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第四章 結果與討論

4.6 CH 2 OO 之反應動力學

由於吾人無法得知 CH2OO 在紅外光下確切之光吸收截面積,因 此 CH2OO 之濃度是由 4.5.1 節中之數據處理求得。由圖 4-3 及圖 4-4 可知以波長 248 nm 雷射光為光解光源實驗中,CH2OO 分子之生命期 (lifetime)約為 50 μs 左右,而在 355 nm 雷射光光解實驗中,CH2OO 分子之生命期增長至約 100-150 μs 左右。造成此差異結果的原因可能 是前驅物 CH2I2在 248 nm 的光吸收截面積約八倍於在 355 nm 的光吸 收截面積[29],且 248 nm及 355 nm 實驗中所使用的雷射光通量接近,

所以前驅物 CH2I2以波長為 248 nm 雷射光光解後產生的 CH2I 濃度大 於以波長為 355 nm 雷射光光解之濃度,因此 248 nm 雷射光光解實驗 中的 CH2OO 濃度會大於 355 nm 雷射光光解實驗的 CH2OO 濃度。若

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CH2OO 之衰減反應為雙分子反應(bimolecular reaction)則可以解釋高 濃度下之 CH2OO 生命期較短的現象。而 4.5.2 節,利用一級反應及同 類二級反應動力學模型線性迴歸分析結果顯示 CH2OO 之衰減反應為 二級反應。

由 4.4 節之討論可知反應後期甲醛為主要產物,因此吾人猜想 CH2OO 之衰減反應為 CH2OO + CH2OO 𝑘𝑘→ 2H1 2CO +O2。由 4.5.2 節,

同類二級反應動力學模型的線性迴歸分析結果之斜率可得到 CH2OO 衰減之反應速率常數 keff,結果列於表 4-4。然而此反應速率常數值 k 並非完全一致且介於1.89 × 10−10至3.07 × 10−10 cm3 molecule−1 s−1 之間,可能原因為未考慮其他的可能反應機構或為實驗及數據處理造 成之誤差。圖 4-20、圖 4-21、圖 4-22 及表 4-5 為林明璋老師實驗室 利用 B3LYP/aug-cc-PVTZ 及 CCSD(T)//B3LYP/aug-cc-PVTZ 預測 CH2OO 與各種可能物種(CH2I、I 及 CH2OO)反應位能圖(potential energy surface)及反應速率常數值 k。因此可猜測 CH2OO 衰減之可能 的反應機構如下:

CH2OO + CH2OO 𝑘𝑘→ 2H1 2CO +O2 (4-20) CH2OO + CH2OO 𝑘𝑘→ (CH2 2OO)2 (4-21)

CH2OO + I 𝑘𝑘→ CH3 2I + O2 (4-22)

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CH2OO + I 𝑘𝑘→ H4 2CO + IO (4-23) CH2OO + I 𝑘𝑘→ CH5 2IOO (4-24) 由圖4-20至圖4-22及表4-5,可知反應(4-20)CH2OO先形成雙體(dimer) 而後裂解為甲醛與氧氣的反應路徑之位能障礙(barrier)最少,且此反 應最終產物為甲醛與吾人觀察到的光譜結果一致;而表4-5中理論計 算(4-13)之反應速率值𝑘𝑘1最大,約為1.09 × 10−10 cm3 molecule−1 s−1, 因此造成CH2OO衰減之主要反應路徑應為反應(4-20)。反應(4-22) CH2OO與I生成CH2I + O2之反應路徑的後期反應位能障礙太高造成後 期反應不易進行,故其計算之反應速率值𝑘𝑘3較小約為2.56 × 10−12 cm3 molecule−1 s−1。而反應(4-23) CH2OO與I生成H2CO + IO之反應路徑,

雖然後期反應位能障礙少,但第一步反應需跨越一個0.6 kcal/mole之 位 能 障礙 才 可進行 後 續反 應 ,其計 算 之反 應 速率值𝑘𝑘4亦 僅約 為 7.41 × 10−13 cm3 molecule−1 s−1。 反 應 (4-22) 及 (4-24) 為 CH2OO 與 CH2OO及CH2OO及I之反應中間產物(CH2OO雙體及CH2IOO)被淬熄 穩定的反應,因此如表4-5所示,其反應速率與淬熄氣壓壓力有關。

反應(4-22)為CH2OO自身反應的中間產物CH2OO雙體被淬熄而定之 反應路徑;由位能圖可知,CH2OO形成雙體後裂解為甲醛與氧氣之位 能障礙不大,然而,因此CH2OO雙體不易被淬熄而穩定,而計算之反 應速率值𝑘𝑘2較小約介於7.2 × 10−17至3.2 × 10−14 cm3 molecule−1 s−1

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反應(4-24)為CH2OO反應的中間產物CH2IOO被淬熄而穩定之反應路 徑;由位能圖可知,CH2OO與I形成CH2IOO後裂解為CH2I與O2之位能 障礙極高,因此CH2IOO易被淬熄而穩定,而計算之反應速率值𝑘𝑘5較 大,約介於2.1 × 10−11至5.5 × 10−11 cm3 molecule−1 s−1

吾人利用動力學模擬軟體CHEMKIN-II[30]以反應(4-20)至(4-24) 模擬CH2OO濃度隨時間之變化,並將模擬結果與實驗所觀測之結果相 比較,如圖4-23及圖4-24。圖4-23及圖4-24中空心圓圈為CH2OO隨時 間衰減之曲線,紅色實線則為使用CHEMKIN模擬CH2OO濃度隨時間 變化之曲線,其中使用於模擬之反應速率常數值k列於表4-5。可發現 改變氧氣壓力的實驗組中,低壓(20及38 Torr)實驗之CH2OO衰減模擬 曲線較實驗結果慢,但其與實驗結果差異不大;而高壓(77及95 Torr) 實驗之模擬曲線與實驗結果相當一致。改變氮氣壓力的實驗組中,

CH2OO衰減模擬曲線較與實驗結果吻合。故使用反應(4-20)至(4-24) 可合理的描述CH2OO衰減之反應機構。

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