從國外立法例探討我國之新式樣專利

亞 東 技 術 學 院

從國外立法例探討我國之新式樣專利

黃振榮

工商設計系

摘要

近年來我國有許多優秀的設計作品在國際競賽中紛紛獲獎，如 2003 年日本 G-Mark 設計獎有 11 件，2004 年德國 iF 獎-產品設計類 14 件，2005 年的 iF 獎不只有 28 件獲獎、華碩的筆記型電腦設計更是贏得金獎的榮譽， 迄今於國際知名設計獎項累計獲獎高達 182 件。但在設計蓬勃發展、優秀作品屢屢獲獎下，反觀我國以保護設 計為目的之新式樣專利申請量不只未見相對成長，反而呈現負成長之現象。這種情況反映的不是單純之產業的 外移，而是我國新式樣專利制度明顯存在著改善的空間。本文擬就相關申請量之呈現、參酌國外設計保護做法， 就新式樣專利制度提出改進之看法，以作為修法參考。 關鍵詞：設計保護、智慧財產權、專利、新式樣專利、設計專利

壹、前言

價格、機能與設計是決定商品力之三大要素，對許多產業而言，設計是可以為其製品價值加分，但外觀的 設計又極易為人所抄襲仿冒，如何有效進行設計保護已成為各國之共同目標，1883 年簽訂之保護工業財產權巴 黎公約及世界貿易組織(WTO)之與貿易有關之智慧財產權協定(TRIPS 協定) 都規定會員國須針對工業設計1_提 供保護。 當前各國之設計保護制度，不若發明專利制度之較趨於一致，因國情需要之不同，對設計取得保護是否須 進行審查，即有需審查、不需審查及審查與不審查並存等不同立法例(見表一)；而取得設計保護需要「註冊」雖 是普世的規定，但歐盟共同體之設計法卻有不同之規定，該法對未註冊的設計也提供保護，將設計保護分成註 冊設計(Registered Community Design, RCD)與非註冊設計(Unregistered Community Design, UCD)兩種，2002 年 3 月 6 日正式生效之非註冊設計保護制度，規定未註冊惟於歐盟共同體境內公開後，不需提交任何文件或費用， 即可擁有自公開日起算 3 年之專利保護期，此種制度適合市場生命週期較短之產品設計［1］。限於時間與篇幅 本文將僅就與我國相同均採審查註冊之美國、日本及韓國之規定做法為分析探討對象。

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「設計」在巴黎公約與 TRIPS 協定稱工業設計(Industrial Design)，在歐盟共同體、美國稱設計(design)、日本稱意匠、中國 稱外觀設計、我國稱新式樣。

表一 主要國家設計專利之審查註冊方式 台灣 審查、註冊 美國 審查、註冊 日本 審查、註冊 中國 無審查、註冊 德國 無審查、註冊 韓國 審查、註冊；無審查、註冊 歐盟共同體 非註冊；無審查、註冊 英國 非註冊；審查、註冊 ＊韓國無審查者只適用部分市場生命週期較短之物品類別

貳、我國設計保護之法律體系

由於設計既有專利法所保護之發明的特性，又具有著作權法所保護之著作的特性，各國對於設計之保護方 式不盡相同，巴黎公約與 TRIPS 協定對於會員國以何種方式保護亦無具體要求，各國對設計的保護有將之納入 專利法保護、有將之納入著作權法保護，亦有另外制定專法來保護。也因其性質特殊，設計常常可以透過不同 途徑取得保護，如在美國除可以直接申請設計專利(design patent)外，設計亦可經由著作權法、商標法及普通法(判 例法)之反不正當競爭法來獲得保護［2］。 在我國智慧財產權法體系(如表二)中，與設計保護有關者，有新式樣專利法、商標法、著作權法及公平交易 法，其中以新式樣專利法之保護為主，其他之智慧財產權法雖亦間接有涉及設計之保護，惟因各有不同之立法 目的，並無法取代新式樣專利法對設計直接與周延的保護。本文是以新式樣專利之規定為探討對象。 表二 我國智慧財產權法體系 發 明 新式樣 新 型 商 標 法 著 作 權 法 公 平 交 易 法 專 利 法 技術思想之創作 文學、科學、藝術或其他學術範圍 之創作 物品外觀形態之創作 商品、服務之表徵 積 體 電 路 電 路 布 局 保 護 法 營 業 秘 密 法 植 物 種 苗 法 積體電路與電路布局之設計 不公平競爭之防止 不公平競爭之防止 新品種之命名與權利登記 我國智慧 財產 權法體系

