第四章 研究結果
4.2 聽譯時間差與錯誤類別
4.2.2 M2 未解而漏
未解而漏(M2)多分佈在稍長或較長的聽譯時間差區間：25%於 3~4 秒、
15.6%於 5~6 秒、21.9%於 6~7 秒，最長的出現區間為 11~12 秒。三十二個出現 次數中，二十次(62.5%)分佈在四秒以上的 EVS 區間。雖然比例與英譯中同步口 譯的 M2 不同(85.3%出現於四秒以上)，但分佈趨勢可謂類似，都是四秒以上佔 多數，且四秒以下仍有一定出現次數(Chen, 2012)。一方面，Chen (2012)於英譯 中研究中將 M2 的類別描述為「延誤與未解的漏譯」(Chen, 2012, p. 66)，自然 會紀錄到較多長 EVS 區間的份佈。
EVS 區間出現次數與母體沒有顯著差異，觀察值與期望值的差異出於巧合。因 And that results from the dependence of our...
on the raw materials. So, uh, South Korea's government is asking companies to develop new raw materials to overcome the difficulty.
(S9)
And this is because Taiwan depends on Japan for components. And that's why a lot of large companies are trying to develop new key components. (S6)
表 4.9 M2 出現次數於各 EVS 區間分佈情形 Observed N Expected N Residual
2~3 4 7.6 -3.6
9~10 1 .4 .6
11~12 1 .2 .8
Total 32
表 4.11 M2 的卡方值與 p 值 EVS Chi-Square 11.998a
df 8
Asymp. Sig. .151
4.2.3 M3 延誤而漏
相對於 M2，延誤而漏(M3)大致分佈於更長的聽譯時間差區間：3~4 秒、
6~7 秒、7~8 秒皆以七次出現並列最多。四十個 M3 意義單位當中，有 29 個對 應到四秒以上的 EVS，佔 72.5%。經單因數卡方檢定，得到卡方值為 23.063，
大於臨界卡方值(16.92)，p 值則為 0.006，小於 0.05，如表 4.14 與 4.15 所示，故 拒斥虛無假設，M3 於各 EVS 區間出現次數與母體有顯著差異，觀察值與期望 值的差異不為出於巧合。
表 4.12 M3 例句
原文與譯文 備註
M3 不過目前全球的五大DRAM 的這個供應商
之間的默契，我相信他們共同的希望就是應 該是市場已經飽和了，希望不要有新的競爭 者來加入殺戮市場。(U4-3)
在前段延遲或有大空白 的情況下發生的漏譯，
屬於M3(Barik, 1973, p.
201)。詳情請參閱第 5.1 But I think overall people agree that there are 節
already enough suppliers in terms of DRAM material. (S2)
For plasma television, the demand is increasing. (S7)
表 4.13 M3 出現次數於各 EVS 區間分佈情形
EVS 區間(秒) 1~2 2~3 3~4 4~5 5~6 6~7 7~8 8~9 9~10 10~11
母體次數 32 83 77 61 39 46 24 12 4 5
M3 數量 1
(2.5%) 3
(7.5%) 7
(17.5%) 4
(10%) 5
(12.5%) 7
(17.5%) 7
(17.5%) 3
(7.5%) 1
(2.5%) 2
(5%) 40 (100%)
表 4.14 M3 於各 EVS 區間的觀察、期望與殘值 Observed N Expected N Residual
1~2 1 3.3 -2.3
2~3 3 8.7 -5.7
3~4 7 8.0 -1.0
4~5 4 6.4 -2.4
5~6 5 4.1 .9
6~7 7 4.8 2.2
7~8 7 2.5 4.5
8~9 3 1.3 1.7
9~10 1 .4 .6
10~11 2 .5 1.5
Total 40
表 4.15 M3 的卡方值與 p 值 EVS Chi-Square 23.063a
df 9
Asymp. Sig. .006
4.2.4 M4 整理漏譯
整理漏譯(M4)所分佈的聽譯時間差區間有長有短，以 4~5 秒最多(11 次，
佔 34.4%)、2~3 秒次多(10 次，佔 31.1%)、5~6 秒第三(5 次，佔 15.6%)。經單因 數卡方檢定，得到卡方值為 7.608，小於於臨界卡方值(9.49)，p 值則為 0.107，
大於 0.05，如表 4.18 與 4.19 所示，故不拒斥虛無假設，M4 於各 EVS 區間出現
And of course, this comes from raw material and key component. We are highly dependent on these two things. So the South Korean government has asked those companies to develop raw material. They have asked these big companies to come together and to develop key component and raw material. (S8)
M4 那麼墊高新進入者的障礙、門檻，那麼保持
一種合作的默契。(U8-1)
So that it'll be harder for other suppliers to enter the market. (S2)
表 4.17 M4 出現次數於各 EVS 區間分佈情形 Observed N Expected N Residual
2~3 10 8.7 1.3
3~4 3 8.1 -5.1
Total 32
表 4.19 M4 的卡方值與 p 值 EVS Chi-Square 7.608a
df 4
Asymp. Sig. .107
4.2.5 A1 修飾增添
修飾增添(A1)於本研究中除了多餘的形容詞、副詞、子句補充語與屬格 名詞之外，在未嚴重扭曲的情形下，多餘的各格名詞亦包含在內。從上表可看 出，A1 的出現次數很少，392 個有效意義單位中僅出現四次，兩次(50%)對應 到 6 至 7 秒的區間，但短 EVS 區間(0~1 與 3~4)也都有出現。經單因數卡方檢 定，得到卡方值為 3.31，小於於臨界卡方值(5.99)，p 值則為 0.191，大於
0.05，如表 4.22 與 4.23 所示，故不拒斥虛無假設，A1 於各 EVS 區間出現次數 與母體沒有顯著差異，觀察值與期望值的差異出於巧合。因此，聽譯時間差與
A1 沒有關聯。
表 4.20 A1 例句
原文與譯文 備註
A1 首先,大家很關心的就是台灣跟韓國的 TFT
LCD 或著是 DRAM 這個競爭非常激烈。但 是，中間有沒有什麼合作的空間。(U1)
修飾增添
譯文出現了原文沒有的 修飾(奪格名詞、補充 語)。(Barik, 1973, p.202) First of all, people care a lot about the LCD or
DRAM development in Taiwan and South Korea. The competition has been very fierce.
But is there any room for cooperation for these two countries. (S13)
A1 另外一點呢，就是設備，設備。(U11) And another thing we need to talk about is equipment. (S14)
表 4.21 A1 出現次數於各 EVS 區間分佈情形
EVS 區間(秒) 0~1 1~2 2~3 3~4 4~5 5~6 6~7
母體次數 2 77 46
A1 數量 1 (25%)
1 (25%)
2 (50%)