C公司

壹、公司簡介 一、基本資料

C 公司為創新非揮發性記憶體解決方案領導廠商。是全球最大的唯讀記憶體 生產製造公司，並提供客戶跨越廣泛規格及密度的 NOR 型快閃記憶體產品，以 應用於消費、通訊、電腦、汽車電子等相關領域。公司於 1989 年創立於臺灣新 竹科學園區，自成立以來，即持續落實自有產品的競爭優勢，並不斷提昇生產製 造能力，以提供客戶高品質的產品與服務。因此，成功地與世界級大廠建立長期 而互惠的策略伙伴關係。該公司秉持高標準公司治理，致力維護投資人關係，並 積極遂行企業社會責任，也獲頒上市上櫃公司治理制度評量認證的肯定，更成為 園區第一家通過企業社會責任管理系統(SA 8000)驗證之半導體公司。

公司每年約投資營業額的 10-12%於研發工作，歷年發表的技術論文，持續 入選 IEDM 及 ISSCC 等多項國際學術會議。目前擁有超過四千項國際關鍵技術 及專利等智慧財產權，並與全球高科技業界領導廠商成立技術合作聯盟，共同進 行相變化記憶體先驅技術的研究；另外，公司也領先發表全球首篇 Flash 前瞻技 術之 BE-SONOS™論文，皆是為了提供次世代非揮發性記憶體的解決方案。

C 公司是全球少數能夠提供從 512Kbit 至 256Mbit 完整 Serial Flash 系列產 品的公司，並擁有極小尺寸的 Flash 產品，可充分滿足可攜式電子產品日趨輕薄 短小化的需求。在 ROM 唯讀記憶體部份，已開始量產 65 奈米 XtraROM® 產品。

也提供良裸晶粒(Known Good Die, KGD)產品，以供系統級封裝(System In Package, SIP)的需求。

C 公司目前擁有一座十二吋晶圓廠(晶圓五廠)、一座八吋晶圓廠(晶圓二廠) 及一座六吋晶圓廠(晶圓一廠)，晶圓五廠及晶圓二廠主要生產製造自有非揮發性 記憶體產品，晶圓一廠則以利基型邏輯產品的晶圓代工業務為主。此外，為落實 專注經營，並達到資產運用最佳化的營運效益，C 公司獨立邏輯產品部門，於

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2007 年正式成立四家子公司。結合子公司於建構行動通訊平台(Mobile Platform Solutions)的研發技術能力，旺宏進一步擴大了集團整合運作的效果。

展望未來，C 公司將繼續研發技術並加速落實自有產品的競爭優勢，持續開 發新產品、強化技術、品質和服務等，以繼續提昇公司的整體競爭力與獲利，為 永續經營及臺灣的世界競爭力而努力。

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貳、專利相關資訊 一、專利資訊

C 公 司 董 事 長 強 調 ， 「 專 利 可 視 為 企 業 創 新 研 發 的 一 個 重 要 衡 量 指 標，但 能 真 正 保 護 創 新 成 果 等 智 慧 財 產 權 則 在 於 專 利 的 品 質。近 年 來 每 年 約 投 資 營 業 額 的 10-12%於 研 發 工 作 ， 即 使 全 球 景 氣 低 迷 時 ， 對 於 專 利 智 權 之 維 護 投 資 也 未 曾 縮 減 」。 他 表 示 ，「 C 公 司 更 期 許 預 見 市 場 需 求 ， 著 眼 於 未 來 五 至 十 年 的 研 發 佈 局 ， 因 此 在 次 世 代 先 驅 記 憶 體 如 PCM(相 變 化 記 憶 體 )所 擁 有 的 專 利 數 目 ， 在 國 際 間 也 是 名 列 前 茅 」 。

總 經 理 表 示 ， 「 C 公 司 近 年 來 持 續 透 過 多 元 及 優 質 的 產 品 ， 展 現 關 鍵 技 術 專 利 的 運 用 性 及 高 度 價 值 ， 累 積 全 球 專 利 申 請 量 超 過 6700 件 ， 迄 今 已 取 得 逾 4300 項 專 利，近 年 來 幾 乎 每 天 即 取 得 一 項 專 利，其 中 65%

為 國 際 專 利 ， 從 2002 年 起 ， 更 連 續 八 年 排 名 美 國 專 利 核 准 前 三 百 大 之 列 」 。

二、專利分析

根據魯明德（2006）說明國內的學者通常將專利地圖分為專利的管理圖

（Management Map）以及專利的技術圖（Technology Map）兩種，而專利的管理 圖所提供的是企業經營上的情報，適合輔助本研究訪談之外的研究專利資訊工 具。

由於專利管理圖分析的資料主要來自於專利公報中的書目資料，希望能藉由 對書目資料的統計分析，瞭解公司的動向、產品的開發趨勢、市場狀況以及人才 的動向（李佳恬，2008）。因為美國是專利訴訟最多的一個國家，所以本研究以 臺灣以及美國為主，經由專利檢索中華民國專利資訊網(TWPAT)以及美國專利暨 商標資料庫(USPTO)後，利用專利分析軟體分別製作其專利分析地圖，檢索及分 析時間以近十年 2002 年 1 月 1 日至 2011 年 12 月 31 日為主，而以企業的專利件

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數以及國際專利分類號為主。

(一)專利分析圖—專利件數分析

專利件數分析是以專利案件數為基準來進行統計分析，以瞭解整個產業技術 領域中專利產出的數量，以及投入該領域之企業對技術的發展趨勢，預測未來技 術的發展。由歷年專利產出數量的比較，可以觀察企業在該產業中之技術領域發 展的趨勢，能充分地掌握技術發展的趨勢。在分析時，同時使用申請日以及公告 日的綜合分析，可以瞭解企業在該產業中的技術領域專利，從申請到獲准的平均 時間。由圖 4-12 C 公司臺灣歷年專利數量比較圖與圖 4-13 C 公司美國歷年專利 數量比較圖，可以發現 C 公司在美國申請數量逐年在放大，且自 2005 年開始所 核准之專利數列也逐年在上升；而在臺灣的部分也能維持在每年核准數量達 100 件以上的水準。

圖 4-12 C 公司臺灣歷年專利數量比較圖 資料來源：本研究整理

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圖 4-13 C 公司美國歷年專利數量比較圖 資料來源：本研究整理

(二)專利分析圖—國際專利分類號(International Patent Classification,IPC)分析 國際專利分類號主要是要觀察企業在該產業中的主要技術分類，除了能快速 地瞭解企業在該產業的相關技術外，更可以由 IPC 的技術分類來瞭解各競爭企業 間的研發技術方向。由圖 4-14 C 公司臺灣 IPC 重要專利技術歷年活動圖與圖 4-15 C 公司美國 IPC 重要專利技術歷年活動圖，我們可以發現 C 公司不論是在臺灣 或是美國，分類號 H01L021 的專利件數是該公司的最大量，H01L021 是適用於 製造或處理半導體，故適用於製造或處理半導體固體裝置或部件之方法設備體裝 置或部件之方法設備。

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圖 4-14 C 公司臺灣 IPC 重要專利技術歷年活動圖 資料來源：本研究整理

圖 4-15 C 公司美國 IPC 重要專利技術歷年活動圖 資料來源：本研究整理

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