U. 鑲嵌在台灣特有半導體的不同技術利基環境中，還必須考慮到不同產業位置的技術特性，與產業技術發展所在的階段，才能正確解釋台灣 IC 產業的創新發明機制。關鍵字：IC 產業、專利、發明人網絡、結構洞、地位訊號、流動型勞力市場. 2.

(4) Innovation Mechanisms of the Patent-Based Inventor Networks in Taiwan IC Industry Abstract The IC (integrated circuit) industry has been the most complete, competitive and innovative industry in Taiwan over the past three decades. The rapid growth of patents in this field demonstrates the marvelous outcomes of technological innovations. A huge amount of patent-based research has been accumulated in this industry, but only a little is related to the. 政治大 explaining the dynamic mechanisms between innovative actors and network systems of the 立 inventor network. Structural holes and status signal are two competing perspectives in. most innovative industries, semiconductor and biotechnology, in advanced countries. We use. ‧ 國. 學. these two theories and network data of patent-based inventors to discuss the specific niche of vertical disintegration and fluid labor market in Taiwan IC industry, and develop models on. ‧. mechanisms of how inventors’ networks affect the outcome of inventors’ patents. The. y. Nat. findings reveal that the hypothesis on the effects of status signals and structural holes in. sit. inventors’ collaboration networks on the citations of inventors’ patents was supported.. er. io. However, the patent inventions of the upstream IC design firms, the collaborative invention. al. n. v i n growing firms in IC design industry areC specialized h e n gincconsumption h i U products. The structural teams seem to be small or high structural constraints. Most of the patents of these newly. constraints are high, but the impact of is large. Besides, inventors’ fluidity would not. necessarily create more influential patents. The fluidity of patent-based inventors was positive impact to the patent inventions, more was found in the IC designs company. The IC industry has been vertically differentiated into three sectors: the IC designs, the IC foundry, the package and test. In principle, these three sectors demand different levels of technology. The maturity of technological niches will affect the impacts of the patents. Key Words: IC industry, patent, inventor network, structural holes, status signal, fluid labor market. 3.

(5) 目錄頁次第一章前言-------------------------------------------------------------------------------------------1 第二章文獻探討-------------------------------------------------------------------------------------5 第一節結構洞與發明----------------------------------------------------------------------------7 第二節地位訊號─明星(star)論與發明-----------------------------------------------------13 第三節專利知識的流動與發明--------------------------------------------------------------16 第四節產業技術利基位置與發明-----------------------------------------------------------21. 政治大第五節研究架構--------------------------------------------------------------------------------25 立. ‧ 國. 學. 第三章研究方法-----------------------------------------------------------------------------------26 第一節資料來源--------------------------------------------------------------------------------26. ‧. 第二節研究變項說明--------------------------------------------------------------------------28. y. Nat. io. sit. 第四章研究結果-----------------------------------------------------------------------------------35. er. 第一節 IC 產業公司間的專利合作與知識交流-------------------------------------------35. al. n. v i n Ch 第二節 IC 產業發明人專利合作變項概況描述-------------------------------------------44 engchi U 第三節影響專利發明人研發創新成果的迴歸模型分析--------------------------------64 第四節發明人公司流動經驗、發明網絡位置與研發創新成果的類型分析--------90 第五章結論與討論------------------------------------------------------------------------------105 附錄--------------------------------------------------------------------------------------------------110 參考文獻--------------------------------------------------------------------------------------------129. I.

(6) 表目錄頁次表 3-1 各年發明人數與發明人跨年發明情形. ---28. 表 3-2 台灣 IC 產業 1998 年-2005 年的公司專利發明人次及所佔比例. ---34. 表 4-1-1 1988-2006 年 IC 產業公司專利數(以公司有無合作專利區分). ---36. 表 4-1-2 IC 產業公司合作專利的年份分佈. ---36. 表 4-1-3 IC 產業公司合作專利的公司分佈(1988-2006 年). ---36. 表 4-1-4 台灣 IC 產業專利發明人跨公司流動人數關係表(1988-2006 年). ---41. 政治大表 4-1-5 發明人的專利流動產生的公司連結人數及百分比(以產業位置作區分) 立. ---43 ---45. 表 4-2-1.a 台灣 IC 產業(迄 2006 年)各年累計的發明人數 200 人以上的公司. ---46. 表 4-2-2 台灣 IC 產業中游(各年累計發明人數 200 人以上)公司. y. Nat. io. sit. 逐年的專利發明人數. n. al. ---48. er. 表 4-2-3 台灣 IC 產業上游(各年累計發明人數 200 人以上)公司逐年的專利發明人數. ‧. ‧ 國. 學. 表 4-2-1 台灣 IC 產業各年度不同產業位置的發明人數及當年所佔比例. Ch. engchi. i n U. v. ---50. 表 4-2-4 台灣 IC 產業下游(各年累計發明人數 200 人以上)公司 ---51. 逐年的專利發明人數表 4-2-5.1 台灣 IC 產業年份與發明人當年專利平均被引用次數(依產業位置分). ---53. 表 4-2-5.2 台灣 IC 產業年份與發明人當年專利平均被引用次數(標準化) (依產業位置分). ---54. 表 4-2-6 台灣 IC 產業年份與發明人當年發明的專利數(依產業位置分). ---56. 表 4-2-7 台灣 IC 產業年份與發明人合作網絡的程度中心性分數(依產業位置分) ---58. II.

(7) 表 4-2-8 台灣 IC 產業年份與發明人合作網絡的孤立者(單獨發明人)數量 ---60. 及所佔比例(依產業位置分). 表 4-2-9 台灣 IC 產業年份與發明人合作網絡的結構限制分數(依產業位置分) ---61 表 4-2-10 台灣 IC 產業年份與發明人當年發明經歷(公司)數(依產業位置分). ---63. 表 4-3-1.a 各公司發明人網絡中心性(自變項)對專利平均被引用次數(依變項) ---66. 影響之單變項迴歸模型(1998-2005 年). 表 4-3-1 影響發明人當年專利平均被引用次數之 Tobit 迴歸模型：中心性部分---67. 政治大. 表 4-3-2.a 各公司發明人網絡結構限制(自變項)對專利平均被引用次數(依變項). 立. ---72. 影響之單變項迴歸模型(1998-2005 年). ‧ 國. 學. 表 4-3-2 影響發明人當年專利平均被引用次數之 Tobit 迴歸模型：結構洞部分---73 表 4-3-3.a 各公司發明人網絡中心性(自變項)對發明專利數(依變項)影響之. ‧. 單變項迴歸模型(1998-2005 年). Nat. sit. y. ---78. io. al. ---79. er. 表 4-3-3 影響發明人當年發明專利數之負二項分配模型：中心性部分. n. 表 4-3-4.a 各公司發明人網絡結構限制(自變項)對發明專利數(依變項)影響之. Ch. 單變項迴歸模型(1998-2005 年). engchi. i n U. v. ---84. 表 4-3-4 影響發明人當年發明專利數之負二項分配模型：結構洞部分. ---86. 表 4-4-1 中樞與地方性(依中心性與結構洞高低區分的四個類型). ---90. 表 4-4-2. 1998-2005 年 IC 產業專利發明人當年專利平均被引用數. ---93. 表 4-4-3. 1998-2006 年中心性分數在前百大(中心性分數=34 以上) 且穩定持續 3 年以上的發明人. 表 4-4-4. ---93. 1998-2006 年結構洞分數在前百大(結構限制分數=0.161 以下) 且穩定持續 3 年以上的發明人. ---94 III.

(8) 表 4-4-5. 1998-2005 年 IC 產業專利發明人當年發明專利數. ---95. 表 4-4-6. 1998-2005 年 IC 產業公司的專利發明人次(依產業位置分). ---95. 表 4-4-7. 1998-2005 年上游公司發明人當年專利平均被引用數. ---96. 表 4-4-8. 1998-2006 年中心性分數在前百大(中心性分數=8 以上) 且穩定持續 3 年以上的發明人. 表 4-4-9. ---99. 1998-2006 年結構洞分數在前百大(結構限制分數= 0.440 以下) 且穩定持續 3 年以上的發明人. ---99. 政治大. 表 4-4-10 1998-2005 年上游公司發明人當年發明專利數. 立. --100. 表 4-4-11 1998-2005 年中游公司發明人當年專利平均被引用數. --101. ‧ 國. 學. 表 4-4-12 1998-2005 年中游公司發明人當年發明專利數. 表 4-4-13 1998-2005 年下游公司發明人當年專利平均被引用數. --103. ‧. 表 4-4-14 1998-2005 年下游公司發明人當年發明專利數. n. er. io. sit. y. Nat. al. Ch. engchi. IV. i n U. --102. v. --104.