參、新式樣專利申請量之困境

近年來各國設計專利之申請量大多呈正成長趨勢(見表三)，我國整體之專利申請量雖亦呈正成長趨勢，但新 式樣專利卻是呈現負成長之現象，就新式樣專利申請量在當年度三種專利(包括發明與新型專利)合計申請的比率 而言，在 1986 年至 1995 年間都維持在 25%至 28%之間(即每 4 件專利申請案中就有一件是申請新式樣專利)， 惟自 1996 年起在發明與新型呈正成長、而新式樣卻呈負成長下，新式樣專利所佔之比率逐漸下降，至 2004 年 時已降至 12%左右，2005 年更是降至 10.9%左右。就新式樣專利之申請量而言，在 1992 年至 1997 年間都能維 持在萬件以上，惟自 1998 年下降至萬件以下後迄今未能回復至萬件以上，期間於 2003 年更是降至 8 千件以下 (見 表四)。另參照歷年本國人與外國人之設計專利申請量統計表(見表五)，本國人之申請量明顯自 1998 年起開始逐 漸下降，2005 年甚至降到 5 千件以下，與 1994 年相較呈現約－46.7%的負成長，反觀同時期之外國人申請量卻 是呈現約 131.4%的正成長。［3］ 由總申請量衰退趨勢及本國人與外國人申請量之變動中，可發現衰退之主要原因在本國人減少之數量遠大 於外國人增加之數量，而本國人減少之時機與我國相關製造產業大量外移有明顯之關係，咸認為產業大量外移 是申請量降低之主要因素，惟近年來我國大企業居於設計根留台灣大量投入設計，獲得國際設計大獎之數量， 令人刮目相看，何以設計產業之蓬勃成長未能帶動設計申請量的成長，與我國新式樣專利在設計保護的廣度與 深度明顯不足有關。 表三 主要國家設計專利申請案件數統計表2 2001 年 2002 年 2003 年 2004 年 2005 年 日本 39,423 37,230 39,267 40,756 39,254 美國 18,636 19,706 21,966 23,457 25,304 韓國 36,867 37,587 37,607 41,184 44,957 中國 60,647 79,260 94,054 110,849 163,371 歐盟 共同體 - - 10,473 (40,640) 14,031 (53,892) 16,797 (63,648) ＊歐盟共同體設計法註冊設計自 2003 年開始施行， 接受一案多設計之申請，上方為案數括弧內為設計件數 表四 1992 至 2005 年我國專利案之申請案件數統計表 總申請量 發 明 新 型 新式樣 1992年 38,554 10,566 17,954 10,044 1993年 41,185 11,170 19,345 11,630 1994年 42,412 12,499 19,143 10,818 1995年 43,461 13,936 18,436 11,089 1996年 47,055 15,959 19,975 11,121 1997年 53,164 20,046 21,800 11,318 1998年 54,003 21,978 22,235 9,790 1999年 51,921 22,161 21,481 8,279 2000年 61,231 28,451 23,728 9,052 2001年 67,860 33,392 25,370 9,098 2002年 61,402 31,616 21,750 8,036 2003年 65,742 35,823 21,935 7,984 2004年 72,082 41,919 21,518 8,645 2005年 79,442 47,841 23,226 8,375 ＊資料來源，歷年台灣智慧財產局編印之年報

