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第三章、 實驗方法

3.4 晶體結構分析

3.4.1 高解析 X 光繞射儀器(High-resolution X-ray Diffraction,

3.4.1.1 基本原理

高解析 X 光繞射儀與一般 X 光繞射的基礎理論相同,都是以布 拉格定律(Bragg’s law)為基礎,然而,高解析 X 光繞射儀之試片基座 通常具備 x, y, z, , , 等六個自由度(如圖 3-11 所示),以探測不同方 向之晶面,為了更明確的描述其繞射訊號之晶面之空間關係,其繞射 原理可藉由圖 3-12 之示意圖來進行理解。

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圖 3-11 高解析 X 光繞射儀之試片基座自由度示意,X 為平行光源方 向,為光源與試片之入射角,z 為基座法向量,為基座法向量之旋

轉,Y 為與 X, Z 之垂直方向,χ 為沿著 X 軸之前後傾斜。

圖 3-12 X 光繞射原理示意圖,(a)繞射晶面平行於基座表面法向量,

(b)繞射晶面與基座表面存在偏移角。

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圖 3-12 中,

g

之方向為繞射晶面之法向量,大小為晶面間距(d) 之倒數d1,而

k

0與 k 分別平行於入射與繞射 X 光之方向,角度差為 2,

大小為 X 光波長之倒數1

為 k

0與基座之夾角,基座之法向量為 n 。 在一般傳統 XRD 量測時,大多是/2方式進行掃描(入射角=),此 時其空間關係如圖 3-12(a)所示,探測到之法向量與基座法向量為平 行的關係(

g // n

)。而在量測具有方向性的晶體時,由於其訊號不同於 一般粉末、多晶材料的隨機分佈,其繞射晶面常常僅存在於特定方向 上,若探測到晶面時之方向關係如圖 3-12(b)所示,此時可得知其繞 射晶面

g

與基座法向量 n 之偏移角為-。

在其他自由度方面,

為控制試片之前後傾斜,為試片基座本身

之旋轉,若兩者搭配,可進一步瞭解結構之空間關係,甚至進行極圖 之量測。而 x,y 分別可控制欲探測區域之水平與垂直位置,z 則為補 償不同試片高度差異之用途,以防止試片/探測區域並非於光源/接收 器焦點。

3.4.1.2 光學模組

有別於傳統 X 光繞射儀藉由金屬濾片降低額外的 K特徵輻射強 度,以及單純以狹縫控制光源發散與以及偵測器接收角,高解析 X

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光繞射儀的光學模組示意如圖 3-13 所示。

圖 3-13 高解析 X 光繞射儀常見之光學模組配置示意圖[Bruker]。

光源部份,高解析皆配備如圖 3-14(a)之光源聚焦器(Göbel mirror[3.7]或

Osmic® Max-Flux™

),藉由拋物面的光學反射多層膜,

可以將 X 光管之發散光轉為高強度的平行光,並藉由如圖 3-14(b)不 同波長存在不同的反射角差異,抑制 K X 光以外之背景訊號。

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圖 3-14 (a)X 光光源聚焦器示意圖[Bruker],(b)X 光聚焦器濾除背景雜 訊原理示意圖。

除了光源聚焦器外,藉由單晶單光器(monochromator)以布拉格繞 射的原理,可進一步將光源純化為 K1單色光,其光源單色性(λ)以 及單光器所造成的強度衰減,依單光器的配置有所不同,本研究使用 之單光器模組主要為 Bede D1 2nd ccc 模式以及 PANalytical Hybrid

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monochromator。

接收器部份,高解析 X 光繞射儀除了可改變單狹縫、雙狹縫 (anti-scatter slit)及平行版準直器(parallel plate collimator 或 soller)等配 置外,亦可藉改由掛載單光分析器(crystal analyzer),藉由布拉格繞射 原理,進一步提昇其空間解析度。以單晶基板為例,圖 3-15 皆為使 用λ=12arcsec 之單色光源所進行之分析,當偵測器使用狹縫模組時,

儘管完美基板於倒空間為均勻的點狀分佈,會因狹縫可接收到2範 圍信號,然而,高品質單晶僅於特定範圍符合符合繞射條件,故使 其繞射訊號於除了存在於原本-2路徑上,額外出現2之分佈。

此結果將導致發生偏斜時,仍收的到訊號,但是因掃描路徑偏移 Qx=0,而使發生Qz 的誤差。若偵測器掛載單光分析器,則可如圖

3-15(b)所示,抑制此種誤差的存在,故在磊晶的應力分析,以及倒空 間量測時,除了光源需使用單光器避免額外背景光訊號產生的繞射外,

亦須注意偵測器光學模組可能造成的判讀誤差。

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圖 3-15 高品質單晶基板使用(a)狹縫,(b)單光分析器之倒空間訊號分 佈圖。

本實驗所使用的機台包含 PANalytical X'Pert Pro (MRD)、Bede D1 HR-XRD,以及 D8 DISCOVER,於 X 光全反射分析時,採用光源聚 焦器+雙狹縫模組,低掠角全反射繞射實驗採用光源聚焦器+準值器模 組,結晶性與結晶品質分析時採用單光器+雙狹縫模組,試片曲度以 及倒空間量測採用光源單光器+單光分析器模組。

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3.4.2 穿透式電子顯微鏡(Transmission electron