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四元InAlGaN之磊晶成長與光電元件之研製

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Academic year: 2021

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國立成功大學「邁向頂尖大學計畫」

延攬優秀人才工作報告表

NCKU’s “Aim for the Top University Project”

Work Report Form for Distinguished Scholars

□續聘continuation of employment √□離職resignation

100 年 7 月 13 日更新

受聘者姓名

Name of the Employee 朱駿 √男 女

Male Female

聘 期 Period of Employment

from 101 年(y) 8 月(m) 1 日(d) to 101 年(y) 8 月(m) 31 日(d) 研究或教學或科技研發與

管理計畫名稱 The project title of research,

teaching, technology development and management

四元 InAlGaN 之磊晶成

長與光電元件之研製

計畫主持人

(申請單位主管)

Project Investigator (Head of Department/Center)

張守進

補助延聘編號

Grant Number HUA101-22T-20-460

一、研究、教學、科技研發與管理工作全程經過概述。(由受聘人填寫)

Please summarize the entire research, teaching, or science and technology R&D and management work process (To be completed by the employee)

高亮度 GaN/InGaN 基的發光二極體(Light Emitting Diode, LED)因其具有低能耗,

長壽命,小體積等優點,已被廣泛應用於交通信號燈,液晶顯示器背光源,以及固態照 明等領域。雖然經過近些年來科研人員的不斷努力,LED 的發光強度被顯著提升。但是現 在市場上 LED 的價格仍然較高,特別是在固態照明領域,其高價格阻礙了其廣泛應用,

降低其價格的的一個有效方法就是進一步提升 LED 的亮度,即其發光效率。LED 的發光 效率由外量子效率(External quantum efficiency, EQE)決定,EQE 在數值上等於內部量 子 效 率 ( Internal quantum efficiency, IQE ) 與 光 萃 取 效 率 ( Light extraction efficiency, LEE)的乘積,所以要提高現在 LED 的發光效率,就要從提升 IQE 與 LEE 著手。對 GaN 基 LED 的 IQE 有影響的主要是外延晶片中高位錯密度( dislocation density, 可達 109- 1012cm-2)、量子阱中的強壓電場、以及 p 型 GaN 中的低空穴濃度等。由於大尺寸 GaN 晶體 的生長困難與價格昂貴,現在市售的 GaN 基 LED 都是用 MOCVD 的方法異質外延生長於 人造藍寶石(Sapphire)基底之上,藍寶石(Al2O3)與 GaN 間的晶格失配與熱膨脹係數 的不一致,造成生長的 GaN 中存在較大的位元錯密度與壓應力,這些缺陷不僅成為非輻 射複合中心,影響 IQE,而且成為漏電流的通道,影響 LED 的電性能。對 LEE 的影響因 素主要來自於 GaN 的折射率較大,為 2.5,與空氣介面的出射臨界角約為 23 度,如不考 慮從側面與背面的出射光,從 LED 表面只有大約 4%的發光能夠出射。

現在對 GaN 基 LED 的發光效率改善的方法,主要包括過對其藍寶石基片、u-GaN 或 n-GaN 層、表面層(包括表面透明電極 ITO 及 p-GaN)與側面進行處理,或者在磊晶時增

加一些應力釋放層等來實現。在藍寶石基片上形成不同形狀的圖案(Pattern),既可以降 低 GaN 層中的位元錯密度,又由於光反射面的增加,使光萃取效率也有一定程度的提 高,最終增加 EQE,這種改善 LED 光輸出效率的方法已被商業應用。對 u-GaN 或者 n- GaN 的 處 理 , 包 括 進 行 離 子 注 入 , 再 進 行 外 延 側 向 生 長 ( Epitaxial Laterally

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Overgrowth),對 n-GaN 進行化學腐蝕形成粗糙面後再生長,在 u-GaN 或者 n-GaN 形成 氧化矽或氮化矽圖案後再生長等方法進行。LED 光輸出效率的提高主要來自于再生長後缺 陷密度的下降,使 IQE 增加,同時光散射機率的也可能增加並導致 LEE 有一定程度的增 加,最終使 LED 的發光強度增大。這種方法最大的缺點是 MOCVD 生長過程被中斷,不 僅導致技術成本增加,而且成品率降低。前兩方法都可以同時提高 IQE 與 LEE,而對表面 及側面的處理一般只能對 LEE 有所改善。通過各種物理與化學的方法,對 LED 的表面及 側面進行粗化,可以增加光出射機率,提高 LED 的發光強度,這種方法遇到的主要問題 是可能造成 LED 電學性能的下降,特別是物理方法粗化表面時,對漏電等的影響尤為明 顯。總之,各種提高 LED 的發光效率,必須做到不影響 LED 的其它性能,工藝成本低,