(9) 圖目錄頁次圖 1-1. 台灣 IC 產業各年度專利數及發明人數. ----2. 圖 2-1-1 台積電 2001 年專利發明人網絡. ---10. 圖 2-1-2 台積電發明人章勳明(Jang, Syun-Ming )2001 年專利合作發明人網絡. ---11. 圖 2-4-1 台灣 IC 產業產值(1996-2009). ---24. 圖 2-4-2 台灣半導體廠商進入市場時間曲線圖. ---24. 圖 2-5. ---25. 圖 4-1-1. 研究架構—影響專利發明人當年研發創新成果的因素. 政治大 IC 產業公司專利合作網絡圖(1988-2006 年) 立. ---39. ‧ 國. 學. 圖 4-1-2 台灣 IC 產業發明人的專利流動產生的公司連結網絡圖(1988-2006 年) ---42 圖 4-2-1 台灣 IC 產業各年度不同產業位置的發明人數. ---45. ‧. 圖 4-2-2 台灣 IC 產業中游(各年累計發明人數 200 人以上)公司. y. Nat. io. sit. 逐年的專利發明人數. n. al. er. 圖 4-2-3 台灣 IC 產業上游(各年累計發明人數 200 人以上)公司逐年的專利發明人數. ---48. Ch. engchi. i n U. v. ---50. 圖 4-2-4 台灣 IC 產業下游(各年累計發明人數 200 人以上)公司 ---51. 逐年的專利發明人數圖 4-2-5.1 台灣 IC 產業年份與發明人當年專利平均被引用次數(依產業位置分). ---53. 圖 4-2-5.2 台灣 IC 產業年份與發明人當年專利平均被引用次數(標準化) (依產業位置分). ---54. 圖 4-2-6 台灣 IC 產業年份與發明人當年發明的專利數(依產業位置分). ---56. 圖 4-2-7 台灣 IC 產業年份與發明人合作網絡的程度中心性分數(依產業位置分) ---58. V.

(10) 圖 4-2-8 台灣 IC 產業年份與發明人合作網絡的孤立者(單獨發明人)比例 (依產業位置分). ---60. 圖 4-2-9 台灣 IC 產業年份與發明人合作網絡的結構限制分數(依產業位置分) ---61 圖 4-2-10 台灣 IC 產業年份與發明人當年發明經歷(公司)數(依產業位置分). ---63. 圖 4-4-1 上游 IC 設計公司威盛 2004 年的發明人專利合作網絡. ---97. 立. 政治大. ‧. ‧ 國. 學. n. er. io. sit. y. Nat. al. Ch. engchi. VI. i n U. v.

(11) 附錄目錄頁次附錄 1：台灣 IC 產業擁有專利公司的專利數及各年度累計的發明人數 (1988-2006 年). ---110. 附錄 2：各公司當年發明人各變項分數之平均數. ---113. 附錄 3：不同公司規模的發明人網絡程度中心性、結構洞特性對專利平均被引用次數的影響. ---125. 政治大. 附錄 4：不同公司規模的發明人網絡程度中心性、結構洞特性對專利發明數的影響. 立. ---126. ‧ 國. 學. 附錄 5：位在上、中、下游不同位置的公司發明人網絡程度中心性、. ‧. 結構洞特性對專利平均被引用次數的影響. ---127. sit. y. Nat. 附錄 6：位在上、中、下游不同位置的公司發明人網絡程度中心性、. io. n. al. er. 結構洞特性對專利發明數的影響. Ch. engchi. VII. i n U. v. ---128.

(12) 第一章前言台灣在 2000 年以後半導體產業快速的發展，2004 年半導體產業產值首度破 1 兆元，2005 年整體產業產值在全球排名第四，其中晶圓代工全球產值第一，IC 設計第二，封裝測試全球第一，而在 2014 年產業產值可望突破 2 兆元(蕭文康 2014)。如今已發展至資本雄厚、市場佔有率大、且技術純熟的階段。IC(積體電路)產業是技術知識競爭激烈的產業，人才與知識在全球市場流動快速，產品創新壓力大與產品週期短，故技術知識的創新趨力更強，許多大公司自身都投資並擁有相當優秀的創新研發人才。過去關於. 政治大企業與創投資金投入(陳東升 2008)和台灣與跨國企業的合作與技術學習創新網絡(田畠立. 台灣 IC 產業技術發展的研究多著重在探討國家創新的工研院角色(陳東升 2008)、跨國. ‧ 國. 學. 真弓 2007)。但也有學者認為人才的回流才是推動邊陲國家資訊科技產業的發展的主要因素(Saxenian 2005；徐進鈺 1999)。高科技產業的特性─先進的知識與技術、生產網絡. ‧. 的去中心化─需要靠先進國家技術的人才來分享資訊、彼此建立信任關係和知識分享學. sit. y. Nat. 習創新的網絡，使得科技人才從技術先進國家就學與就業進而回流的知識流動模式成為. n. al. er. io. 推動國家科技產業發展的重要動力。. Ch. engchi. i n U. v. 全球半導體產業市場在 2000 年時面臨重大衰退，市場規模呈現百分之三十三的負成長，是二十年來最嚴重的衰退。市場競爭壓力變大，使得公司必須技術升級，才能持續有訂單(官逸人、熊瑞梅、林亦之 2013)。2000 年，也是台灣半導體技術突破的重要時點，這時，在半導體關鍵製程 0.13 微米的銅製程研發選擇上，聯電選擇了國際大廠 IBM 的技術授權，台積電則在研發長蔣尚義帶領下完成 0.13 微米製程自製，以自行研發而在 2000 年與 IBM 同步，在 IBM 時代與 IBM 平起平坐，拉大了與聯電的技術落差。而在專利數上，如圖 1-1，2000 年左右是台灣半導體專利數最多、創新最頻繁的時期，發明人數也是從 2000 年開始明顯超過專利數迅速成長，呈現專利多人合作發明的模式。. 1.

(13) 3000 2500 2000 1500. 專利數發明人數. 1000 500 0 1988 1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005 2006. 圖 1-1. 政治大. 台灣 IC 產業各年度專利數及發明人數. 立. IC 產業組織的專利代表了該產業的技術創新成果，眾所皆知，觀念與發明很少單. ‧ 國. 學. 獨而起，而是立基於其他觀念與發明之上，也常作為其他新知識之基礎。從宏觀層次來. ‧. 看，知識生產多涉及網絡，重大發明是人們合作的結果，而不是某個技術天才的突發靈. y. Nat. 感，技術創新的基礎點子(ideas)來自於人們之間通過互相交流而產生的思想碰撞。. er. io. sit. Podolny and Stuart(1995)詳述了某些技術領域中發明點子相互影響逐步演化的網絡動態特質。尤其近年來，許多對於產業的合作發明與創新的研究(Podolny 1993; Podolny and. al. n. v i n C 1996; Stuart 1995; Podolny, Stuart, and Hannen 2005; Moody 2004; Burt 2004; Uzzi U h e nPodolny i h gc and Spiro 2005)多半從網絡社會學的理論觀點和分析方法切入，能對專利創新的參與者、創新的技術內容、和創新影響的解釋提出具體的理論解釋機制。. 台灣 IC 產業技術創新和專利的研究也累積了一些成果，但較缺乏使用研發創新行動者網絡所做的分析。結構洞(structural holes)和地位訊號(status signal)的理論在過去西方半導體和生物科技等創新產業中，最能解釋創新行動者在網絡結構位置和其創新表現。專利或學術創新的發明人，點子來源都是鑲嵌在科技或學術場域中的發明人合作或專利互相引用的網絡中。發明人若在合作網絡居於結構洞多的位置；亦即和多個不重疊的聚集(clusters)有合作關係，且該聚集有能衍生較多次級關係的發明人，其創新產品較 2.

(14) 多且品質較佳。此外，在學術合作或專利發明網絡中，也經常出現「創新明星」的大者恆大的「馬太效應」；亦即，一個創新大師，是一個聲望，也是一個地位象徵，許多優秀的發明人喜歡和在創新發明上已經有地位的人合作；如此，生產的創新會更有市場價值。. 另外，徐進鈺(1999)的研究顯示，81.8%的竹科園區工作者同意在園區高科技公司常換工作是普遍的現象，也多同意這是園區的文化。勞動力流動頻繁帶來的好處是建立了覆蓋整個場域的技術交流網路，促進了技術擴散與創新。台灣研發人才專利知識的跨. 政治大. 公司流動，如何影響專利創新？也是本篇論文欲探討的主題。. 立. 雖然專利發明大多侷限在公司之內，但也有一些屬於跨公司合作的專利，形成了公. ‧ 國. 學. 司間的技術交流與合作，本論文將一併分析。. ‧. 本研究探討專利發明人組織內與組織間的合作，此外，還有發明人跨公司知識流動. y. Nat. sit. 所帶來的專利創新。企圖使用 IC 產業專利發明人網絡資料，從西方學者提出與創新發. n. al. er. io. 明有關的理論機制－結構洞、地位訊號－出發，檢視台灣 IC 產業的專利發明人合作網. i n U. v. 絡，並考慮到創新發明鑲嵌在台灣 IC 產業特有上中下游不同技術利基環境中，發展出以下的研究目的：. Ch. engchi. 1. 團體之間的弱聯繫是市場所屬社會結構中的孔洞，這些孔洞我們簡單稱之為「結構洞」，當個人的關係跨越這些結構洞時，其不僅具有可聚集多種不同訊息的優勢外，也可獲得控制的優勢以連結分離的群體而獲取利益，會為其創造出競爭的優勢。令人感興趣的問題是，在整個產業創新場域發明合作網絡中，結構洞位置較強的發明人專利發明成果影響力如何？. 2. 任何學術或產業創新市場中，都具有地位象徵的機制，發明人在越多專利與其他發明人重疊，這種發明人在專利創新場域中，地位較高，更會吸引其他發明者與其合作發 3.