表五 1994 至 2005 年本國人與外國人新式樣專利申請量 統計表 本國人 外國人 總申請量 1994年 9,354 1,464 10,818 1995年 9,384 1,705 11,089 1996年 9,557 1,564 11,121 1997年 9,354 1,964 11,318 1998年 7,907 1,883 9,790 1999年 6,556 1,723 8,279 2000年 6,879 2,173 9,052 2001年 6,820 2,278 9,098 2002年 5,596 2,440 8,036 2003年 5,383 2,601 7,984 2004年 5,464 3,181 8,645 2005年 4,987 3,388 8,375 ＊資料來源，歷年台灣智慧財產局編印之年報

肆、設計保護廣度之不足

設計保護廣度，包含可申請保護之標的範圍與取得專利後之權利範圍與內容，本文僅就可申請註冊保護標 的是否周延探討。 我國專利法第 109 條定義保護之設計為「對物品之形狀、花紋、色彩或其結合，透過視覺訴求之創作」。依 此定義，設計之物品必須為具有三度空間實體形狀的有體物，在性質上必須是具備特定用途、功能並具備固定 形態的動產，而得為消費者所獨立交易者。亦即諸如：房屋、橋樑等建築物；未固定凝合形狀之粉狀物、粒狀 物等之集合體；物品無法分割的部分及不具備三度空間特定形態者，均被認定不屬於可為設計保護之物品。在 此規定下排除了不可分割與獨立交易之部分 (protion)設計專利及非屬物理性固定有體物之 Icon 及 GUI(Graphic

User Interface)等實用性圖像設計專利之保護。［4］而對部分設計與 Icons 及 GUI 之圖像設計提供保護正是目前

國際設計保護之重要趨勢。 一、部分或局部(protion)設計 設計創作往往係藉助現有造形元素及構成在加上自己之局部新穎構思後，整合為一個新設計，若設計主要 之貢獻(創作特徵)是在一物品不可分割與獨立交易之部分，如圖一飲料瓶主要創作特徵在中段實線繪製部分，該 創作特徵在我國是無法單獨取得設計專利，若模仿者僅模仿該特徵部分，卻因未模仿設計之全體而為有整體物 品之專利權所不及。又如圖二左側取得專利之照相機，鏡頭為其主要之創作特徵，侵權者若僅仿冒鏡頭而未仿 冒照相機整體，是會被判斷不侵權的；反之若開放部分設計之保護，如圖三左側之鏡頭部分設計專利，只要第 三者仿冒了照相機鏡頭就會被視為侵權。［5］

圖二 圖三

1980 年美國有關部分設計專利之 IN RE ZAHN 案例判決之後，美國成為首開受理部分設計專利申請之國 家。其後日本與韓國分別在 1999 及 2001 年導入受理部分設計專利之申請，此外 2003 年開始施行的歐盟共同體 及澳洲等等國家或地區之設計法亦先後將之納入保護範圍。提供部分設計專利保護除能更有效周延設計保護 外，於侵權時亦能更明確判讀其專利範圍所在。日本導入部分設計專利之保護已有多年，由統計數字看來其利 用率逐年增加，至 2004 年已約佔設計專利總件數兩成以上(見表六)。 表六 日本部分設計專利申請件數與所佔比例3 全部設計專利 申請件數 部分設計專利 申請件數 部分設計專利 所佔比率 2000 年 38,496 5,783 15.0% 2001 年 39,423 7,796 19.8% 2002 年 37,230 6,900 18.5% 2003 年 39,267 7,554 19.2% 2004 年 40,756 9,249 22.7% 二、Icons 及 GUI 之圖像設計

Icons 是一種有識別功能之圖像，而這些圖像是圖形化使用者介面(Graphic User Interface,簡稱 GUI)的核心元 素。此種應用於電腦資訊之電子介面之 Icons 及 GUI 圖像設計，美國稱「電腦形成圖像」(Computer-Generated

