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無塵室系統(Clean Room Systems) 一、無塵室簡介

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第三章 高科技廠房建廠特性之研究

3.2 高科技廠房之機電工程廠務營建特性分析 .1電力供應系統(Power Supply Systems)

3.2.4 無塵室系統(Clean Room Systems) 一、無塵室簡介

卻以符合無塵室的需求,13.5℃冷水即是負責將回風冷卻之功能。

13.5℃冷水之來源有兩種,一為之皆由Chiller產生,另一方式為4.5

℃與13.5℃做熱交換而得。

九、36.5℃溫水(36.5℃ warm water):

36.5℃溫水之主要用途在於提供熱源以供給MAU,AHU 之空 氣加熱以及DI,City Water之加溫。經MAU/ AHU冷卻盤管之空氣 已經降至露點(Dew Point)以下,送至使用場所前需先將溫度調高 至約18℃,36.5℃溫水盤管即負責此一功能,此外,DI以及City Water 則是因為需要控制供應溫度而需以36.5℃溫水加溫。36.5℃

溫水之來源為Chiller 之熱回收,此設計不但可節能也可節省 Chiller 冷卻水之用量。

十、乾燥蒸氣(Dry Steam):

乾燥蒸氣之主要用途在於提供濕源以供給MAU/AHU 加濕之 用. 當冬季外氣過於乾燥時,送入無塵室或使用場所之空氣,需要 噴入乾燥蒸氣以增加空氣之溼度,防止工作場所過度乾燥造成人 體不舒服或靜電過高造成電子產品損壞。乾燥蒸氣之來源為,185

℃過熱水與DI Water 熱交換得到蒸氣,再經除濕而得。

3.2.4 無塵室系統(Clean Room Systems)

間就是無塵室(Clean Room),無塵室或潔淨室的形成,主要是利用 強迫循環空調系統,配合多層次的精密濾網,排除空氣中之微粒 或其它污染物,並將溫濕度控制在合適的範圍內。無塵室是半導 體工業、醫學、生化科技等不可或缺之重要設施。

根據美國聯邦標準209D 潔淨室規格,所謂Class10,000之無塵 室,係指1立方英呎之空氣中,超過0.5 micron之微粒不超過10000 顆,以此類推。由於高科技產業製品之線寬要求已經趨向於次微 米及奈米,某些先進製程之無塵室之已經以0.1 micron 當成微粒潔 淨室規格,以達到真正潔淨的要求.依據Air Flow Type分類,常見 之無塵室可分為:

(一)垂直層流型:Down (Vertical Flow) Type

潔淨之氣流由上方吹出,經下方空心樓板回風處理,循環使 用。潔淨度可達 1 或 10 級。氣流為層流行態,帶走 particles 之效 率佳。

(二)平層流型:Cross (Horizontal Flow) Type

潔淨之氣流由側邊吹出,經另一側回風處理,循環使用,潔 淨度可達 100 或 1000 級。氣流亦為層流,帶走 particles 之效率佳。

(三)紊流型:Conventional (Turbulent Flow) Type

潔淨之氣流由上方吹出, 經一側下方回風處理,循環使用,

潔淨度可達 1000 級以上,氣流為紊流行態,氣流易發生迴旋停滯,

故帶走 particles 之效率較差。

二、無塵室設施及功能

(一)空氣調節系統:Air Condition Systems

無塵室空氣調節系統的主要用途是提供無塵室空氣之補氣,

溫度控制,溼度控制,空氣強制循環,去除微粒等功能,以使無塵 室環境保持在設定的標準。無塵室空調系統主要的設施有外氣空 調箱,MAU (Make-up Air Unit)、垂直層流風機或風機過濾組、VLF or FFU (Vertical Laminar Flow Fan or Fan FilterUnit)、高效率過濾網 及超高效率過濾網、HEPA/ ULPA (High EfficiencyParticulate Air Filter, Ultra-Low Penetration Air Filter)、冷卻乾盤管、Dry Coil 等。

Clean room 內部有很多種潔淨等級,最基本的原則是較潔淨 區域之壓力必須比較不潔淨區域高,藉由 HEPA/ ULPA 或 FFU 的 數量即可調整不同區域之壓差。而無塵室內之環境必須儘可能維 持衡溫衡濕,以符合製程設備,工作人員及製程的要求,另一方 面,相對濕度太低會有靜電問題,一般而言溫度控制約 22.0± 1.0