(15) 明意願，故地位訊號的明星效應對發明人專利發明成果的影響為何？本研究企圖發展解釋專利發明人網絡對專利發明成果影響機制的模型。. 3. 此外，台灣研發人才專利知識的跨公司流動，如何影響專利創新？也是本篇論文欲探討的主題。有別於過去相關研究多以質性的訪談，本研究以專利資料為基礎進行分析，探討跨公司人才的知識流動和創新的意涵，並釐清在哪種條件的組織，人才流動對該公司的知識創新有意義。. 4. 本研究關懷 IC 產業的創新網絡，在產業場域廠商的範圍選定上，包括了上、中、下. 政治大基位置的公司的專利創新合作網絡的特質有何不同，在不同成長階段的變化為何？這都立游 IC 產業廠商。上游設計、中游製造、下游封測是不同的技術利基位置，不同技術利. ‧. ‧ 國. 學. 是本研究想探討的問題。. n. er. io. sit. y. Nat. al. Ch. engchi. 4. i n U. v.

(16) 第二章文獻探討何謂專利？根據美國專利法，將「可予專利之發明」定義為，「任何人發明或發現新而有用之方法、機器、製品或物之組合，或新而有用之改良者，皆得依本法所定之規定及條件下獲得專利」，亦即專利可以是新構想、新技術、新裝置或新方法。而能否申請專利的關鍵往往不在於新發明是否為技術層次高不高，只要是過去大家所不知道的，且新發明必須要能夠在產業上實現，即可申請專利。由於目前各國專利制度採屬地主義，專利權僅在核准專利之該國有效，若產品要外銷到該國，則公司必須要在當地申請專利，取得專利權後，才能在該國主張專利權。由於美國擁有最先進的技術與廣大的市. 政治大研究即以台灣的公司在美國申請的專利為研究資料來源，來探討專利發明人的創新機立. 場，許多半導體公司若研發出有國際市場前景的技術發明都會在美國申請專利，因此本. ‧. ‧ 國. 學. 制。. 關於發明家的創意來源，不同於早期的創造力研究偏重於個人特質的探討，. sit. y. Nat. Burt(2004)對於創新的研究提出一種新的切入方式，指出創意(Creativity)不是英雄的故. al. er. io. 事或是個人天賦異稟，而是結構的力量促使。他發現經理越是透過結構洞連結的，越能. v. n. 有好點子產生，把好點子的價值與中介者(Brokerage)位置的分析放在一起，跨越結構洞. Ch. engchi. i n U. 的人們有比較早的機會接受與解讀多樣的訊息，讓他們看到，並且發展好點子。. 這樣的好點子有三個特性，其一是在組織中為解決問題所產生，如同專利是為了解決技術問題所產生的創新。其二是，好點子並非是靈光一現、天外飛來一筆，而是過去很多的討論網絡、合作網絡的產物。其三則是，好點子不能與世隔絕、孤芳自賞，其涉及一種傳播的過程，必須由受眾願意去佐證它，才讓它有價值，專利也是如此，必須被引用，才具有價值。. 合作網絡成為企業和專業人員追求科學創新的過程中實現優勢互補和共同聯合的主要選擇(Camarinha-Matos and Afsarmanesh 2005)。科學發明現在已經普遍朝向團隊合 5.

(17) 作(teamwork)，被高引用(即高影響力)的研究常常是由團隊生產出的，而不是單獨作者 (Guimera et al. 2005，Wuchty et al. 2007)。本論文想由結構洞、地位訊號理論機制來解釋專利的團隊合作，如何影響創新與發明的價值。衡量研發創新成果最直接的指標是專利核准數，公司或個人的專利數越多，代表創新成果越佳。但專利不能只關注數量，還必須著重品質，對於專利創新的品質與價值評估，Allison et al.(2004)認為專利的市場價值評估項目包括： (1)權利要求的項數─其能反映一項專利的廣度，因而較有價值。 (2)引用文獻的篇數─引用文獻(citation made 或 backward citation)愈多，愈傾向於證明專. 治政大 (3)被引用的次數─專利被引用的次數多，足證其受到其他發明人的高度重視，因而比較立利的有效性，所以較有價值。. 有價值。. ‧ 國. 學 ‧. 由於專利必須是由大眾願意去接納採用它，才讓它有價值(Burt 2004)。故本研究以. y. sit. io. n. al. er. 發明的品質價值評量。. Nat. 被引用的次數為指標，亦即以發明人當年專利平均被引用次數高低來作為發明人的創新. i n U. v. 以下先說明結構洞、地位訊號這二個解釋創新發明的社會網絡理論，接著介紹具有. Ch. engchi. 台灣特色的專利人才跨公司流動，以及 IC 產業上、中、下游不同分工的技術利基位置的相關研究。. 關於專利發明合作的理論解釋機制：「地位訊號」與「結構洞」剛好指涉社會資本概念的兩種面向( Burt 2001)。第一種強調網絡的緊密連帶，視佔據網絡核心的網絡位置為優勢(Mizruchi 1996)，即與網絡中他者的連結重疊越多，在網絡中的地位越高(Podolny 1993)；另一為強調佔據網絡分佈空隙而取得仲介利益之便的結構洞的概念(Burt 1992)。由於組織中產生的創新，不是天才型的點子，而是必須鑲嵌在組織內外異質多元的網絡，互相影響刺激下才能產生較好的創新發明。發明人在合作網絡中的「地位訊號」與「結構洞」兩者應都會對其創新發明帶來影響，以下分別加以說明： 6.

(18) 第一節結構洞與發明各種類型的經濟交易市場網絡存在許多不同的群聚(clusters)，這些群聚往往是不連結的，故在市場網絡中充滿了「結構洞」的機會。若有人能夠將不連結的孔洞中進行搭橋，則該結構洞搭橋的位置會創造出不等值的社會資本(Burt 1992)。通常衡量一個結構洞可創造的社會資本是從兩個面向來看，一個是效率 (efficiency) ，一個是效能 (effectiveness)。可搭橋的洞的效率是看這個橋樑將多少不重疊的聚集連結起來；而效能是看連結聚集內直接和間接關係的人數。當個人的關係網絡能夠橫跨越多結構洞的位. 治政大的人們提供資訊流通的有利環境(中介)，也可使得結構洞對立的聚集的人們得以聯繫起立置，所累積的社會資本越豐富，競爭優勢越強。結構洞像是一種緩衝器，它可為團體間. 來。. ‧ 國. 學 ‧. 「效率」與「效能」是判斷社會網絡佈局時，型塑最佳化社會網絡的原理。一般而. y. Nat. 言，人們投資社會網絡，包括直接關係和間接關係的投資。社會網絡佈局符合「效率」. er. io. sit. 的原理，是指人們將接觸的直接連繫盡量分散到不同的社會圈中；亦即，投資社會網絡關係時，盡量不要投資許多彼此已是緊密連結的團體成員，或高密度往來的成員。這樣，. al. n. v i n 會造成社會網絡關係投資的資源浪費。效能是指人們投資社會網絡時，有效擴張社會網 Ch engchi U. 絡的策略原理。最具有「效率」和有「效能」的社會資本投資者，其投資的直接關係者，是不同社會圈中的核心成員，使得這些有限的社會關係能夠有效率地分佈在不重疊的社會圈中，故效率高。此外，因為這些直接接觸者，又都是不同社會圈的核心者，故透過這些人，可以觸及該社會圈最多的人們，故效能越高。效率與效能只是用來投資社會網絡佈局時運用網絡資源分配的原理，以期使其均衡有效之用；實際測量時，最常使用的指標仍是「結構洞」(結構限制)，因此本研究以結構洞作為測量及分析的指標。. 許多文獻均指出，結構洞或橋樑者有助於創新或新制度的推動。DiMaggio(1992) 強調結構洞的核心位置的重要性，他描繪在建立紐約現代藝術博物館時，Paul Sachs 即 7.

