【11】證書號數：I577560
【45】公告日： 中華民國 106 (2017) 年 04 月 11 日
【51】Int. Cl.： B32B5/16 C23C14/08 C23C14/35
(2006.01) (2006.01) (2006.01)
B22F3/14 C23C14/14
(2006.01) (2006.01)
發明 全 6 頁
【54】名 稱：奈米複合薄膜及其製造方法
NANO COMPOSITE FILM AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
【21】申請案號：104103419 【22】申請日： 中華民國 104 (2015) 年 02 月 02 日
【11】公開編號：201628848 【43】公開日期： 中華民國 105 (2016) 年 08 月 16 日
【72】發 明 人： 郭東昊 (TW) KUO, DONG HAU；徐唯庭 (TW) HSU, WEI TING；楊沂淵 (TW) YANG, YI YUAN
【71】申 請 人： 國立臺灣科技大學 NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
臺北市基隆路 4 段 43 號
【74】代 理 人： 葉璟宗；詹東穎；劉亞君
【56】參考文獻：
CN 1693377A CN 101693196A 審查人員：謝錦淇
[57]申請專利範圍
1. 一種奈米複合薄膜，藉由一濺鍍製程形成於一基板上，該奈米複合薄膜包括：多數個二 氧化鈦顆粒；以及多數個銀奈米顆粒，均勻分佈在該些二氧化鈦顆粒之間，其中該些銀 奈米顆粒的粒徑小於 10nm，該些銀奈米顆粒的含量為 1vol%至 5vol%。
2. 如申請專利範圍第 1 項所述的奈米複合薄膜，其中該些銀奈米顆粒的粒徑為 5nm 至 10nm。
3. 如申請專利範圍第 1 項所述的奈米複合薄膜，其中該奈米複合薄膜的厚度為 50nm 至 300nm。
4. 如申請專利範圍第 1 項所述的奈米複合薄膜，其中該奈米複合薄膜吸收紫外光並且使可 見光通過，且具有可見光催化能力。
5. 一種製造如申請專利範圍第 1 項至第 4 項中任一項所述的奈米複合薄膜的方法，包括：
提供一二氧化鈦溶液；將一銀離子溶液與該二氧化鈦溶液均勻混合，以形成一混合溶 液；於該混合溶液中加入一還原劑，使得該混合溶液中的銀離子進行一還原析出奈米銀 之反應；對該混合溶液進行一乾燥處理，以形成一奈米複合粉體；對該奈米複合粉體進 行一熱壓製程，以形成一靶材；以及 利用該靶材對一基板進行一濺鍍製程，以於該基板 上形成一奈米複合薄膜。
6. 如申請專利範圍第 5 項所述的奈米複合薄膜的製造方法，其中該還原劑包括硼氫化鈉 (NaBH4)、聯胺(hydrazine)或其組合。
7. 如申請專利範圍第 5 項所述的奈米複合薄膜的製造方法，在該混合溶液中加入該還原劑 的步驟中，更包括進行一冷卻處理，該冷卻處理的溫度為 0℃至 25℃。
8. 如申請專利範圍第 5 項所述的奈米複合薄膜的製造方法，在對該基板進行該濺鍍製程的 步驟中，其中該基板的溫度低於 100℃。
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9. 如申請專利範圍第 5 項所述的奈米複合薄膜的製造方法，在對該基板進行濺鍍製程的步 驟之後，未進行一退火處理，使得該奈米複合薄膜中的該些銀奈米顆粒不會聚集析出。
10. 如申請專利範圍第 5 項所述的奈米複合薄膜的製造方法，其中該濺鍍製程包括射頻磁控 濺鍍製程。
圖式簡單說明
圖 1 是依照本發明一實施例所繪示之奈米複合薄膜的剖面示意圖。
圖 2 是實驗例 2 之奈米複合薄膜的穿透式電子顯微鏡(TEM)照片。
圖 3 是實驗例 2 之奈米複合薄膜的 X 射線繞射(XRD)分析圖。
圖 4 是實驗例 2 之奈米複合薄膜的場發射掃瞄式電子顯微鏡(FE-SEM)照片。
圖 5 是繪示於可見光與紫外光照射下，比較例 1~2 與實驗例 1~3 之奈米複合薄膜的染料 裂解率對時間的曲線圖。
圖 6 是比較例 2 與實驗例 1~3 之奈米複合薄膜的紫外光-可見光穿透光譜。
圖 7 是比較例 2 與實驗例 1~3 之奈米複合薄膜的紫外光-可見 光吸收光譜。
圖 8 是繪示於黑暗環境下，比較例 2~5 與實驗例 1~3 之奈米複合薄膜的大腸桿菌生存率 的長條圖。
圖 9 是繪示於照可見光環境下，比較例 2~5 與實驗例 1~3 之奈米複合薄膜的大腸桿菌生 存率的長條圖。
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