才可能商業應用。

在表面粗化工藝中,一種較簡單的方法的是降低 p-GaN 的生長溫度,自然形成粗糙 的表面,提高 LEE,但這種方法的不利之處是降低了 LED 的漏電、抗靜電性能。受聘人的 工作是將這種低溫生長工藝,移植到 u-GaN 與 n-GaN 之間,這樣產生一層表面有凹坑

(Pit)結構中間層,使後面的 n-GaN 層的位元錯密度下降,增加 IQE。並且在低溫生長層 與後面的 n-GaN 間形成一定數量的空洞,這樣也可以在一定程度上提高光散射機率,增 加 LEE。這種生長工藝,具有不中斷 MOCVD 生長過程、工藝成本較低廉等優點,同時增 加了 IQE 與 LEE,最終使 LED 的發光強度增加。

具體 LED 的磊晶過程為:在正常 Sapphire 基底上,先在 550 °C 生長一層厚度為 30 nm 的成核層,接著在 1100 °C 生長厚度為 2 um 的 u-GaN 層,降溫至 820 或者 880 °C,生 長一層厚度為 500 nm 的低溫 n-GaN 層,再降溫到 800 或者 860 °C 生長一層 100 nm 厚的 u-GaN 緩衝層(緩衝層的生長溫度比低溫 n-GaN 層低 20 °C),接著按正常 LED 的生長 方法,進行 n-GaN 層,多層量子阱層(MQWs),電子阻擋層(EBL),p-GaN 層的生長。最後 進行 LED 的制程,並測試其光、電性能,並與正常製備的 LED 的光電性能進行比較,研 究在兩個不同溫度下製備的低溫 n-GaN 層對 LED 的光電性能的影響。該工藝是用低溫生 長的方法,代替電化學腐蝕的方法形成多孔狀 n-GaN 層,優點是不需要中斷 MOCVD 的 生長,磊晶一次完成,其它制程工藝與傳統 LED 完全一樣,工藝簡單,對製備成本的增 加有限。並可以同時增加 IQE 與 LEE,達到增加 LED 的亮度的目的。由於這種粗化的處理 是在 n-GaN 層之下,所以不會對 LED 的漏電、正向電壓以及抗靜電等電學性能產生明顯 影響,從而具備較好可實用性。

受聘期間,主要工作為調研該領域最近發展狀況,提出工作設想,熟悉儀器設備,

並進行磊晶工作。在一個月的工作中,已按上面的工作設想完成磊晶工作,但因時間原因 與設備原因,後續制程工作還未能進行,LED 的結構測試、光電性能的測試工作也還未能 進行。待這些工作完成後,進行相關論文撰寫或專利申請工作。

在受聘一人月的工作期間,還參與電機系張守進教授科研組、光電所賴偉志教授的 科研組的研究工作,利用受聘人以及在奈米材料、功能材料待領域的研究經驗,對研究 小組的研究工作提出一些有益的建議與協助。

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二、研究或教學或科技研發與管理成效評估(由計畫主持人或單位主管填寫

Please evaluate the performance of research, teaching or science and technology R&D and management Work: ( To be completed by Project Investigator or Head of Department/Center)

(1)是否達到延攬預期目標?

Has the expected goal of recruitment been achieved?

已達到延攬預期目標。

(2)研究或教學或科技研發與管理的方法、專業知識及進度如何?

What are the methods, professional knowledge, and progress of the research, teaching, or R&D and management work?

研究過程已進行了LED 的磊晶工作,后續制程工作正在進行。

(3)受延攬人之研究或教學或科技研發與管理成果對該計畫(或貴單位)助益如何?

How have the research, teaching, or R&D and management results of the employed person given benefit to the project (or your unit)?

受延攬人首先是在藍光LED 研究領域進行了一些嘗試性的研究工作,該工作已完成前期磊晶部 分;其次受延攬人利用其在奈米材料與功能材料領域的研究經驗,對我們的研究工作提供了一些有 益的建議與協助。

(4)受延攬人於補助期間對貴單位或國內相關學術科技領域助益如何?

How has the employed person, during his or her term of employment, benefited your unit or the relevant domestic academic field?

受延攬人於補助期間提出了一種工藝簡單可行的增強LED 發光效率的方法,具體實驗研究工作正 在進行中,由于受延攬人在奈米功能材料的制備、結構與特性研究方面有較為豐富的研究經驗,也 對我們在這方面的研究工作提供一些有益的協助與意見。

(5)具體工作績效或研究或教學或科技研發與管理成果:

Please describe the specific work performance, or the results of research, teaching, or R&D and management work:

由於延攬時間較短,僅為一個月,研究工作還在進行之中,具體工作績效待研究工作完成后,發表 論文或申請專利

(6)是否續聘受聘人? Will you continue hiring the employed person? □續聘Yes √□不續聘No

此報告表篇幅以三~四頁為原則。This report form should be limited to 3-4 pages in principle.

此表格可上延攬優秀人才成果報告繳交說明網頁下載。

This report form can be downloaded in http://scholar.lib.ncku.edu.tw/explain/

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參考文獻

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