(19) 扮演中間人的角色，因其能透過強連繫連結各部門(博物館、大學、財務部門)的關鍵領導者，故能使得博物館有效地推展開來。Padgett and Ansell(1993)描述 Cosimo de Medici 透過接觸異質化社會圈的核心人物，進而能間接地與敵對家族派系產生連繫，故能在文藝復興時期的佛羅倫斯動員各種資源，建立其政黨，產生影響力。Collins(1998)則以社會矩陣法計算哲學家代間社會網絡，指出聲望最高的哲學家在其世代中常為各種衝突學派的橋樑者，可以進行綜合不同觀點，進而產生新觀念的創新。. 組織中結構洞多者，往往能獲取較多的創新觀念，進而引進新觀點，提升組織學. 治政大領導者能識別新的、外部資訊的價值，吸收消化後，將之應用在公司商業競爭上的能力。立. 習能力。Cohen and Levinthal(1990)指出組織吸收能力對組織競爭的重要性，結構洞多的. ‧ 國. 學. 然而，組織內結構洞多者，未必在經驗研究中，都能發現產生具體的效果。有些社. ‧. 會規範與市場機制會抑制結構洞的效果。中國或日本典型的集體文化，並不鼓勵人際網. y. Nat. 絡間的競爭空隙機會的探索，比較強調派系與高密度的信任網絡。Xiao and Tsui(2007). er. io. sit. 將結構洞理論帶入不同的文化脈絡，研究中國高科技公司的個人佔據職業網絡中介者位置，是否能夠帶來在西方脈絡研究發現的結構洞利益。其指出中國典型的集體文化將抑. al. n. v i n 制結構洞的影響。研究發現，在組織的層次，在高承諾(high-commitment)文化(強調人 Ch engchi U. 際相互投資的文化)的組織中，結構洞中控制帶來的利益(control benefits)與文化中強勢的合作精神不一致；在這樣的組織中，共有分享(communal-sharing)的價值使結構洞中資訊帶來的利益(information benefits)無法物質化(materialize)；而橋樑中介者也與中國的集體價值相扞格。進一步地說，組織若越具有類似宗族(clan-like)、高承諾的文化，則結構洞越不利於員工的職業成就(如薪資或分紅)。. 此外，結構洞也受網絡內容影響。結構洞是否構成社會資本，須視網絡的內容而定(Podolny and Baron 1997)，結構洞在資源網絡中能創造社會資本，但在認同網絡(行為規範與角色期待流動的管道)中則否(Ibarra and Smity-Lovin 1997)。其他可能與結構洞效 8.

(20) 果產生交互作用的干擾變項(moderators)還包括同儕數量(Burt 1997)、組織變遷(Gargiulo and Benassi 2000)、網絡的內容與目標(objectives)(Ahuja 2000)及網絡中的時間面向(Soda et al. 2004)。. 一般而言，若一個人在組織內網絡的結構洞越多(包含結構性衡量的效率與效能)，當這個人身為橋樑者，能將不重疊的聚集連結越多，則其可搭橋的洞的效率越高；而其連結聚集內直接和間接關係的人數越多，則其效能越大。若這兩個面向兼具，則其諮詢討論的人不僅數目較多，且來自不同團體，所以在組織內越有創新解決問題的能力。. 治政大結構洞的位置越多，越能從更多不重複的聚集獲得資訊或好點子來源，而當某人立. 若能操弄這些結構洞的位置搭橋功能時，其不僅具有可聚集多種非重疊異質化的訊息的. ‧ 國. 學. 優勢外，也因控制該優勢位置，可以從中玩弄分裂和中介的角色，以便從中擷取最大利. ‧. 益。. y. Nat. er. io. sit. Burt(2001,2004)的研究顯示，位於組織中結構洞的位置與工作表現升遷報酬皆呈現正相關，亦即一個人在組織內網絡的結構洞越強，則在組織內越有創新解決問題的能. al. n. v i n 力，故較早升遷。Burt(1992)指出結構洞所能擁有的資訊優勢，是結構洞多的人，會擁 Ch engchi U 有較多跨團體間的關係；團隊內相較於團隊間往往成員組成越同質，因此一個橫跨結構洞多的中介者，往往能夠從中獲取有利的資訊與多元的資源，而會影響創新與發明。 Burt(2004)針對美國某大電子公司的供應商經理做研究，透過詢問經理們對改善供應鏈的想法，判斷該位經理是否擁有好的點子(good ideas)，並與其網絡位置作關聯。其研究結果指出，橫跨結構洞的中介者比起組織中其他人，除了能取得多元的資訊，也進而能激發出新的想法，此外，結構洞多的網絡，新點子傳播速度也快。顯示經理的網絡有跨越到結構洞的就會更容易傳遞點子，並且與同事討論，資深經理較會提出點子，這些點子也比較容易被認為是有價值的。. 9.

(21) Burt(2004)的研究給我們的啟發是，研究創新，把好點子的價值與橋樑者位置的分析放在一起，跨越結構洞的人有比較早的機會接受與解讀多樣的訊息，因此有助於發展好點子。而且創意是需要透過傳播的過程，新點子才會普遍被市場接納，進而創造新點子的價值。亦即，點子必須是由大眾願意去接納採用它，才讓它有價值。故本研究以發明人當年專利平均被引用次數高低來作為發明人的點子的價值評量。. 立. 政治大. ‧. ‧ 國. 學. n. er. io. sit. y. Nat. al. Ch. engchi. i n U. v. 圖 2-1-1 台積電 2001 年專利發明人網絡［左上長方框處為章勳明(Jang, Syun-Ming)(藍色點)及其發明合作網絡］. 10.

(22) 立. 政治大. ‧. ‧ 國. 學. 圖 2-1-2 台積電發明人章勳明(Jang, Syun-Ming )2001 年專利合作發明人網絡. 舉一個台積電發明人的例子，擁有麻省理工學院(ＭＩＴ)材料博士頭銜的章勳明. sit. y. Nat. (Jang, Syun-Ming)，民國八十二年加入台積電，三度蟬聯年度「發明王子」(吳修辰、江. al. er. io. 祥得，2002)。章勳明在 2001 年時，共參與 47 個專利的發明，與 26 個發明人合作，這. v. n. 些專利平均具有高的引用數(9.617)，他的發明人網絡，具有高度的程度中心性與高度的. Ch. engchi. i n U. 結構洞特性。結構洞強調不重疊，也就是與不同的團隊成員合作，若是結構限制高代表都與同樣的一群人合作。. 圖 2-1-1 是台積電 2001 年專利發明人合作網絡呈現出分化中帶有連結的結構特質，左上長方框處為章勳明(Jang, Syun-Ming)(藍色點)及其網絡。圖 2-1-2 是只選出章勳明(Jang_Syun-Ming)的合作網絡，連線的粗細表關係數的多寡。細部來看，其左半部的專利相較於右半部合作的專利有較多發明人重疊，結構限制較大，整體來說， Jang_Syun-Ming 仍具有相當高的結構洞特性，連結著許多非重疊的專利發明人，與不同的團隊成員合作。. 11.

(23) 近來，Burt and Merluzzi(2014)的研究指出，地位與結構洞這兩個概念雖然出現在同一研究社群，卻很少一起討論。因此他提出兩變項的經驗證據和推斷—網絡地位和結構洞—在概念和實際上密切相關，當兩個變項互為補充一起被分析來定義網絡優勢更是清楚地顯示其優勢所在。他論證正式組織中工作職位較高的經理人，社會地位高，其網絡即提供更大的接近結構洞，因此收到較高的報酬，較多的正面評價，和更快的升遷。非正式組織也是如此，高網絡地位，在當中被嵌入結構洞，如同高工作職位與較多結構洞和跨洞中介(brokering across holes)的較高回收相關聯，高網絡地位也與較多結構洞和較高回收相關聯。因此，網絡地位與網絡中介在概念上，在事實上，和結果上有密切關係。. 政治大. 從以上的結構洞理論，可演繹成解釋台灣IC產業專利創新網絡模式與解釋機制的假. 立. 設如下：. ‧ 國. 學. 假設：在台灣 IC 產業專利發明人網絡中，居結構洞位置越強(結構限制低)的發明人，平均專利被引用次數較多或稱專利影響力較大，專利發明數也較多。. ‧. n. er. io. sit. y. Nat. al. Ch. engchi. 12. i n U. v.

(24) 第二節地位訊號─明星(star)論與發明. 地位訊號(status signal；star)理論是由 Podolny(1993)所提出，他使用商業銀行的投資及半導體專利引用網絡的資料，論證其市場網絡中的地位理論。他認為企業傾向和具有較大交易量的公司進行交易，因此市場交易網絡中的高地位成為企業選擇交易夥伴的最佳訊號指標。. Moody(2004)研究 1963-1993 年美國社會學家共同合作網絡所存在的理論解釋機. 政治大究撰寫論文的機制。他認為在學術合作創作網絡中的明星，亦即最多人曾經和他合作過立制，提出學術明星的生產(star production)和再製的假說，來解釋美國社會學家間合作研. ‧ 國. 學. 的人，往往是能產生最多創新的作品，且其作品也最多人引用，產生最大的影響力。這個假說是立基於，這種學術明星對過去與現在學術發展的脈絡，和具有學術創新的好點. ‧. 子的知識利基在哪都很嫻熟，更能看到未來知識創新的利基，也知道要和具備哪些知識. sit. y. Nat. 資源的人合作，才能繼續在知識創新的市場中，居競爭優勢地位。而學術市場和研究創. n. al. er. io. 新專利發明的市場網絡機制應該很類似。. Ch. engchi. i n U. v. 網絡裡中心性分數高的人，地位訊號較強，人們也傾向與之合作、共享重要資訊、創造共同的觀點。因此，當行動者佔據社會互動網絡核心的位置，較可能被網絡中其他行動者認為值得信賴，也有助於知識分享與知識創新。在企業組織中單位間的資訊交換網絡，若某一單位在此社會網絡中的中心性高，與其被信任的程度呈正相關(Tsai 2000)；此外，位於網絡中的核心位置，會增加接觸到其他單位所具有的新知和專門技術的可能性(Rycroft 2003)。. Podolny(1993, 2005)的地位訊號理論指出地位即訊號，由於市場中資訊的高度不對稱，故地位的外顯訊號成為辨識資源交換對象的參考依據。組織在網絡中的中心性可以代表其在網絡中的地位(status)。當環境不確定時，組織行動者會試圖辨識場域中其他組 13.