℃,相對濕度約 45 ± 5%, 即可符合無塵室環境需求。在風速控制 方面,垂直層流式 Clean room (等級在 class1-100 以下),其氣流 為由上而下,通過 HEPA 之風速不可超過 0.5m/s,若風速過大,

則氣流容易產生亂流(turbulent)而導致空氣迴旋滯留現象無法順利 的將 particles 帶走,而 HEPA/ULPA 為半導體 class100 以上超潔 淨無塵室所用,在額定風量中,對粒徑 0.3 微米的粒子可收集 99.99%以上的粉塵,ULPA 可收集 99.9995%以上的粉塵, 其初期 壓力損失約在 25.4 mmAq 以下。

(二)無塵室內裝:Clean Room Decoration

Clean Room Decoration 無塵室內裝的主要用途是提供無塵室 環境為抗靜電、氣密性、高荷重、低公差、耐腐蝕、高隔熱、高

隔音、高防火性、易拆卸等特性的工作空間。主要的構成元件有 高 架 地 板 ( Raised Floor) 、 隔 間 牆 / 庫 板 (Clean RoomWall/

Partition)、格子天花板(Ceiling Grid)。對於高架地板之要求為負重 能力、導電度、開口面積率及尺寸公差(容許公差±0.2mm)。 對於 隔間庫板之要求為抗靜電、耐腐蝕性耐熱性、成型性、易拆卸、

防火等級高等。對於天花板之要求為負重能力、抗靜電及氣密性。

一般半導體無塵室內之建材皆為抗靜電,即加入導電材料,使靜 電 不 致 積 聚 。 例 如 高 架 地 板 之 導 電 度 一 般 皆 控 制 在 5000k~

500000K 歐姆之間。

(三)靜電消除器:Ionization

主要用途是在無塵室內產生正負離子,以中和滯留於人體、

製品、設備、元件的靜電。靜電會造成半導體電子元件破壞、吸 附粉塵及尖端放電而產生火花、造成可燃性氣體之爆炸等。無塵 室環境之 ESD 規範為 200V,為防止靜電破壞無塵室製品及保障 人員安全,裝置靜電消除器,消除無塵室靜電已成為必要規範。

(四)洗手台/ 空氣除塵浴/ 傳遞箱:Hand Washer/ Air Shower/ Pass Window

洗手台/ 空氣除塵浴兩種設備的主要用途是提供人員進入無 塵室的清潔設施。人員進入無塵室前要先洗手並烘乾,穿上無塵 衣戴上手套後經過空氣除塵浴吹淨身上之灰塵才能進入無塵室。

傳遞箱之功能在於傳遞無塵室內外或不同潔淨等級區域之物品,

以防止無塵室內之污染。傳遞箱分內外雙面門,裝有連鎖裝置,

不能同時開啟,可將物品傳遞所造成之污染控制在最小的範圍之 內。

(五)無塵室安全設施:Clean Room Safety Systems

由於無塵室是一座封閉的工作場所,內部又充滿了高危險性 的氣體,化學品以及高價值的設備及製品,無塵室的安全設施成了 保障工作人員及昂貴財產的必要設施。這些必要設施包括消防設 施如:偵煙器、 消防栓、自動灑水器、CO2 滅火器、緊急照明 燈、方向指示燈、出口標示燈、廣播喇叭、緊急排煙設施、緊急 逃生門等,以及緊急安全設施如:緊急沖身洗眼器、人員防護裝 備、洩漏偵測設施、影像監控設施等。

(六)無塵室品質監控系統: Clean Room Quality Monitor System 無塵室品質監控系統的目的在於監控無塵室之基本運轉狀 態,使無塵室之品質保持於規範之內。常見之品質監控系統有微 塵(Particle)、溼度(Humility)、溫度(Temperature)、靜電(ESD)、差 壓(Differential pressure)、露點((Dew point)等。這些監測點分布於 無塵室各處,以及時監控方式,使整體無塵室品質合於各分區之 規範。

(七)排氣與除害系統: Process Exhaust Systems and Calamity Exhaust 無塵室的排氣與除害系統的主要用途在於去除並處理無塵室 製程/ 活動所產生的有害氣體,或緊急時能將有害氣體立即排除。

主要之設施有酸性排氣及洗滌設施(Acid Exhaust & Scrubber)、鹼 性排氣及洗滌設施(CausticExhaust & Scrubber)、溶劑排氣及吸附燃 燒設施(Solvent Exhaust & Absorber,VOC)、一般熱排氣(General Exhaust)、矽烷排氣(Silane Exhaust)、毒性排氣(Toxic Exhaust)、緊 急排氣風車(Scram Fan)。酸性、鹼性排氣設施必須耐酸鹼,其風 管材料大都選用 PP、PVC 塑膠,因此必須加裝消防灑水設施,以