Icons)，日本稱「畫面設計」(Image Design)，韓國稱「顯像設計」。係指物品以其本身之顯示功能，透過液晶、 發光二極體、電漿、螢光、電子發光等各種電子顯示方式，將其專屬之使用者介面(User Interface)或其圖(Icons)， 顯示於電子顯示幕上之圖像設計。［6］ 近年來隨著資訊技術之發展，在經濟、社會的資訊化背景下，從過去家電產品及資訊機器所用之操控按鈕 等物理性零件轉變至圖像之電子介面，這種圖像設計與機器成為一體發揮其用途及機能之物品持續普遍化。至 此，這種圖像設計對家電機器之品質及需要者之選擇成為極其重要之要素，目前產業界對圖像設計投資之重要 性也持續增加著［7］，圖像設計的保護需求也越來越強烈。 美國於 1996 年即開放圖像設計的專利保護，除與我國國情相似之韓國、日本外，歐盟共同體、澳洲等等等 國家或地區，亦已先後經修法或透過審查基準之修訂將 Icons 及 GUI 的圖像設計納入保護。

伍、設計保護深度之強化

設計保護深度，在指提出設計專利申請後取得專利之時效與取得專利後之設計保護期間(專利期間)之長短。 一、取得新式樣專利之時效 不論是發明或是新式樣專利，對申請人而言，均期待能早日確定是否能取得專利，但因申請量與審查人力 之不平衡，早日取得專利成為各國專利局都難以達成之事實。 產品之市場生命週期(下簡稱：週期)，因產品類別之不同而有長短之別，如機器、縫紉機類產品就屬於週期 較長之產品，相對於手機產品之一般週期大約 18 個月，而依智慧財產局之公告，我國新式樣專利之處理時限為

12 個月，據此，對如手機等週期較為短暫的產品或申請人有面臨被侵權之虞而需要早日取得專利之必要情形時， 我國設計保護制度並無法提供適時有效的保護，因此對時效上較為迫切之申請案，如何提供較迅速有效的審查 機制，成為改善我國新式樣專利制度重要課題。 與我國同樣採取審查制的美國、日本及韓國，面對申請人同樣之問題時，是透過另外規定之「優先審查 (Expedited Examination)」機制來解決。在美國適用於設計專利之優先審查制度，規定申請人只要另外繳納規費， 即可針對個案申請優先審查。日本之優先審查分兩種，一種是申請人居於有行使該設計申請案之權利主張的急 迫性，或申請人對於所申請之設計申請案已在國外專利局提出設計專利申請；另一種是因應市場仿冒品之優先 審查，規定若申請專利之設計，發現他人未經同意而實施或已相當程度準備實施該設計時，申請人可無須繳納 規費申請優先審查。前者在申請優先審查後 4 個月會發出第一次審查通知(First Action)，後者更縮短在一個月發 出第一次審查通知。韓國同日本一樣規定若干情況下，如第三人以營利為目的，未經申請權人同意而實施或已 相當程度準備實施該設計專利，申請人即可繳納規費申請優先審查。 日本 2004 及 2005 年申請優先審查之設計案件，分別平均只要 1.6 及 1.4 個月即可完成審查4_{。而韓國 2006} 年申請優先審查之案件數高達 1 千 4 百多件。顯見設計保護之實務運作下，「優先審查」制度有其需求與必要， 優先審查制度的運用除可適時解決設計申請案件面臨特殊狀況下之需求，亦可達到周延設計的保護。 二、設計保護期間之分析 TRIPS 協定規定會員國對設計的保護不得低於 10 年，但各國居於國內產業之需要是有不同之期間規定(見 表七)。 表七 主要國家之設計保護期間 台灣 自申請日起 12 年 美國 自註冊起 14 年 日本 自註冊起 20 年 中國 自申請日起 10 年 德國 自申請日起 25 年 韓國 自註冊起 15 年 歐盟共同體 自申請日起 5 年，可延長最長 25 年 英國 自申請日起 5 年，可延長最長 25 年 TRIPs 協定 保護期間至少 10 年 我國新式樣專利之專利期間，規定是自申請日起 12 年5_{，參酌智慧財產局之公告，新式樣專利處理時限為} 12 個月，一般來說保護期間都可達 10 年以上，已符合 TRIPS 協定至少 10 年之要求，惟與部分可達 20 年以上 者相較明顯較短。 設計保護之重要實益，在取得專利後，權利人對專利品有製造與販賣之控制權，因此當專利品已喪失市場 價值時，專利權人自不會繼續繳交專利年費以維持專利之有效。日本新修正之設計法，考量日本之設計專利與 發明專利相比較，至第 15 年設計專利之存活率高達 15.9%，遠高於發明之 3.9% (見表八)，經分析認為延長設計 專利之保護期間對其國內產業發展具有實益，爰修法將原來保護 15 年延長至 20 年。