(25) 織的條件，作為後續進行交易與合作關係的參考指標(Podolny, Stuart, and Hannan 1996)。而在有限理性(bounded rationality)下，網絡夥伴的選擇並非隨機，行動者會偏好或傾向與場域中地位較高者互動(Powell et al. 2005)，換言之，攀附核心組織的行動普遍被認為是理性的選擇，而中心性較高的組織會較受歡迎，成為聚焦與連結的核心。. 當某一公司在組織場域內的技術合作網絡中心性高時，即易吸引更多企業在技術創新上與之連結，當組織直接與間接連繫越多時，其隨後創新的結果也越佳(Ahuja 2000)。場域中的高中心性代表該公司在場域中能獲得更多權力與資源，由於高地位的象徵性意. 治政大此，在場域中若組織前一個時間點越居於網絡的核心位置，對方公司在後一個時間點越立. 義，使其有較多機會成為更具競爭力的組織或明星，同時亦會出現或強化馬太效應。因. 會辨識其明星地位的訊號，也越傾向與其發展技術創新的連結(林亦之、熊瑞梅 2012)。. ‧ 國. 學 ‧. 過去美國生物科技產業技術合作演化網絡的組織社會學研究發現，地位訊號造成大. y. Nat. 者恆大的明星效應很強。台灣的 IC 產業的屬性如同美國生物科技產業，是一個須不斷. er. io. sit. 創新才有競爭力的產業。在一個產業或學術社群裡，往往是頂尖的成員才具有創新能力，美國社會學期刊的作者合作網絡，也發現社會學家傾向和那些原本就有許多人與之. al. n. v i n 合作的重要社會學家繼續合作(PowellCet al. 1996, 2005；Moody 2004)，換言之，中心性 hengchi U 高的成員，馬太效應會不斷增強再製。. 如同 Podolny(1993; 2005)指出，地位作為一種訊號機制。一個發明人的高地位，使得大家都願意和它產生連結，促進他與其他發明人的合作，從而又提高了它的影響力，造成了馬太效應，大者恆大的結果。Moody(2004)的學術明星(star)理論指出，網絡連結範圍越大或權力位置越高的節點，越能位居資訊中心的位置，他使用程度中心性(degree centrality)來看每一個人，跟幾個人有連結，也就是他跟幾個人曾經是共同作者，用來測試模型，看看是不是所有人都依賴核心人物來連結。. 14.

(26) 中心性代表影響力，可以衡量一個人重要與否及其地位優越性，其重要的指標-程度中心性是一個人關係數量的總和，最常用來衡量誰是這個團體中最主要的中心人物，也就是最有地位的人。擁有高中心性的人，在這個團體中具有一個主要的地位。. 由明星的地位訊號理論，推衍出如下的假設：假設：在台灣 IC 產業專利發明人網絡中，網絡中心性分數較高的發明人，平均專利被引用次數較多，或稱專利影響效果較大，專利發明數也較多。. 立. 政治大. ‧. ‧ 國. 學. n. er. io. sit. y. Nat. al. Ch. engchi. 15. i n U. v.

(27) 第三節專利知識的流動與發明自願遷移(voluntary migration)若依誘發原因來區分，其中的一個類型是勞動力的流動(labor migration)。勞動力(人才)的流動是公司甚至國家產業技術創新的一個關鍵要素。Saxenian(2005)就認為全球化的過程中，雖然資本的流動一直是最受關注的，但隨著運輸成本的降低及通訊的便利使得人才流動的現象更為明顯。原本在發展國家中面臨人才單向外流到已開發國家情形轉變為人才的回流。這些回流的人才為母國帶回尖端的科技知識，也正是這些科技人才帶動母國資訊科技產業的發展。然而，這種跨國 IT 產. 治政大時，IT 產業是垂直整合的形式，一家公司生產所有需要的零件。直到矽谷產業模式的立. 業網絡的形成，除了歸因於跨國科技社群外也與資訊產業的特性有關。在 60、70 年代. 興起打破了垂直整合的形式，使得 IT 產業變得更為分化、破碎(fragmentation)。IT 產業. ‧ 國. 學. 的組織形式由垂直整合轉變為生產網絡的形式，各個公司專門於 IT 產業的某個領域－. ‧. 如晶片設計、製造、封裝、測試、行銷等。這樣去中心、專門化的生產形式使得邊陲地. er. io. sit. y. Nat. 區有了發展 IT 產業的機會。. 國家與跨國企業是影響邊陲國家資訊科技發展的重要因素，但 Saxenian(2005)以新. al. n. v i n 加坡與馬來西亞為例，這兩個國家雖然都有來自矽谷公司的直接投資，同時國家也有積 Ch engchi U 極的產業政策促進 IT 產業的發展，但這兩個國家 IT 產業卻不及台灣，她認為除了國家及跨國企業外，因為人才流動所形成的跨國科技社群更是扮演了重要的角色。垂直整合的產業形式使得科技社群及知識侷限在公司內，Saxenian(2005)認為矽谷模式的產業組織則能打破廠商間的界限，人才、技術及隱性知識(tacit knowledge)得以自由流動。去中心、專門化的生產形式及自由流動的資訊及技術，使得科技人才可以在返國創業的同時仍與矽谷維持聯繫以因應市場的不確定性及科技的創新。. 對台灣新竹科學園區的積體電路產業而言，流動產生的創新，除了 1990 年代，藉由與積體電路產業的研發核心區域美國加州矽谷，有著緊密的人才與技術交流的關係， 16.

(28) 提供了新的技術與產品的嘗試，使得整個生產體系可以避免鎖死在既定的技術架構。另一個創新來源則是，由於勞動力及技術的開放性，勞動力在園區的流動，有助於垂直分工體系的上下游廠商之間的整合，這樣的整合將有利於廠商更有效率的利用既有的技術與產品典範，包括產品的發展時程縮短以及製程上的改良(徐進鈺 1999)。. 為何新竹科學園區會產生人才及技術的高流動率現象？Herzog and Schlottmann(1984)研究什麼因素會影響勞動力的流動決策？分析 1970 年的美國勞動力普查，以 1965 年時 19 歲到 70 歲的白人勞動力為對象，檢驗個人特性和區域經濟情況. 治政大 technical workers)來說，在個人特性方面，年紀越大，越傾向不流動；失業狀態以及先立對勞動流動決策的影響，結果發現，對於職業地位是專業技術人員(professional and. 前曾有流動經驗都會增加選擇流動的可能性。州經濟情況方面，失業率越高，越會選擇. ‧ 國. 學. 流動，而平均薪資越高則越少會選擇流動。專業技術人員的教育程度、婚姻狀態對於勞. ‧. 動流動決策則沒有顯著影響力。另外，流動的目的公司和原來公司的距離也會影響流動. y. Nat. 意願，距離與流動選擇呈負向關係，因為資訊流通的程度，隨著目的公司和原來公司的. er. io. sit. 距離而減少，換言之，距離越遠，公司彼此之間資訊流通程度越低，因此取得目的公司資訊的成本越高，流動的意願越小。. n. al. Ch. engchi. i n U. v. 台灣主要的 IC 公司都集中在新竹科學園區西南角一條帶狀的路，創新一路、創新二路，群聚的密度，世界罕見，從設計到製造公司，全都在五分鐘的車程內(吳琬瑜、孫珮瑜，2007)。新竹科學園區 IC 公司之間距離近，人員接觸頻繁，因此資訊流通程度高，流動需要的取得資訊成本較低，因此增加園區內員工流動的可能性。. 除了廠商聚集使距離近之外，在竹科高科技公司常換工作是普遍的現象，換言之，在園區中，是一種可被接受的價值與現象，甚至視為發展生涯的一種晉升方式，個人往往可以得到更高的薪資，並且產生更好的技術創新。徐進鈺(1999)的調查指出流動的原因除了更高薪的原因，受訪者往往到新職位更能發揮所長。 17.