防排氣風管變成火災的延燒管道,新材料如 Teflon Coating,耐燃 FRP 則可免。此外,酸/ 鹼排氣的洗滌塔,則視不同特性之排氣,

以能中和之化學品溶液加以洗滌後,再排至大氣。溶劑排氣因為 是有害且易燃,排氣風管都用不銹鋼螺旋管做成,其末端必須以 活性碳吸附或濃縮燃燒方式處理以符合排放標準。一般熱排氣主 要是將設施所產生之熱空氣或無害髒空氣排出無塵室。矽烷排氣 與毒性排氣主要是針對這兩類危險性特殊氣體而設,Silane 為自 燃性,任何之 Silane 排氣務必先經過燃燒管將殘餘氣體反應完 後,再排至大氣。毒性排氣則視不同之氣體,必須先經過前處理 將毒性分解後,再排至大氣。緊急排氣風車之功能是為了防止某 些特殊區域,如 MLO Room 而設,通常這些區域會有較多有害物 質,當這些區域發生危害物質洩漏時,偵測器會啟動緊急排氣風 車,將此區之氣體抽出,以防擴散至無塵室其他區域。

(八)真空系統與真空除塵系統: Plant Vacuum and House Vacuum System

分成製程用真空系統與清潔用真空系統。製程用真空系統之 主要用途是,提供真空負壓給製程吸取晶片之用,通常是 600 ~ 650 mm Hg, 而且必須備有緩衝槽以使真空在停電時還有緩衝時間。清 潔用真空系統是以中央供應方式管路接至無塵室,提供無塵室內 無污染之清潔方式。

(九)廢水排放管路系統:Waste Drain Line System

廢水排放管路系統之主要用途是提供無塵室排放使用過之廢 液,為了使種類繁多的廢液能被分類處理或回收並且增加處理之 容易度, 防止化學反應以及回收可再利用部分,無塵室的廢液排

放管路系統通常被分類成 Waste Solvent、Waste Photo resist、

Recycle IPA、Industrial Waste Water(IWW)、Recycle Water、Waste HF、Waste Heavy Metal、Recycle H2SO4、H3PO4 等。WasteSolvent 與 Waste Photo resist 分開收集可防止管路組塞並委外處理,

RecycleIPA 則是可再回收。 IWW 則是收集無毒危害性小之廢 水,以供酸鹼中和後排放。Recycle Water 則是收集冷凝水,冷卻 水等可再利用之水以供 CoolingTower、Scrubber 補水或其他用 途,Waste HF 則需單獨收集後,以氯化鈣處理後,再將氟化鈣委外 掩埋。Waste Heavy Metal 也是單獨收集後經過處理後再將固型物 委外處理。Recycle H2SO4、H3PO4 等則是收集後外售或自行回收 再利用。

(十)製程設施電力供應系統:Manufacturing Equipment Power System 製程設施電力供應系統為”次變電站” 設施,主要功能為提供 無塵室所需之穩定、少雜訊的電力需求。無塵室的電力需求包含 480/208/120V 動力電、緊急電、UPS 等。動力電供應設備運轉、

無塵室照明使用、緊急電則視實際需求提供安全設施、緊急照明 使用、UPS 則是提供關鍵性機台持續運轉、控制系統、安全設施 等使用。

(十一)照明及噪音管制:Lighting and Noise control

無塵室照明要求皆在 600LX 以上(人員工作高度),燈具一律 採用電子式安定器,可快速啟動且不會閃爍。視各區域功能的不 同可分為黃光(曝光顯影)及白光(一般)兩種,為防止照明在斷電時 完全熄滅,無塵室之照明電源應有 25% 是由緊急電供應。通常無 塵室噪音要求皆在 65db 以下,噪音的來源主要是無塵室設備運轉

所產生,做好噪音狀況測試以及噪音隔離,以使無塵室工作場所 符合法規需求。

(十二)接地:Grounding

接地的目的為漏電時,防止人員發生感電事故,防止漏電產 生火花發生爆炸,以及防止漏電造成短路損壞設備。通常接地系 統包含避雷接地(10Ω以下)、電力系統接地(10~100Ω)、設備接地 (10~100Ω)、電訊系統接地及靜電消除接地等。

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