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表八 日本發明、設計專利現存率對照表6 註 冊 起 之年數 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 發明 100 100 99.7 96.4 83.6 78.0 71.3 62.6 56.7 44.3 設計 100 99.4 96.1 88.9 70.5 65.8 56.5 47.0 42.4 36.8 註 冊 起 之年數 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 發明 28.7 18.4 10.7 5.9 3.9 1.5 0.5 0.1 0.1 0.1 設計 30.5 25.2 21.0 17.9 15.9 ＊現存率=生存件數÷註冊件數 我國在 1994 年將保護期間延長為 10 年，至今已屆滿 13 年，本文針對 1994 至 1995 年申請，於 1995 至 1997 年公告核准之案件(依當時我國審查進度推估申請後 1 年會審結)，經逐筆清查統計，至第 10 年仍維持專利有效 之新式樣專利總件數約 1830 件，與 1995 至 1997 年發證總件數 17136 件為比較，新式樣專利於第 10 年有效之 存活率大約 10.67%，與日本設計專利於第 10 年有效之存活率為 36.8%，第 15 年時仍達 15.9％之存活率相差甚 大。另就 1994 至 1996 年本國人與外國人之核准件數與存活率統計如表九，本國人至第 10 年仍維持新式樣專利 有效之存活率，僅達核准件數之 4.7%明顯低於外國人 24.9%之存活率(見表九)，顯見對我國相關產業而言，現 行 12 年之新式樣專利期間規定，已能符合實務之需求。 表九 本國人與外國人於第 10 年有效新式樣專利之比率 本國人 外國人 申請 年度 核准 年度 核准件 數 第 10 年仍有 效件數 現存率 核准件 數 第 10 年仍有 效件數 現存率 1994 1995 6,617 233 3.5% 1,607 360 22.4% 1995 1996 5,772 298 5.2% 1,480 400 27% 1996 1997 4,260 251 5.9% 1,145 288 23.2% 總數 16,649 775 4.7% 4,232 1055 24.9% ＊資料來源，歷年台灣智慧財產局編印之年報 ＊本表第 10 年有效件數係為本文需要自台灣智慧局專利資料檢索系統逐筆統計

陸、結論

國內設計服務業於 2005 年所創造之產值高達 503 億元、出口達 201 億元，行政院 2015 年經濟發展願景第 一階段三年衝刺計畫，針對 2009 年設計服務業於量目標更提高產值至 810 億元、出口 400 億元，於質目標冀求 運用創意設計提升產業競爭力並促進設計服務業發展［8］。在此狀況下，申請量的萎縮，不能以「產業外移」 一言蔽之，更應積極探討與改進新式樣專利之不足。 於新式樣專利法開放部分設計、圖像設計的保護及提供有迫切需求新式樣專利案件之優先審查，雖不見得 就能將每年之申請量拉回萬件之上。但藉由開放部分設計與圖像設計的保護，擴大新式樣的保護標的範圍，及 提供優先審查之機制，以利適時解決仿冒紛爭，除使我國之設計保護制度更符合國際趨勢外，更重要的是能提 供更符合國內產業需求及更周延有效保護設計創作之專利制度。

參考文獻

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