(29) 由於高科技的產業技術快速變遷的特性，許多新的技術在很短的時間內，就變成過時的技術，而需要更新或甚至另尋新的技術發展。面對這樣的技術環境，工程師藉由在不同公司的歷練，將就業成為一種學習的路徑，個人在這個過程發展與累積知識，跳槽到新公司，同時也加入新的社會網絡，認識新的技術同僚，以及附身在這些新的個人身上的新知識，得以將既有的經驗再加以新組合，與新公司的技術團隊有新的合作；而對於公司而言，這種有經驗的員工加入，可增加對公司既有技術團隊的刺激，藉以保持技術的新陳代謝。因為高科技的發展已經成為一種團隊的運作，很難由個別公司或個別工程師獨立來發展，需要一群相關的工作人員，甚至是以跨公司界線的方式來組成技術團. 政治大. 隊，而這正是類似園區這種存在著技術社群的區域所佔有優勢(徐進鈺 1999)。. 立. 跨公司界線的交流，產生較佳的技術創新，也展現在公司間的合作上。陳東升(2008). ‧ 國. 學. 蒐集積體電路產業，主要的設計、製造、封裝與測試公司的組織合作事件(包含技術合. ‧. 作、財務資金合作、協力生產合作、其他)，發現1987年以後，每年組織間的合作互動. io. er. 展優勢。這樣的關係呈現了一種開放的組織間合作網絡結構。. sit. y. Nat. 關係都是以很快的速度在增加，透過組織間合作關係的建立，以提升企業的競爭力與發. al. n. v i n 關於竹科廠商間開放的組織間合作網絡結構對於人才及知識流通創新的影響。田畠 Ch engchi U. 真弓、莊致嘉(2010)的研究發現日本受到企業集團封閉性的組織網絡和低流動性的科技人才流通的影響，所以在引進和學習技術的過程中，企業組織是知識流動的主要行動者。相反的，台灣高科技產業界受到高頻率的人才流動和科技社群及國家所塑造的區域優勢之影響，技術人員直接扮演著知識移轉和擴散的主要行動者。雖然對於企業組織而言，人才的高流動性容易引起技術機密洩漏，然而頻繁的人才流動卻是高科技產業界知識擴散和流通速度的原動力。在台灣積體電路產業的知識擴散和流通的過程中，技術人才的高流動性帶來了相當大的正面影響。. 18.

(30) 本研究透過專利資料的分析想了解台灣 IC 產業人才流動對技術創新的影響，在流動的變項操作化上是以發明人發明專利的所有權(assignee)歸屬公司的變遷情形來作為流動次數的依據，但有兩個流動的例外情形是，少數發明人擁有的專利屬於不同公司是因為產學合作使得本身是大學教授的發明人有著許多公司的專利，Saxenian(1994)在研究影響區域經濟發展的主要因素，以舊金山地區矽谷與波士頓地區 128 號公路，兩個地區周邊之高科技產業發展作為比較研究對象，提到與附近的著名研究型大學，如史丹福大學、加州大學柏克萊分校產學密切交流互動是矽谷成功的原因之一。竹科附近的清華大學、交通大學與竹科廠商之間也有許多合作交流，交大電子所的柯明道教授即先後擁. 治政大有發明人因為參與同一企業集團的兩家公司共同研發的專利，所以在專利資料中，發明立有聯電、華邦、台積電、世界先進、智原、矽統等六家 IC 產業公司的專利。此外，還. 人的專利分屬於兩家公司，例如屬同一集團的茂矽與茂德就有 49 筆共同合作研發的專. ‧ 國. 學. 利，這些專利分屬兩家公司，這些發明人也得以與另一家公司的技術團隊合作。所以在. er. io. sit. y. Nat. 利發明的當年曾累積多少參與不同公司技術團隊的經驗。. ‧. 變項概念的界定上，是以發明經歷(公司)數來包含因為流動、合作等原因，發明人在專. 這些在不同公司的專利發明經驗提供了知識交換的機會，也提供了社會網絡以及發. al. n. v i n 展社會資本的機會，個人可以在其中尋求與他人技術知識的合作或互補。Erickson(2009) Ch engchi U 定義的社會資本意義是個人網絡接觸種類的多樣性，尤其是指個人認識他人職業的多樣性，人們在很多場合有著更多樣的接觸可預測地將有越高的收入，因為多樣化的接觸提供了資訊的廣泛多樣性。雇主經常想要有著多樣網絡的人去從事高階工作，這些工作典型地需要資訊收集和與人合作，因此這些有多樣網絡的人們有時得到較好的工作 (Erickson 2001)。曾有跨公司經歷的發明人因為接觸到不同公司的發明合作網絡，這種多樣的接觸豐富了發明人專利知識的廣泛多樣性。因此有著跨公司發明經歷的專利發明人，能將觸及的不同公司點子融合在一起，可能產生較佳的發明成果。發明經歷(公司) 數越多的發明人，接觸到不同公司的發明網絡越廣泛多樣，所以可能越會創新，產生較多且影響力高的專利發明。 19.

(31) 所以我們可以推出假設：在台灣 IC 產業，發明經歷(公司)數較多的發明人，平均專利被引用次數較多，或稱專利影響效果較大，專利發明數也較多。. 過去研究的研究時間多在 2000 年以前，2000 年後尤其小型的 IC 設計公司如雨後春筍成立，本研究加入了 2000 年以後台灣半導體產業蓬勃發展的時段，透過專利資料的實證研究，以釐清過去文獻指稱的「流動型勞力市場」對 IC 產業研發創新的關係，是否發明人在不同公司的發明經歷越多，越能產出較好的創新發明？本研究並進一步依. 治政大影響有何不同？期能對於台灣 IC 產業的創新機制有更多了解。立. 據公司所在產業鏈的位置，分析不同上、中、下游產業位置的公司發明人流動對創新的. ‧. ‧ 國. 學. n. er. io. sit. y. Nat. al. Ch. engchi. 20. i n U. v.

(32) 第四節產業技術利基位置與發明 Podolny et al.(1996)發展了技術網絡中組織特殊利基位置的概念，以競爭的擁擠程度和地位之面向來區辨位置。而台灣 IC 產業組織因產業分工所造成的技術利基位置，與其在市場中成長之關連和專利發明的關係為何？. 本文所指稱的 IC 產業，主要以積體電路產業為主。積體電路產業，依產業結構位置及分工流程，主要可分為三個階段：設計、製造、封測。可因不同的技術、產品利基，. 治政大以及下游的 IC 封測，為本研究的研究對象。立. 將製造再分為晶圓製造及 DRAM 兩類。因此，上游的 IC 設計；中游的晶圓製造、DRAM；. ‧ 國. 學. 台灣 IC 產業因接近產品市場(資通訊、消費性電子產品)，為電子產品的最重要關. ‧. 鍵零組件，以及因後進代工切入的特殊選擇與被選擇，而具有跨歐美日韓等國競合關係. y. Nat. 間高度策略聯盟戰略意涵的全球半導體產生產網絡橋樑者位置，加上國內廠商各佔市場. er. io. sit. 利基，以及國家長期列管為重要策略性工業，享受高度租稅優惠，其上下游垂直及水平分工的完整產業供應鏈體系在群聚效應及多重資源挹注下，交錯形成龐大綿密、產業關. al. n. v i n 聯性強的生產網絡，使得客戶產品上市時程(time-to market)有效縮短，故對外極具競爭 Ch engchi U 力。從 1960 年代末發展至 1990 年代中期的二十餘年間，台灣 IC 產業已超越德國，成. 為僅落後美、日、韓的世界第四大半導體生產國(Mathews and Cho 2000；許瓊文 2003)。. 就整體產業而言，台灣 IC 產業景氣波動主要受美國影響，與美國 IC 產業連動關係密切，IC 產業景氣約五年一循環1，大致可將全球半導體景氣循環區分為 1996-2001、 2001-2005、2005-2009 三個週期。2000 年中為上一波高點，但因美國 NASDAQ 高科技股於 2000 年 3 月後網路產業泡沬化的股災波及，台灣 IC 產業跨業投資及被美國市場影. 1. IC 產業每五年一次景氣循環為張忠謀於 2001 提出，被稱為「張忠謀定律」(Morris' Law)，他認為導致 IC 產業不景氣的原因主要多為「供給過剩」。 21.

(33) 響的結果顯現在 2001 年的跌至該波谷底，該年 B/B 值亦跌到 0.64 的新低點2；2001 年後觸底反彈，到 2005 年又落底，跌至 0.87(林亦之 2010)。台灣 IC 產業的整體產值在 2001、2005 也分別相應如是(圖 2-4-1)，簡言之，此二年很類似一個產業的循環階段，從一個低的低點成長到一個高的回檔低點。. 圖 2-4-2 是 2006 年公開發行以上(上市、上櫃、興櫃、公開發行)123 家上游 IC 設計 (含設計服務)、中游晶圓製造、DRAM、下游 IC 封測公司成立時間所製成之圖，此圖表示廠商在不同時間點進入市場時的擁擠趨勢，此處不同技術利基的的擁擠度是以該年. 治政大 IC 設計廠商數目最多擠度的大致輪廓：就公開發行以上公司而言，台灣 IC 產業以上游立度 IC 產業不同技術利基的廠商誕生的家數。圖 2-4-2 顯示台灣半導體廠商生態利基擁. (多數為中小企業)，1995 年以後大量且持續有廠商投入。其餘的半導體晶圓代工、DRAM. ‧ 國. 學. 和封裝測試公司，由於資本額相當龐大，故進入公司少，且加入競爭的廠商個數相當穩. ‧. 定。. y. Nat. er. io. sit. Mathews and Cho（2000）的研究認為台灣 IC 產業場域發展出代工的技術利基和後進學習追趕的槓桿策略，這個槓桿策略包括兩個部份—財務策略與技術學習追趕策略。. al. n. v i n 台灣 IC 產業發展的始於技術槓桿中的代工機制，而彈性組織垂直分工的選擇，使得不 Ch engchi U. 同類型、產品市場區隔的組織專攻不同製造流程及發展出不同的利基空間。組織技術槓桿策略的技術學習，可看出中游製程代工為場域的核心，向上下游產生財務和技術的槓桿效應，而達到技術升級及領先的目的。Feenstra and Hamilton (2006) 指出台灣及南韓 IC 產業發展，從產業結構分工與時間的角度來看，南韓 IC 產業的組織形態一直為穩定的垂直整合模式，而台灣半導體廠商的垂直分工具有高度彈性且產品多樣化，是從後端的封測起家，至主力的製造再到最近幾年蓬勃發展的 IC 設計的向上游發展的趨勢。. 2. B/B 值為北美半導體設備「訂單／出貨」比 (Book-to-Bill Ratio) ，係 IC 產業組織判斷未來景氣的重要指標，B/B 值的變動反映景氣好壞。當 B/B<1 時，表示半導體廠商對未來市場態度趨保守，故降低對設備的投資，亦即表示未來景氣低迷；反之，B/B>1 則表示廠商看好未來景氣 (林亦之 2010) 。 22.

(34) 林亦之、熊瑞梅(2012)對台灣 IC 產業組織間技術合作網絡中的學習、創新與擴散的研究結果指出，在 2001、2003、2005 三年當中，不同結構位置(上游、中游、下游) 主要的契約類型不同：上游 IC 設計業屬於擴散契約的比例最高；中游 IC 製造業則創新最多；下游封測業屬學習的契約比例最高，創新及擴散則最低。以邏輯迴歸分析影響台灣 IC 產業上市公司技術學習、創新與擴散之因素，台灣 IC 產業的結構位置差異(position differentiation)(上、中、下游)的效果相當穩定及顯著。相對於下游，中游傾向創新，而上游和中游廠商同時傾向擴散，在加入其他變項後，結果顯示產業位置是最重要的影響因素。換言之，上、中、下游「垂直分工」的生產模式高度影響台灣 IC 產業技術合作. 政治大. 網絡的類型(林亦之、熊瑞梅 2012)。因此，本研究認為產業結構位置可能是影響創新的重要因素。. 立. ‧ 國. 學. 由於台灣 IC 產業鏈上中下游居於不同的技術利基位置，有著不同的產品特性與成. ‧. 長週期，故可提出：. y. Nat. 假設：在台灣 IC 產業中，上中下游產業結構位置是影響專利創新影響力及數量的. 在不同上中下游公司而呈現不一致的作用。. n. al. Ch. engchi. 23. er. io. sit. 重要因素，發明人結構洞、中心性分數對專利被引用數、專利發明數的影響，會因. i n U. v.

(35) 16000 13933. IC設計. 12000 產值（億元新台幣）. 14667. IC產業產值. 14000. IC製造. 11179 10990. 晶圓代工. 10000. IC封裝. 8000. 8188. IC測試. 7144. 6529. 6000 5269. 4235. 4000. 2479. 1882. 2000. 12497. 13473. 2834. 0 1996. 1997. 1998. 1999. 2000. 2001. 圖 2-4-1 台灣 IC 產業產值(1996-2009). 立. 2002. 2003. 2004. 2005. ‧ 國. y. sit er. al. n. 10 家數. 2009. ‧. io. 12. 2008. 學. Nat. 14. 2007. 政治資料來源大：工研院 IEK-ITIS 計畫. 台灣半導體廠商進入市場時間曲線圖. 16. 2006. 8. Ch. engchi. i n U. v. 上游中游-製造中游-DRAM 下游. 6 4 2. 2003. 2002. 2001. 2000. 1999. 1998. 1997. 1996. 1995. 1994. 1993. 1992. 1991. 1990. 1989. 1988. 1987. 1986. 1985. 1984. 1983. 1980. 1973. 1971. 0. 成立時間. 圖 2-4-2 台灣半導體廠商進入市場時間曲線圖. 24. 資料來源：官逸人、熊瑞梅、林亦之(2012).

(36) 第五節研究架構由以上的四個假設，可以推導出本論文的研究架構：. 發明人在當年專利合作網絡的結構洞位置(結構限制分數). 發明人研發創新成果. 發明人在當年專利合作網絡的地位訊號(程度中心性分數). 立. 1. 專利發明的影響力 (即專利平均被引用次數) 2. 專利發明數. 政治大. ‧. ‧ 國. 學. 發明人當年專利發明經歷(公司)數. 發明人當年所在公司的. Nat. sit. n. al. er. io 圖 2-5. y. 產業位置(上、中、下游). i n U. v. 研究架構—影響專利發明人當年研發創新成果的因素. Ch. engchi. 圖 2-5 為本論文的研究架構，以專利發明人為分析單位，試圖以西方學者提出的與創新發明有關的合作網絡理論機制－結構洞、地位訊號，以及屬於台灣特色的高科技產業高頻率人才流動的個人經歷，與鑲嵌在 IC 產業上、中、下游不同分工的技術利基位置的環境，探討這些機制對於專利發明人研發創新成果的影響。. 25.

(37) 第三章. 研究方法. 第一節資料來源. 首先確定台灣IC產業場域的範圍，本研究使用聚富文化2006年《產業情報：電子業產業鏈名錄》所載公開發行以上公司(上市、上櫃、興櫃、公開發行)，共133家，但迄 2006年實際擁有專利的公司僅78家公司(見附錄1)。本研究資料來源是這78家台灣IC公司在美國專利及商標局(United States Patent and Trademark Office, USPTO)登記核准的專利資料，取得台灣IC產業組織自開始有專利的1988年到2006年在美國登記的專利資料 3. 政治大. ，以當中的專利的發明人(inventor)資料為基礎來作分析，以此探究本研究的研究問題。. 立. ‧ 國. 學. 專利資料中，專利發明人的登錄是有實質意義的。根據美國的專利法：「第一一五條，申請人的誓言，申請人應宣誓表明深信自己為某製程、機器、製造品或物品的組合，. ‧. 或其改良等請求取得專利的原始而最早的發明人4。…」其涵義是必須要對這個發明要. y. Nat. sit. 有貢獻，才能登記為這個專利的發明人，這樣的專利才是合法的專利。緊接在此條文之. n. al. er. io. 後，就是對於共同發明人的規定，「第一一六條，共同發明人，當發明由二人或更多人. i n U. v. 共同完成時，除本編另有規定外，應共同提出專利申請，並分別進行必要的宣誓5。…」. Ch. engchi. 專利發明若是多人完成，得以共同提出專利申請，同樣的，也必須對這個發明要有貢獻才得以宣誓為專利的共同發明人。. 為將發明人資料輸入網絡分析軟體 Ucinet，姓名不可以有空格，所以統一將姓與名 3. 4. 資料下載時間是 2007 年 8 月。原文是” 115. Oath of applicant. The applicant shall make oath that he believes himself to be the original and. first inventor of the process, machine, manufacture, or composition of matter, or improvement thereof, for which he solicits a patent.” 5. 原文是” 116. Inventors. When an invention is made by two or more persons jointly, they shall apply for. patent jointly and each make the required oath, except as otherwise provided in this title. “ 26.

(38) 之間的逗號空格以底線取代，名字之間的空格則以橫線取代，若有縮寫點則取消，例如將原始資料 Jang ,Syun Ming 改為 Jang_Syun-Ming 便於資料分析。. 另外，將發明人依字母順序排列，可以發現專利登記有姓名顛倒、大小寫不一致、名字之間有無加橫線、明顯的拼錯等問題，這些問題會造成將同一發明人被誤認為兩人甚至多人，而產生誤差，經逐一核對檢視並作更正，提高了發明人姓名的正確率6。. 立. 政治大. ‧. ‧ 國. 學. n. er. io. sit. y. Nat. al. 6. Ch. engchi. i n U. v. 發明人姓名的更正，更正前 1988-2006 年的發明人總數有 8810 筆，更正後有 8076 筆，共更正了 734 筆更正比率約為 8.3%。 27.

(39) 第二節研究變項說明. 資料的建構，在解析性的模型方面，分析的年份是 1998 年-2005 年。從 1998 年起逐年建構專利發明人網絡資料，發明人網絡是將所有專利發明人的合作關係建立成一個大型合作網絡資料，從這個大型網絡中，計算出發明人在合作網絡中的「明星地位」和「結構洞位置」。明星地位是由發明人在發明人合作網絡中的程度中心性指標來代表；而結構洞位置則從發明人在發明人合作網絡中的結構限制分數來代表，結構限制分數越高者，結構洞位置越低。將 1998-2005 年共 8 年各年獨立計算出當年發明人的中心性分. 政治大. 數與結構限制分數，來預測同一年的發明人專利平均被引用次數。將各年的資料放入模. 立. 型中，並以年份作為控制變項。. ‧ 國. 學. 如表 3-1 所示，1998-2005 年各年累計的發明人數有 12417 人，而年與年間有重複. ‧. 的發明人即發明人跨年發明情形，如表所示，重複發明人的數量並不算多，約六成在這. sit. y. Nat. 八年只有一年有專利，只有兩年有專利的發明人約佔兩成，加起來就佔全部發明人約八. n. al. er. io. 成。1998-2005 年扣除各年間重複的發明人，實際的發明人共有 6748 人。. Ch. engchi. 表 3-1 各年發明人數與發明人跨年發明情形年份. 總計. 發明人數. i n U. v. 發明跨年數發明人數百分比. 累積百分比. 1998. 691. 1. 4038. 59.8. 59.8. 1999. 991. 2. 1310. 19.4. 79.2. 2000. 1348. 3. 639. 9.5. 88.7. 2001. 1610. 4. 348. 5.2. 93.9. 2002. 1732. 5. 181. 2.7. 96.5. 2003. 1876. 6. 123. 1.8. 98.4. 2004. 2139. 7. 65. 1. 99.3. 2005. 2030. 8. 44. 0.7. 100. 6748. 100. 12417. 總計. 28.

(40) 為探討專利發明人研發創新成果的影響因素，分析的年份是 1998 年-2005 年。因為台灣的 IC 產業在 1998 年以前的專利數尚少，所以研究的年份從 1998 年起逐年分析，而由於專利資料下載時間是 2007 年，2006 年的專利許多還沒有被引用(2006 年被引用次數是 0 的佔 75.9%)，或是被引用數過少僅一、二筆，無法呈現變異，所以在模型中，就沒有放入 2006 年的樣本。. 由於 HLM(層級線性模型)分析的公司層級組數應至少有 30 組，且每家公司的發明在 30 人以上，統計推論才有效。但本研究關於公司層級變數的樣本數，有專利的 IC 公. 治政的公司均列為樣本，仍無法達到樣本數 30 的要求：1998 大年至 2005 年公司層級變數的立司並不多，且大多數有專利的公司，專利數亦很少，我們已將台灣 IC 產業中具有專利. 樣本，擁有超過 30 位發明人的公司只有 23 家。因此我們以迴歸模型來進行分析。. ‧ 國. 學 ‧. 依照本研究所探討的問題以及研究架構，將形成以下的分析變項：. sit. y. Nat. io. n. al. er. 一、依變項：發明人當年研發創新成果. (一). Ch. 各年的發明人的專利平均被引用次數. engchi. i n U. v. 專利被引用次數是專利價值評估的重要項目：專利被引用的次數多，足證其受到其他發明人的高度重視，因而比較有價值。Burt(2004)也認為點子(ideas)必須是由大眾願意去接納採用它，才讓它有價值。本研究的專利被引用次數是以專利資料下載時間 2007 年 8 月為基準，亦即各年的專利迄此查詢時間點的被引用總次數。. 本研究是以發明人為分析單位，計算各年發明人當年發明專利的被引用次數的平均數(如發明人 A 當年發明兩筆專利，一筆被引用 4 次，一筆被引用 2 次，當年發明人 A 平均專利被引用次數即為 3 次(4+2/2))，以平均被引用次數高低來作為此發明人專利研究成果影響力的高低。亦即本研究以發明人當年專利平均被引用次數高低來作為發明人 29.

(41) 的點子的價值評量，以此和發明人該年的網絡位置分數(中心性、結構洞)作關聯。. 由於至本研究的查詢時間(2007 年 8 月)，有許多發明人平均專利被引用次數為 07，此依變數資料受限的結果，破壞了線性(linearity)的基本假設，使用普通最小平方(OLS) 估計的結果是缺乏有效性的，因此採用 Tobit 迴歸模型來加以估計發明人當年平均專利被引用次數。Tobit 模型的使用，是當資料具有資料截斷(truncated data)性質，如本研究探討發明人平均專利被引用次數的影響因素，而資料同時包含專利完全沒有被引用的，與專利有被引用的，這兩類：沒有=0；有>0 連續，此時應採取 Tobit 迴歸模型，將資料. 政治大. 截斷情形列入考量，來分析自變項對此依變項的影響。. (二)發明人當年的專利發明數. 立. ‧ 國. 學. 發明人當年的專利發明數是衡量一個人研發創新能量的指標，個人參與發明的專利. ‧. 數越多，代表創新能力越強。一般來說，專利被引用次數屬於專利的「質」，代表了專. y. Nat. 利的影響力，而專利數屬於專利發明的「量」。專利被引用次數與專利數屬於專利的兩. al. er. io. sit. 個不同面向，所以也會有專利數很多，但專利被引用次數很少的情形。. n. v i n 由於依變項(發明人當年發明專利數)的分佈不是常態分配，且具有樣本分佈過於分 Ch engchi U 8. 散，平均值不約略等於變異數(  ≠  2 )等特點，為了避免最小平方法估計可能產生的偏誤情況，必須採用負二項分配模型(negative binomial regression )來進行發明專利數的估計。. 7. 在 2007 年 8 月期間的查詢結果，1998-2005 年發明人 12417 人次的樣本中，被引用數為 0，亦即專利. 完全沒有被引用的，佔了 25.1%(3115 人次)。 8. 發明人當年發明專利數(1998-2005 年)的分佈，大部份發明人的專利數並不多，專利數只有 1 筆的佔 67.3%(8361 人次)，專利數有 2 筆的佔 16.4%(2033 人次)，專利數有 3 筆的佔 6.3%(786 人次)，4 筆以上的只佔 10%。而當年最高的發明筆數可至 49 筆。可知其具有過份集中在數量少的專利發明，又過於分散的特點。 30.

(42) 二、自變項：. (一)發明人變項「專利發明人合作網絡」的連結為任何兩位發明人共同合作一筆專利，就算是「合作網絡關係」，以此來建立發明人網絡指標。. 1.發明人當年在專利合作網絡的地位訊號(程度中心性分數) 社會網絡中的聯繫組成了社會資本。一個人直接有關連的鄰近的社會聯繫較多，則. 政治大集中性指標；d(n )為節點的程度，即個體行動者的中心性測量值；g 是網絡成員數； z 立. 可動員的社會資源較多。程度中心性(degree centrality)CD(ni)為行動者層次(actor-level)的 i. ij. ‧ 國. 學. 為 i 和所有網絡成員、j 為 1 到 n 的關係數總和。程度中心性是一個人關係數量的總和。它往往是市場網絡的明星地位論指標。發明人 ni 在網絡矩陣中的中心度公式如下，即關. ‧. j 1. io. sit. j 1. al. n. g. y. Nat. g. CD(ni)= d(ni)=  zij =  z ji. er. 係數的加總。. Ch. engchi. i n U. v. 中心性指標的數值越高顯示該發明人在網絡中的重要性越高。 2. 發明人當年在專利合作網絡的結構洞位置(結構限制分數) 結構洞通常是以「限制」(constraint)分數作為測量指標(Burt 1992)。Burt(1997)以網絡中的限制分數來測量結構洞，用來代表個人在網絡中運用結構洞的能力。行動者 i 受到 j「限制」的公式為：.   cij   pij   piq pqj  q  . 2. 31.

(43) 在這個公式中，取遍所有的關係人 j 得到的總和就測量了行動者 i 在網絡中的發展機會受到的總限制性(Burt 1992)。網絡結構限制的分數高，代表結構洞的機會少；分數低，則代表結構洞的機會多。若行動者所處網絡位置的結構洞多，會增加行動的創新與競爭力。有三個指標被用來測量網絡的限制性：「大小」(網絡越大，限制性越小)、「密度」(相互連結的密度越高，限制性越大)、「層級化」(排他性越強的網絡以及僅有一個單一的連結，則限制性越大)。所以，結構洞以網絡指標─結構限制(structure constraint) 來測量，結構限制越低，結構洞特性越高。. 治政大 (constraint)分數作為結構洞的測量指標，以此得知整體網絡中每個點(發明人)的結構洞立在測量的操作上，本研究是以整體網模型(whole network model)計算的「限制」. 情況。使用網絡分析軟體 Ucinet，先將原始資料專利對發明人的 2 模(2-mode)轉換成以. ‧ 國. 學. 專利合作為基礎的發明人對發明人的 1 模(1-mode)資料檔，再將資料加以二值化. ‧. (Dichotomize)成為發明人之間有無合作的一模矩陣的二值資料，來計算每位發明人的限. io. sit. y. Nat. 制分數，以了解其在網絡中擁有的運用結構洞能力。. n. al. er. 3. 發明人當年專利發明經歷(公司)數. Ch. engchi. i n U. v. 為了解發明人跨公司的專利流動經驗對專利發明的影響，本研究將建立的專利資料庫合併歷年的發明人資料(欄位有時間、發明人、公司)，在台灣的IC產業共133家的範疇底下，藉著發明人研發的專利在各家公司所有權變動的情形，來計算發明人至當年為止共有多少家不同公司的專利，這代表其曾經參與過多少家公司的專利研發，此即是該發明人當年專利發明經歷(公司)數。由於發明經歷(公司)數過於偏態分佈9，故在本研究的迴歸模型中皆取自然對數(ln)，使更趨近於常態分配。. 9. 1998-2005 年累計共 12417 發明人中，發明經歷 1 家公司的有 11498 人(92.6%)，發明經歷 2 家公司的有 792 人(6.38%)，發明經歷 3 家公司的有 105 人(0.85%)，發明經歷 4 家公司的有 16 人(0.13%)，發明經歷 5 家公司的有 3 人(0.02%)，發明經歷 6 家公司的有 3 人(0.02%)。 32.